Systemy Ochrony Powietrza Ćwiczenia Laboratoryjne

Wielkość: px

Rozpocząć pokaz od strony:

Download "Systemy Ochrony Powietrza Ćwiczenia Laboratoryjne"

Bernard Rosiński
9 lat temu
Przeglądów:

1 ś POLITECHNIKA POZNAŃSKA INSTYTUT INŻYNIERII ŚRODOWISKA PROWADZĄCY: mgr nż. Łukasz Amanowcz Systemy Ochrony Powetrza Ćwczena Laboratoryjne 2 TEMAT ĆWICZENIA: Oznaczane lczbowego rozkładu lnowych projekcyjnych wymarów cząstek pyłu za pomocą mkroskopu optycznego. OSOBY WYKONUJĄCE ĆWICZENIE: GRUPA: GRUPA DZIEKAŃSKA DATA WYKONANIA OCENA v (zakładka Zasoby ) Sprawozdane zostane wypełnone oddane w trakce zajęć (należy uzupełnć ops stanowska pomarowego, wynk pomarów oblczeń, uwag wnosk).

cząstek pyłu za pomocą mkroskopu optycznego. OSOBY WYKONUJĄCE ĆWICZENIE: GRUPA: GRUPA DZIEKAŃSKA 1....... 2.......... DATA WYKONANIA 3....... 4.......... 5.

2 1. Cel ćwczena Celem ćwczena jest określene lczbowego rozkładu wymarów cząstek pyłu 2. Metoda oznaczena Lczbowy rozkład lnowych projekcyjnych wymarów cząstek pyłu zostane oznaczony według Polskej Normy PN-74/Z-04097, Arkusz 01: Oznaczane lczbowego rozkładu lnowych projekcyjnych wymarów cząstek pyłu 2 mm za pomocą mkroskopu optycznego bez użyca ceczy mmersyjnej, z pewnym odstępstwam opsanym w punkce 6 opracowana. Metoda polega na przygotowanu na płytce pomarowej preparatu pyłu, a następne zlczenu pod mkroskopem cząstek z poszczególnych przedzałów w określonych pasach pomarowych Zakres stosowana metody Metodę stosuje sę do klasyfkacj różnego rodzaju pyłów pod względem ch dyspersj, gdy najmnejszym oznaczanym przedzałem wymarowym cząstek pyłu jest przedzał 2 µm. Oznacza to, że merzenu podlegają cząstk o wymarze wynoszącym co najmnej 2 [µm], a mnejsze są tylko lczone (bez oznaczana ch wymarów) jako meszczące sę w podanym przedzale. 3. Defncje a) Pas pomarowy stanow sumę kolejno po sobe następujących pól wdzena na całej szerokośc płytk b) Pas podstawowy jest to perwszy pas pomarowy, w którym zlcza sę cząstk z wszystkch przedzałów c) Pas dodatkowy jeden z pozostałych 19 pasów pomarowych 4. Ops stanowska pomarowego 4.1. Aparatura przyrządy a) Mkroskop optyczny z ekranem wyposażonym w obrotową skalę, b) szkełko mkroskopowe do przygotowana preparatu z pyłem, c) preparat z nacętą lnjką mkrometryczną (1 [mm] podzelony na 100 częśc => 10 [µm/kr.]). 2

cząstek pyłu 2 mm za pomocą mkroskopu optycznego bez użyca ceczy mmersyjnej, z pewnym odstępstwam opsanym w punkce 6 opracowana.

3 5. Przebeg ćwczena 5.1. Przygotowane próbk do badań Na czyste szkełko laboratoryjne należy nasypać odrobnę pyłu, następne wysypać nadmar z powrotem do naczyna z pyłem. Obraz pyłu w polu wdzena mkroskopu ne pownen wykazywać zbyt dużego zagęszczena unemożlwającego lczene cząstek pyłu, jednocześne lość cząstek w jakmkolwek polu wdzena ne pownna być mnejsza nż Wykonane oznaczena a) wyznaczene skal podzałk mkroskopu: w tym celu należy umeścć pod mkroskopem preparat z lnjką mkrometryczną; aby lnjka znalazła sę w polu wdzena: nastawć powększene x5, nastawć ostrość na powerzchnę preparatu, przesunąć stolkem mkroskopu tak aby czarny okrąg obramowujący lnjkę znalazł sę w polu wdzena, skorygować ostrość tak aby była wdoczna lnjka; następne przesunąć stolk mkroskopu tak aby lnjka znalazła sę dokładne na środku pola wdzena, zmenć powększene na x10 ponowne nastawć ostrość na lnjkę; następne polczyć lość kresek podzałk mkroskopu meszczących sę na określonej długośc (1 kreska na lnjce odpowada odległośc 10 [µm]); wybrana odległość podzelona przez lczbę kresek podzałk mkroskopu określa podstawową podzałkę skal mkroskopu, wyrażoną w [µm/kreskę podzałk mkroskopu] (np. 40 kresek na 200 [µm] => 5 [µm/kr.]), b) przygotować próbkę pyłu zgodne z treścą punktu 5.1 c) szkełko pomarowe z przygotowaną próbką pyłu należy umeścć pod mkroskopem, powększene x10, d) w dowolne wybranym pase pomarowym oblczyć lczbę cząstek (N ) należącą do poszczególnych uprzedno założonych przedzałów wymarów z tym, że najmnejszy przedzał ne może być mnejszy nż 2 [µm]; pola wdzena nastawa sę kolejno poczynając od krawędz płytk, oberając cząstkę w górnym skraju pola przesuwając ją tak, aby cząstka ta znalazła sę w przyblżenu na dolnym skraju pola wdzena, e) w 19 dalszych dowolne wybranych pasach zwanych dodatkowym, przeprowadza sę oblczane cząstek tylko z tych przedzałów wymarów cząstek, w których lczby cząstek w pase podstawowym były mnejsze nż 240 (są to na ogół przedzały cząstek grubszych lczba cząstek jest w nch już newelka); jeśl lczba cząstek we wszystkch przedzałach wymarowych wynos w pase podstawowym 240, wtedy wystarczy poprzestać na pase podstawowym; po przeprowadzenu pomaru sumuje sę lczby cząstek z określonych przedzałów otrzymane we wszystkch pasach (podstawowym dodatkowych), następne dzel zsumowane lczby cząstek przez lczbę pasów otrzymując dla każdego przedzału wymarów cząstek średną lczbę cząstek na 1 pas (Nav ) Oblczene wynku oznaczena Lczbowe udzały (K ) cząstek pyłu z poszczególnych przedzałów ch lnowych projekcyjnych wymarów należy oblczyć wg wzoru: K = n = 1 Nav Nav 100[%] K lczbowy udzał -tego przedzału w próbce pyłu numer kolejnego przedzału Nav średna lczba cząstek z -tego przedzału na 1 pas pomarowy Dopuszczalna różnca pomędzy wynkam oznaczena Dopuszczalna różnca pomędzy wynkam dwóch oznaczeń (A B) jest określona nerównoścą: K 0,1 (K A + K B ) 3

Wykonane oznaczena a) wyznaczene skal podzałk mkroskopu: w tym celu należy umeścć pod mkroskopem preparat z lnjką mkrometryczną; aby lnjka znalazła sę w polu wdzena: nastawć powększene x5, nastawć

4 Wynk końcowy oznaczena Za wynk końcowy oznaczena należy przyjąć średną arytmetyczną wynków co najmnej dwóch oznaczeń zgodnych z treścą punktu Zestawene wynków pomarów oblczeń Określene podzałk mkroskopu Zmerzona odległość [µm] Ilość kresek [-] Podzałka [µm/kr.] Tabela Nr: Lczba cząstek w poszczególnych przedzałach Pas pomarowy Nr Pole wdzena Nr [kr.] [kr.] [kr.] [kr.] [kr.] > [µm] [µm] [µm] [µm] [µm] > Σ 4

oznaczeń zgodnych z treścą punktu 5.2.2 5.2.4.

5 Lczba cząstek w poszczególnych przedzałach [µm] [µm] [µm] [µm] [µm] > Suma [-] Ilość pasów [-] Nav Nav [-] K [%] 5.3. Wykresy Rozkład projekcyjnych wymarów cząstek (wykres słupkowy) 100 K [%] a [ µ m] 5

6 6. Odstępstwa od warunków określonych w norme PN-74/Z Aparatura przyrządy Według normy: a) lcznk cząstek, b) mkroskop optyczny z ekranem zaopatrzonym w obrotową skalę lub mkroskop z okularem zaopatrzonym w skalę. Najmnejsza dzałka skal pownna wynosć najwyżej 2 µm. Zamast ekranu lub okularu ze skalą można też stosować wzorzec porównawczy mający szereg okręgów o określonej średncy, c) naczyne szklane do przygotowana mkroskopowego preparatu pyłu na szklanej płytce pomarowej, d) suszarka laboratoryjna, 6.2. Odczynnk Alkohol zopropylowy (...) lub nne dobrane dla danego pyłu cecze ochronne lub dyspersyjne bez dodatków peptyzujących Przygotowane próbk do badań Według normy pownno wyglądać w następujący sposób: 5. Przygotowane próbk do badań. Przygotowaną (...) średną próbkę laboratoryjną należy suszyć w suszarce w temperaturze nższej nż 105 [ C], lecz wyższej od temperatury otoczena, przynajmnej przez 1 [h]. Następne wysuszoną próbkę należy ostudzć w eksykatorze, po czym wyjąć pozostawć w przykrytym, lecz mającym dostęp powetrza z otoczena naczynu (np. w zlewce przykrytej szkełkem zegarkowym lub bbułą do sączena) w pomeszczenu laboratoryjnym przynajmnej przez 24 [h] w celu osągnęca przez pył równowag termodynamcznej z powetrzem otoczna. Temperatura w pomeszczenu laboratoryjnym pownna być ne nższa nż 10 [ C] ne wyższa nż 35 [ C], a wlgotność powetrza ne wyższa nż 80 [%]. Pył należy suszyć w warstwe ne grubszej nż 50 [mm]. W przypadku zbyt dużej lośc pyłu należy go rozdzelć do odpowednch naczyń np. (zlewek), a w raze potrzeby prowadzć suszene kolejno lub w wększej lczbe suszarek. Istotnym jest, aby ostatna wysuszona część przebywała w otoczenu powetrza przez 24 [h]. Następne część średnej próbk laboratoryjnej umeścć w ceczy ochronnej lub dyspersyjnej nalanej do naczyna pomarowego (...) w tak sposób, aby pozom ceczy sęgał 2 [cm] nad pozom płytk pomarowej. Przed umeszczenem pyłu w ceczy należy cecz przedestylować (...). Ne należy stosować do ceczy żadnych dodatków krystalzujących po odparowanu (peptyzatorów). Jako cecz ochronna należy najperw zastosować alkohol zopropylowy, a jeżel obraz pyłu na płytce wykazuje zbyt duże zagęszczene utrudnające lub unemożlwające lczene pomar pojedynczych cząstek lub też, gdy stwerdza sę obecność koagulatów unemożlwających rozróżnane pojedynczych cząstek, wtedy operację należy powtórzyć stosując mnejsze wyjścowe stężena pyłu. Jeśl to ne da wynku, wtedy należy dobrać na podstawe wstępnych obserwacj mkroskopowych nną cecz ochronną lub dyspersyjną. Zamast kolejnych czasochłonnych powtórzeń można przygotować jednocześne klka lub klkanaśce zawesn o malejącym stężenu, w odpowednej lczbe naczyń. Stężene pyłu w ceczy ne może być mnejsze nż stężene, które daje w wynku lczbę cząstek mnejszą nż 10 w jakmkolwek polu wdzena pod mkroskopem. W próbach tych ścsła znajomość masy pyłu wsypywanej do naczyna, a węc równeż znajomość ścsłej wartośc stężena zawesny, ne jest potrzebna. 6

Najmnejsza dzałka skal pownna wynosć najwyżej 2 µm.

7 7. Uwag wnosk 7

Podobne dokumenty

STATYSTYCZNA ANALIZA WYNIKÓW POMIARÓW

STATYSTYCZNA ANALIZA WYNIKÓW POMIARÓW Zakład Metrolog Systemów Pomarowych P o l t e c h n k a P o z n ańska ul. Jana Pawła II 4 60-965 POZAŃ (budynek Centrum Mechatronk, Bomechank anonżyner) www.zmsp.mt.put.poznan.pl tel. +48 61 665 5 70 fax