Czynniki wpływjące n jkość powierzchni rwnych fr cermicznych utrwlnych techniką lserową n podłożu szklnym DR INŻ. DANUTA CHMIELEWSKA 1, MGR INŻ. ROMAN GEBEL 1, PROF. DR HAB. INŻ. ANDRZEJ OLSZYNA 1, MGR INŻ. BARBARA SYNOWIEC 1, DR HAB. INŻ. JAN MARCZAK 2, PROF. WAT, DR INŻ. ANTONI SARZYŃSKI 1, DR INŻ. MAREK STRZELEC 1 1. INSTYTUT CERAMIKI I MATERIAŁÓW BUDOWLANYCH 2. WOJSKOWA AKADEMIA TECHNICZNA INSTYTUT OPTOELEKTRONIKI WPROWADZENIE W osttnich kilkunstu ltch w przemyśle szklrskim i cermicznym nstąpiły znczące zminy w technologii zdoieni szkł i cermiki. Konwencjonlny proces dekorcji wyroów cermicznych i szklnych frmi cermicznymi jest czsochłonny i wysoce energochłonny, uzyskiwny efekt ekonomiczny w dużym stopniu zleży od wielkości relizownego nkłdu dekorcji. Technik druku cyfrowego zrewolucjonizowł zdonictwo płytek cermicznych i powierzchni płskich szkł. Stosowne w ou przypdkch trmenty cermiczne wymgją procesu wyplni w temperturze min. 800 C. W przypdku płskich powierzchni szklnych stosuje się również drukrki wykorzystujące trmenty orgniczne, które utwrdz się nstępnie promieniowniem UV. W kżdym przypdku zdoienie ogrnicz się do powierzchni płskich. W poszukiwniu metod oniżeni energochłonności i kosztów produkcji zwrócono uwgę n technikę lserową [1 4]. Znkownie lserowe cechuje wysok jkość, trwłość, powtrzlność i wysok dr inż. Dnut Chmielewsk Asolwentk Wydziłu Chemicznego Politechniki Wrszwskiej. Od 1976 r. prcownik Instytutu Szkł i Cermiki, współtwórc Zkłdu Środków Zdoniczych i wieloletni kierownik tego Zkłdu. Współtwórc technologii fr cermicznych do zdoieni wyroów cermicznych, szklrskich i emlierskich. W rmch Zkłdu zorgnizowł prcownię lserową i kierowł oprcowniem technologii lserowego zdoieni powierzchni cermicznych i szklnych. Aktulnie kierownik Zkłdu Relizcji Projektu Pol-Nor, zjmuje się oprcowniem technologii zgospodrowni różnego rodzju szkł odpdowego. e-mil: d.chmielewsk@icim.pl SŁOWA KLUCZOWE lserowe zdoienie szkł, zstosownie lser, technik lserow w technologii zdoieni szkł KEYWORDS lser glss decortion, nd, lser use, lser technology in glss decorting STRESZCZENIE Prc prezentuje wyniki dń prowdzonych w rmch projektu pt. Innowcyjn technologi rwnego, lserowego zdoieni szkł płskiego środkmi cermicznymi. Bdni prowdzono z użyciem dwóch lserów o dziłniu ciągłym: lser świtłowodowego SP-100 C o mocy do 100 W i długości fli orz lser świtłowodowego GLPM o mocy do 10 W i długości fli. Podłoże stnowiły tfle szklne szkł hrtownego. Mteriłem do dń yły fry cermiczne n zie topników ołowiowych i ezołowiowych. Wykzno wpływ prmetrów prcy lser (gęstość mocy, geometri ukłdu) n jkość powierzchni rwnej poprzez wyzncznie prmetrów chropowtości R i Rz orz zleżność tych prmetrów od skłdu chemicznego dnych fr. Bdno wpływ rodzju wypełnieni (kropkowe, krzyżowe, liniowe) n jkość powierzchni i intensywność rwy. W dnich wykzno zleżność gruości wrstwy dekorcji od dwki promieniowni lserowego, jk również zleżność prmetru chropowtości R od konfigurcji nświetlni lserowego (oddziływnie promieniowni ezpośrednio n wrstwę rwną i przez szkło). Przykłdy tk wykonnych dekorcji prezentują zmieszczone zdjęci. SUMMARY Fctors ffecting the qulity of cermic colour lyers, lser fused on glss sustrte This pper presents the results of reserch conducted within the frmework of the project titled Innovtive technology of colour, lser decortion of flt glss with cermic gents. The tests were performed with two permnent operting lsers: fire lser SP-100 C with the cpcity of 100 W nd the wvelength of nd the fire lser GLPM with the cpcity of 10 W nd the wvelength of. Hrdened glss pnes were used s sustrte. The mterils tested in the study were cermic colours sed on led nd led-free fluxes. The tests demonstrted tht the lser prmeters (power density, lyout of the test setup) influence the qulity of the coloured surfce. The method pplied for the test ws determining the roughness prmeters R nd Rz nd their dependence on the chemicl composition of the tested colours. The influence of the filling type (dots, cross-form, liner) on the surfce qulity nd colour intensity hs een exmined. The tests proved the dependence of the thickness of the decortive lyer on the lser irrdition dose, s well the dependence of the R roughness prmeter on the configurtion of the lser exposition (irrdition on the coloured lyer directly nd through glss). The pictures enclosed re exmples of decortions done with the use of the discussed methods. 18 Szkło i Cermik ISSN 0039-8144
rozdzielczość orzu. Dodtkowym tutem jest rk kontktu nrzędzi z powierzchnią, elstyczność procesu (progrmownie), czystość procesu wynikjąc z rku odpdów, tkże możliwość dekorowni powierzchni o dowolnym ksztłcie [5 7]. Njszerzej stosown jest ezpośredni lcj cienkiej powierzchniowej wrstwy mteriłu, często z użyciem dodtkowej wrstwy zwiększjącej kontrst otrzymywnych wzorów. Aktulnie w Polsce wykorzystuje się technikę lserową do ezrwnego zdoieni szkł, nie jest ntomist nigdzie w krju stosown technologi zdoieni szkł przez utrwlnie (wyplnie) lserowe nłożonych cermicznych środków rwnych. N rynku europejskim oferuje ją innowcyjn firm frncusk CERINNOV. Zespół Instytutu Cermiki i Mteriłów Budowlnych, wspólnie z Instytutem Optoelektroniki Wojskowej Akdemii Technicznej i Zkłdem Cermik Tuądzin II, w rmch Progrmu Bdń Stosownych zrelizowł projekt pt. Innowcyjn technologi rwnego, lserowego zdoieni szkł płskiego środkmi cermicznymi. Istotą prowdzonych dń yło ustlenie wrunków stpini wiązką lserową cermicznych środków rwnych z podłożem szklnym. Celem pulikcji jest prezentcj wyników dń, które są wskzówką dl zinteresownych wdrożeniem technologii lserowej do zdoieni powierzchni szklnych, jkie czynniki decydują o powodzeniu tkiego przedsięwzięci. Opis przedmiotu dń i zstosownych metod dwczych Przedmiotem dń ył wpływ czynników towrzyszących technice lserowej n jkość utrwlonej, cermicznej powierzchni rwnej, określnej prmetrmi chropowtości R i Rz. Oejmowły one: wpływ rodzju lser i skłdu chemicznego środków cermicznych poddwnych dziłniu promieniowni lserowego, wpływ dwki energii promieniowni lserowego, wpływ położeni płszczyzny zdoionego szkł i gęstości energii, wpływ rodzju wypełnieni, wpływ położeni płszczyzny zdoionego szkł i różnych odstępów linii (fill), wpływ konfigurcji nświetlni powierzchni rwnej (ezpośrednio n wrstwę rwną i przez szkło). Zstosowne źródł promieniowni lserowego i sposó przygotowni próek Bdni prowdzono przy udzile dwóch lserów: lser włóknowego SP-100C-0020 firmy SPI s UK Limited Angli o mocy do 100 W i długości fli, ze sknerem glwnometrycznym RCL-1004 Rylse-Niemcy i lser włóknowego GLMP 10 SPI, firmy IPG, USA o mocy do 10 W i długości fli, ze sknerem glwnometrycznym MS10 D1 Rylse, Niemcy Mteriłem zstosownym do dń ył grup 10 fr produkcji Instytutu Cermiki i Mteriłów Budowlnych w Wrszwie, w których te sme pigmenty znlzły się w identycznej ilości w topnikch ołowiowych i ezołowiowych. Miło to n celu ustlenie wpływu oecności ołowiu n jkość powierzchni rwnej fr cermicznych n zie topników ołowiowych i ezołowiowych. Wszystkie fry chrkteryzowł prmetr średnicy zstępczej D(v,0.9.)< 5µm, oznczny metodą dyfrkcji lserowej i prmetr procesu topliwości fr wyrżony temperturą półkuli Tplk< 830 C. Podłoże stnowiły tfle szklne ze szkł hrtownego i glnteri szkln (wzony). Próki fr yły zwiesiną wodną o stłej, ustlonej w wyniku dń 44% koncentrcji fzy stłej. Prmetr średnicy zstępczej D(v,0.9.)< 5µm zostł ustlony w wyniku dń sedymentcji zwiesiny frowej i zpewni elimincję zjwisk sedymentcji. Bdnie rozkłdu zirnowego fr cermicznych Anlizę rozkłdu zirnowego wykonywno metodą dyfrkcji lserowej, stosując nliztor wielkości cząstek Mstersizer Microplus f-my Mlvern. Oznczone wrtości średnic zstępczych D(v,0.1), D(v,0.5), D(v,0.9), określją wielkość wymiru cząstki, poniżej której występuje określony (10, 50, 90)% ojętości populcji dnej próki. Próki fr yły dne w 0,1% roztworze pirofosfornu sodowego, w wrunkch recyrkulcji. Bdnie przeiegu procesu topliwości fr cermicznych Pomir poszczególnych punktów procesu prowdzono metodą pstylkową, zgodnie z normą BN-81/7001-01 Cermik. Metody dń. Ozncznie topliwości. Do dń zstosowno piec z kmerą wizyjną PR-37/1300K. Określno nstępujące punkty: Tr tempertur punktu rogów, T tempertur punktu eczki, Tk tempertur punktu kuli, Tplk tempertur punktu półkuli, Troz tempertur punktu rozpływu. Bdnie prmetrów chropowtości Przyjęto, że chropowtość, przy rku pęknięć, jest decydującym prmetrem określjącym wpływ poszczególnych czynników n jkość otrzymywnych powierzchni frowych po nświetlniu promieniowniem lserowym. Ocenino tylko dw podstwowe prmetry chropowtości: R i Rz. przy pomocy profilometru (stożek dimentowy) TOPO 01Pv3D z ksztłtogrfem TOPO 01Kv3D Prmetr R definiujący średnie rytmetyczne odchylenie profilu chropowtości. Wrtość tego prmetru wyliczn jest z wrtości ezwzględnych odchyleń profilu y od linii średniej m w przedzile odcink elementrnego I (Rys. 1). Rys. 1. Grficzne przedstwienie prmetru R. Prmetr Rz określjący wysokość nierówności profilu powierzchni wg 10 punktów. Do oliczeni wykorzystuje średnią rytmetyczną wrtości ezwzględnych wysokości pięciu njwyższych wzniesień i głęokości pięciu njniższych wgłęień profilu w przedzile odcink elementrnego I (Rys. 1). Rys. 1. Grficzne przedstwienie prmetru Rz. Nr 5/2016 Szkło i Cermik 19
Bdnie przedziłów użytecznych zmin dwki energii lserowej Mterił do dń przygotowywno, nnosząc erogrficznie wodne zwiesiny fr o jednkowej koncentrcji fzy stłej n podłoże szklne. Dl kżdej dnej fry wyznczno prmetry prcy lser (P moc/v-prędkość sknowni [J/mm]), korzystjąc z szlonu utrwlnych jednkowych kwdrtów. Wyznczony stosunek P/v określł dwkę energii lserowej dostrcznej do wrstwy środk cermicznego utrwlnego n podłożu szklnym. Rys. 2. Wzór szlonu do testowni. Bdnie wrunków nnoszeni wrstw środków cermicznych n podłoż szklne Dl oprcowni sposou nnoszeni wrstw rwnych przygotowno wodną zwiesinę fry zielonej 62HZ3 o prmetrze zirnowym D(v,0.9)<5µm i wstępnej koncentrcji 30%, 40%, 50% stłej msy. W dniu wykorzystno kolejno technikę ntrysku pistoletem, nnoszenie wrstwy rwnej z zstosowniem sneczek i w fzie końcowej erogrf. Gruość nniesionej wrstwy frowej dno przy użyciu cyfrowego mikroskopu 3D Hirox KH 8700. Określno średnią gruość i zkres zmin wrstwy przed opercją nświetlni lserem. Po nświetleniu powierzchnię ocenino orgnoleptycznie. Njkorzystniejsze wyniki uzyskno przy nnoszeniu erogrfem zwiesiny o koncentrcji 44% fzy stłej. Stnowisko do erogrficznego nnoszeni fr przedstwi Rys. 3. 1 4 7 8 Rys. 3. Zestw służący do utomtyzcji procesu npylni fry n podłoże. 1 komputer sterujący z oprogrmowniem MACH3; 2 sterownik CNC; 3 npęd osi Y; 4 npęd osi X; 5 stół rooczy; 6 pomp perystltyczn; 7 instlcj pneumtyczn; 8 pltform do mocowni pistoletu. 2 5 6 3 Stnowisko do dń zudowno n zie ploter XY orz utomtycznego pistoletu lkierniczego SAGOLA 4200. OMÓWIENIE WYNIKÓW Wpływ rodzju lser i skłdu chemicznego środków cermicznych poddwnych dziłniu promieniowni lserowego Dl wyrnych 10 fr, stosując szlon do testowni, wyznczono optymlną dwkę energii, przy której jest dor przyczepność wrstwy frowej (wrstw nie dje się usunąć pod dziłniem sił zewnętrznych) i njwiększe w ocenie orgnoleptycznej wyłyszczenie powierzchni. Tel 1 podje wyniki średnich wrtości R i Rz dl tych powierzchni, uzyskne przy nświetlniu dwom rodzjmi lserów. T. 1. Średnie wyniki wrtości R i Rz dl powierzchni wyrnych 10 fr. Optymln dwk energii lserowej [J/mm]* Wrtość R [µm] Wrtość Rz [µm] Symol fry 62H-Cz1 0,15 0,25 0,0114 1,72 2,98 9,43 23,33 6FS-1500Cz >0,03 0,0114 2,11 2,84 14,64 15,67 62H-N13 0,02 0,07 0,0114 1,71 3,17 10,81 16,40 6FS-1664N >0,03 0,0114 1,88 2,14 9,88 12,61 7XV-R1-0,0114-2,36-13,27 6FS-1712R - 0,0114-2,63-15,39 62H-J20-0,0114-2,15-11,54 6FS-2413J - 0,0114-3,54-20,81 62H-Z3 0,025 0,0114 8,81 2,58 41,92 11,96 6FS-2844Z 0,05 0,0114 7,22 3,64 33,50 17,10 * Optymln dwk energii lserowej [J/mm] ze względu n przyczepność wrstwy frowej i prmetry chropowtości. Fry zznczone kolorem czerwonym zwierją w swoim skłdzie ołów. Prmetry R i Rz zostły wyznczone przy odstępie linii (fill) 0,05 mm. Uzyskne wyniki wskzują, że lser IPG o mocy do 10 W i długości fli oddziłuje n pełny zkres kolorystyczny, podczs gdy lser SPI o mocy 100 W i długości fli dził jedynie n wyrną kolorystykę. Fry czerwon i żółt sło sorują to promieniownie. Tkie dziłnie lser SPI dotyczy fr nniesionych n podłoże szklne. Stąd w przypdku zdoieni powierzchni szklnych techniką lserową celowe jest stosownie lser o długości fli. Prmetry chropowtości uzyskne dl poszczególnych powierzchni frowych nie wskzują n preferencje fr z udziłem ołowiu lu jego rku, ntomist o ich wrtości decyduje rodzj i ilość pigmentów zwrtych w frch. Wpływ dwki energii promieniowni lserowego n wrtości prmetrów R i Rz Wykresy n rys. 4 i 5 przedstwiją grficzne odwzorownie tendencji zmin wrtości prmetrów R i Rz w zleżności od dwki dostrczonej energii n przykłdzie fry 62-HCz1 nświetlnej przy różnych mocch prcy lser SPI. Rodzj nświetlni ył liniowy o odstępie między linimi (fill) 0,07 mm. Ocen orgnoleptyczn powierzchni dekorcji utrwlnej dl P/v poniżej przedziłu 0,01 0,05 J/mm (w zleżności od rodzju fry) wykzł znik minimlnego efektu utrwlni dekorcji. Jk wynik z wykresów, wrtość optymlnej dwki energii P/v zwier się w przedzile 0,1 0,27 J/mm. W zkresie wyższych P/v ponownie widoczny jest wzrost chropowtości, spowodowny zjwiskmi fizycznymi towrzyszącymi oddziływniu promieniowni lserowego ze stopionym mteriłem. 20 Szkło i Cermik ISSN 0039-8144
NAUKA Rys. 8. Bdnie wpływu położeni płszczyzny dekorcji i gęstości energii n prmetr Rz. Rys. 4. Zmin wrtości prmetru R w zleżności od dwki dostrczonej energii. nświetlno lserem SPI przy różnych gęstościch energii w trzech różnych położenich nświetlnej płszczyzny w stosunku do odległości płszczyzny oróki od płszczyzny ogniskowej. Otrzymne wyniki prmetrów R i Rz ilustrują wykresy n rys. 7 i 8. Dne n wykresie wskzują wyrźnie, że przy młych gęstościch energii wrz z odległością płszczyzny oróki od płszczyzny ogniskowej rosną wrtości prmetrów chropowtości. Ntomist przy gęstości P/v w zkresie 38 40 J/cm2 położenie płszczyzny oróki w stosunku do płszczyzny ogniskowej nie m wpływu n wrtość prmetrów R i Rz. Wpływ rodzju wypełnieni n wrtości prmetrów R i Rz Rys. 5. Zmin wrtości prmetru Rz w zleżności od dwki dostrczonej energii. Wpływ gęstości i rodzju wypełnieni n prmetry chropowtości ocenino mikroskopowo przy pomocy optycznego mikroskopu cyfrowego 3D model KH8700 firmy Hirox. Wpływ rodzju wypełnieni: kropkowy (), krzyżowy (), liniowy (c) przy nlogicznej dwce energii ilustrują mikrofotogrfie powierzchni próki utrwlonej lserem SPI fry 62H-N13. P/v 0,0625 0,0769 0,0909 0,1111 0,1429 0,2000 0,2857 0,4000 Rys. 6. Przykłd mikroskopowych zdjęć powierzchni dl podnych wrtości P/v. wypełnienie kropkowe R = 10,52 µm Rz = 87,33 µm c wypełnienie krzyżowe R = 2,93 µm Rz = 18,35 µm wypełnienie liniowe R = 6,33 µm Rz = 25,79 µm Rys. 9. Wpływ rodzju wypełnieni: kropkowy (), krzyżowy (), liniowy (c). Przyjmując wypełnienie krzyżowe jko njkorzystniejsze, porównno zleżność intensywności rwy powierzchni od gęstości i rodzju wypełnieni orzu n przykłdzie fry 62-HN13. Rys. 7. Bdnie wpływu położeni płszczyzny dekorcji i gęstości energii n prmetr R. Wpływ położeni płszczyzny zdoionego szkł i gęstości energii n wrtości prmetrów R i Rz Zleżność prmetrów chropowtości od gęstości energii przy różnych odległościch płszczyzny szkł od płszczyzny ogniskowej dno n przykłdzie fry 6FS-1500Cz. Powierzchnie frowe Rys. 10. Orzy mikroskopowe fry 62HN13 utrwlonej promieniowniem lser SPI przy tkiej smej dwce energii 0,02 J/mm: ) odległość między linimi sknowni 0,07 mm; ) 0,05 mm. Intensywność rwy powierzchni zleży od rodzju wypełnieni i odległości linii. Nr 5/2016 Szkło i Cermik 21
Rys. 11. Zleżność prmetru chropowtości R od położeni płszczyzny szkł przy różnych odstępch (fill). Rys. 12. Zleżność prmetru chropowtości R od dwki energii i konfigurcji nświetlni. Wpływ położeni płszczyzny zdoionego szkł i różnych odstępów linii (fill) n wrtość prmetru R Chrkter zmin chropowtości powierzchni testowych kwdrtów przy zminch geometrii wypełnieni i odległości płszczyzny próki od płszczyzny ogniskowej systemu przedstwi rys. 11. Wyniki wskzują, że njkorzystniejszy prmetr chropowtości uzyskuje się w przypdku ustwieni płszczyzny szkł pokrytego wrstwą fry cermicznej w płszczyźnie ogniskowej systemu i możliwie njmniejszych odstępch między linimi sknowni. Sensowny ekonomicznie wzrost odległości linii (szysze sknownie oszru) prowdzi do drstycznego wzrostu chropowtości powierzchni. Wpływ konfigurcji nświetlni powierzchni rwnej (ezpośrednio n wrstwę rwną i przez szkło) n prmetr chropowtości R W przypdku oddziływni promieniowni lserowego ezpośrednio n mterił rwny utrwlnie (stpinie) z podłożem nstępuje poprzez wrstwę fry cermicznej, więc proces uzleżniony jest od gruości tej wrstwy. Od gruości zleżą również dwki energii, optymlne ze względu n jkość dekorcji: głdkość określną prmetrmi chropowtości, orz ilość i wielkość defektów uytków w powłoce i pęknięć smej wrstwy i podłoż szklnego. Wyniki dni prmetru chropowtości R nświetlni wyrnej próki fry przez wrstwę szkł chrkteryzowły się niską wrtością przy młych dwkch energii, więc w wrunkch sprzyjjących minimlizcji pęknięć dekorcji. Przy gęstości energii w przedzile 35 55 J/mm 2 konfigurcj nie m większego wpływu n prmetr chropowtości R, ntomist oceny orgnoleptyczne próek nświetlnych tką dwką energii yły negtywne z uwgi n występujące pęknięci wrstwy rwnej. Nświetlnie przez wrstwę szkł zpewni niższe, optymlne wrtości dwki energii, w konsekwencji minimlizcję defektów (mikropęknięć, uytków w powierzchni), wysoką głdkość utrwlonej wrstwy. W porównniu do konfigurcji nświetlni od strony pokryci frą, zleżność prmetru chropowtości R od dwki energii ilustruje rys. 12. PODSUMOWANIE Njkorzystniejsze wyniki prmetrów chropowtości R i Rz uzyskno przy zstosowniu lser prcującego n długości fli. Jko cermiczne środki rwne mogą yć stosowne zrówno fry n zie topników ołowiowych, jk i ezołowiowych (tel 1). Anlizy wykzły znik minimlnego efektu utrwlni dekorcji dl P/v poniżej przedziłu 0,01 0,05 J/mm, w zleżności od rodzju fry (tel 1). Z uwgi n prmetry chropowtości nie opłc się stosowć dwek energii P/v większych niż wskzny przedził optymlny 0,1 0,23 J/mm. W zkresie wyższych P/v ponownie widoczny jest wzrost chropowtości, spowodowny zjwiskmi fizycznymi towrzyszącymi oddziływniu promieniowni lserowego ze stopionym mteriłem (rys. 4 i 5). Przy młych gęstościch energii wrz z odległością płszczyzny oróki od płszczyzny ogniskowej rosną wrtości prmetrów chropowtości (rys. 7 i 8). Intensywność rwy powierzchni zleży od rodzju wypełnieni i odległości linii (rys. 9 i 11). Nświetlnie przez wrstwę szkł zpewni niższe, optymlne wrtości dwki energii i w ich zkresie niskie wrtości prmetru chropowtości R (rys. 12). Rys. 13. Utrwlone przez szkło n szkle hrtownym techniką lserową dekorcje oprcowne przez Cermikę Tuądzin II Sp. z o.o. i dekorcje n szkle gospodrczym utrwlone ezpośrednim oddziływniem promieniowni lserowego n powierzchnię frową:. wrstw rwn nświetln ezpośrednio,. wrstw rwn nświetln przez szkło. Bdni wykonno w rmch projektu Progrmu Bdń Stosownych pt. Innowcyjn technologi rwnego, lserowego zdoieni szkł płskiego środkmi cermicznymi. LITERATURA [1] Wyres C. A., Jrvis A. N. D., Wlker M. R., mrkle compositions, Ptent rytyjski GB 2447659A [2] Khn N., Wlker R. M., imgele mrking compositions, Ptent WO200763339A3 [3] Knell T. A., mrking compositions nd methods for producing right oxidtion resistnt mrks, Ptent europejski EP 1110660A2 [4] Chmielewsk D., Mrczk J., Srzyński A., Strzelec M. (2011), owe nnoszenie znków rwnych n podłoż cermiczn, Inżynieri Mteriłow, nr 4, 368 371 [5] Fust W. D. (2008), Mrking Mterils, [w:] 64th Porcelin Enmel Institute Technicl Forum: Cermic Engineering nd Science Proceedings, 23 (5), Wiley, Ch. 5 [6] Florin T. (2005), Szkło pod dziłniem lser, Świt Szkł, 2, 68 69 [7] Fernndes-Prds J. M., Restrepo J. W., Gomez M. A., Serr P.,Morenz J. L. (2007), printing of enmels on tiles, Applied Surfce Science, 253, 7733 7737 22 Szkło i Cermik ISSN 0039-8144