PROGRAM KSZTAŁCENIA NA KIERUNKU STUDIÓW WYŻSZYCH ZMIENIONY PROGRAM OBOWIĄZUJE OD ROKU AKADEMICKIEGO 2017/ letni

Transkrypt

1 ROGRAM SZAŁCENIA NA IERUNU SUDIÓW WYŻSZYCH ZMIENIONY ROGRAM OBOWIĄZUJE OD ROU AADEMICIEGO 2017/ letni I. OGÓLNA CHARAERYSYA ROWADZONYCH SUDIÓW: 1. NAZWA WYDZIAŁU: Wydział Fizyki echnicznej i Matematyki Stosowanej II. 2. NAZWA IERUNU: Nanotechnologia 3. OZIOM SZAŁCENIA: II stopnia (studia pierwszego stopnia, studia drugiego stopnia) 4. ROFIL SZAŁCENIA: ogólnoakademicki (ogólnoakademicki, praktyczny) 5. RODZAJ UZYSIWANYCH WALIFIACJI: kwalifikacje drugiego stopnia (kwalifikacje pierwszego stopnia, kwalifikacje drugiego stopnia) 6. YUŁ ZAWODOWY UZYSIWANY RZEZ ABSOLWENA: mgr inż. ZESAWIENIE ROONOWANYCH ZMIAN W ROGRAMIE: orekta efektów kształcenia. Wprowadzenie 2 nowych specjalności: III. Nanostructures and computer simulations in material science Nanostruktury fotoniczne UZASADNIENIE WROWADZENIA ZMIAN: Specjalność "Nanostruktury i symulacje komputerowe w inżynierii materiałowej" (Nanostructures and computer simulations in material science), z programem kształcenia dostosowanym do wymogów współpracy międzynarodowej i realizowanym w całości w języku angielskim, została przygotowana w ramach Działania 3.3 Umiędzynarodowienie polskiego szkolnictwa wyższego, Oś III Szkolnictwo Wyższe dla gospodarki i rozwoju rogramu Operacyjnego Wiedza Edukacja Rozwój współfinansowanego ze środków Europejskiego Funduszu Społecznego (NCBiR umowa OWR M056/16-00). Specjalność "Nanostruktury fotoniczne" powstaje przy współpracy Wydziału FiMS z Instytutem Wysokich Ciśnień olskiej Akademii Nauk w Warszawie. IV. OIS ZAŁADANYCH EFEÓW SZAŁCENIA 1. OBSZAR/OBSZARY SZAŁCENIA, w których umiejscowiony jest kierunek studiów: (dla kierunku przyporządkowanego do więcej niż jednego obszaru kształcenia należy uwzględnić procentowy udział liczby punktów ECS dla każdego z obszarów w łącznej liczbie punktów ECS) 40.0% - Nauki techniczne 60.0% - Nauki ścisłe 2. DZIEDZINY NAUI I DYSCYLINY NAUOWE, DO ÓRYCH ODNOSZĄ SIĘ EFEY SZAŁCENIA: (ze wskazaniem procentowego udziału liczby punktów ECS, w jakim program studiów odnosi się do poszczególnych dziedzin nauki) 60.0 % - Dziedzina nauk fizycznych Fizyka 40.0 % - Dziedzina nauk technicznych Inżynieria materiałowa 3. CELE SZAŁCENIA: Data wydruku: :38:14 Strona 1 z 21

2 Wykształcenie absolwenta posiadającego szeroką, uporządkowaną i pogłębioną wiedzę w zakresie podstaw nanotechnologii i dyscyplin pokrewnych oraz ich zastosowań praktycznych. Absolwent jest przygotowany do kontynuowania nauki na studiach III stopnia (doktoranckich), do pracy na stanowiskach naukowych i inżynieryjno-technicznych w instytutach naukowych i laboratoriach naukowobadawczych, a także do pracy w przemyśle, w szczególności w firmach pośredniczących w transferze wiedzy z obszaru nauki do gospodarki. 4. SYLWEA ABSOLWENA: Absolwent po zakończeniu studiów będzie posiadać: - poszerzoną wiedzę ogólną z zakresu fizyki; - wiedzę ogólną z zakresu inżynierii materiałowej; - wiedzę podstawową z zakresu nanobiotechnologii i nanochemii; - pogłębioną wiedzę szczegółową z nanotechnologii i innych nauk w obszarach odpowiadającym profilom poszczególnych specjalności; - umiejętność analizowania procesów i zjawisk fizycznych najistotniejszych dla badanych problemów; - umiejętność projektowania urządzeń i stanowisk pomiarowych; - umiejętność popularyzacji osiągnięć nauki i techniki. 5. EFEY SZAŁCENIA: WIEDZA Odniesienie do Symbol charakterystyk Obszar kształcenia* Osoba posiadająca kwalifikacje drugiego stopnia: poziomów R 7_W01 osiada poszerzoną i uporządkowaną wiedzę w zakresie nauki o materiałach. 7_W81 Ma pogłębioną, podbudowaną teoretycznie, szczegółową wiedzę w zakresie wybranego działu nanotechnologii oraz, w stopniu adekwatnym do potrzeb, w zakresie pokrewnych dziedzin nauki lub techniki. Ma ogólną wiedzę o aktualnych kierunkach rozwoju i najnowszych odkryciach w zakresie fizyki, chemii, technologii i zastosowań nanostruktur. osiada pogłębioną praktyczną i teoretyczną znajomość fizycznych i chemicznych metod eksperymentalnych nanotechnologii. osiada pogłębioną znajomość metod matematycznych, numerycznych i symulacyjnych, klasycznych i kwantowych, stosowanych przy modelowaniu nanostruktur. osiada poszerzoną wiedzę dotyczącą metodyki pracy w laboratorium fizycznym, popartą doświadczeniem w pracy laboratoryjnej. Zna zasady bezpieczeństwa i higieny pracy w stopniu pozwalającym na samodzielną pracę na stanowisku badawczym lub pomiarowym. osiada poszerzoną wiedzę dotyczącą potencjalnych negatywnych skutków biologicznych i ekologicznych związanych ze stosowaniem nanostruktur i odnośnych zasad bezpieczeństwa. osiada poszerzoną znajomość terminologii angielskiej z zakresu fizyki i matematyki, a także chemii, informatyki, techniki. ma wiedzę ogólną w zakresie nauk humanistycznych lub społecznych lub ekonomicznych lub prawnych obejmującą ich podstawy i zastosowania posiada znajomość rozbudowanych struktur gramatycznych oraz różnorodnych obszarów leksykalnych niezbędnych do porozumiewania się w języku obcym w zakresie języka ogólnego oraz specjalistycznego związanego z kierunkiem studiów (inż.) (inż.) 7S_W (inż.) 7S_W 7U_W 7U_W Data wydruku: :38:14 Strona 2 z 21

3 Symbol WIEDZA Osoba posiadająca kwalifikacje drugiego stopnia: Odniesienie do charakterystyk poziomów R Obszar kształcenia* *symbole obszarów kształcenia: A obszar kształcenia w zakresie sztuki; H obszar kształcenia w zakresie nauk humanistycznych; M obszar kształcenia w zakresie nauk medycznych, nauk o zdrowiu oraz nauk o kulturze fizycznej; - obszar kształcenia w zakresie nauk przyrodniczych; S obszar kształcenia w zakresie nauk społecznych; R obszar kształcenia w zakresie nauk rolniczych, leśnych i weterynaryjnych; - obszar kształcenia w zakresie nauk technicznych; - obszar kształcenia w zakresie nauk ścisłych Symbol UMIEJĘNOŚCI Osoba posiadająca kwalifikacje drugiego stopnia: 7_U01 otrafi uczyć się samodzielnie, pozyskiwać i integrować informacje z literatury, baz danych oraz innych właściwie dobranych źródeł (w językach polskim i angielskim). osiada umiejętność krytycznej analizy i selekcji informacji. 7_U02 osiada pogłębione umiejętności w zakresie pracy laboratoryjnej. 7_U71 7_U81 osiada pogłębioną umiejętność posługiwania się zawansowanymi pakietami oprogramowania specjalistycznego. otrafi planować i przeprowadzać badania eksperymentalne i krytycznie analizować ich wyniki, wyciągać wnioski i formułować umotywowane opinie w ramach specjalności. otrafi planować i przeprowadzać obliczenia teoretyczne, numeryczne i symulacje zjawisk i procesów, krytycznie analizować ich wyniki, wyciągać wnioski i formułować umotywowane opinie w ramach specjalności. otrafi zastosować zdobytą wiedzę specjalistyczną do zagadnień z obszaru innych nauk ścisłych, nauk przyrodniczych lub technicznych. osiada pogłębioną umiejętność przygotowania wystąpienia ustnego w językach polskim i angielskim, w tym również przedstawiającego wyniki własnych badań naukowych,napisania różnych prac. potrafi zastosować wiedzę z zakresu nauk humanistycznych lub społecznych lub ekonomicznych lub prawnych do rozwiązywania problemów posiada umiejętności płynnej komunikacji w sytuacjach życia codziennego oraz w środowisku akademickim i zawodowym Odniesienie do charakterystyk poziomów R (inż.) (inż.) (inż.) 7S_UO (inż.) 7S_U 7S_U 7S_UU 7U_U 7U_U 7S_U Obszar kształcenia* *symbole obszarów kształcenia: A obszar kształcenia w zakresie sztuki; H obszar kształcenia w zakresie nauk humanistycznych; M obszar kształcenia w zakresie nauk medycznych, nauk o zdrowiu oraz nauk o kulturze fizycznej; - obszar kształcenia w zakresie nauk przyrodniczych; S obszar kształcenia w zakresie nauk społecznych; R obszar kształcenia w zakresie nauk rolniczych, leśnych i weterynaryjnych; - obszar kształcenia w zakresie nauk technicznych; - obszar kształcenia w zakresie nauk ścisłych Symbol OMEENCJE SOŁECZNE Osoba posiadająca kwalifikacje drugiego stopnia: 7_03 otrafi współdziałać i pracować w grupie, przyjmując w niej różne role. otrafi dokonywać samooceny oraz konstruktywnej oceny efektów pracy innych osób. 7_04 otrafi pracować systematycznie nad projektami o charakterze długofalowym. 7_71 Ma świadomość ważności i rozumie pozatechniczne aspekty i skutki działalności inżynierskiej, w tym jej wpływu na środowisko, i związanej z tym odpowiedzialności za podejmowane decyzje. potrafi wyjaśnić potrzebę korzystania z wiedzy z zakresu nauk humanistycznych lub społecznych lub ekonomicznych lub prawnych w funkcjonowaniu w środowisku społecznym Odniesienie do charakterystyk poziomów R 7S_R 7S_O 7S_ 7U_ Obszar kształcenia* Data wydruku: :38:14 Strona 3 z 21

4 Symbol 7_81 OMEENCJE SOŁECZNE Osoba posiadająca kwalifikacje drugiego stopnia: potrafi podjąć współpracę w zespole międzynarodowym na terenie własnej uczelni oraz podczas praktyk i studiów zagranicznych Odniesienie do charakterystyk poziomów R 7U_ Obszar kształcenia* *symbole obszarów kształcenia: A obszar kształcenia w zakresie sztuki; H obszar kształcenia w zakresie nauk humanistycznych; M obszar kształcenia w zakresie nauk medycznych, nauk o zdrowiu oraz nauk o kulturze fizycznej; - obszar kształcenia w zakresie nauk przyrodniczych; S obszar kształcenia w zakresie nauk społecznych; R obszar kształcenia w zakresie nauk rolniczych, leśnych i weterynaryjnych; - obszar kształcenia w zakresie nauk technicznych; - obszar kształcenia w zakresie nauk ścisłych 6. WNIOSI Z ANALIZY ZGODNOŚCI ZAŁADANYCH EFEÓW SZAŁCENIA Z ORZEBAMI RYNU RACY ORAZ WNIOSI Z ANALIZY WYNIÓW MONIORINGU ARIER ZAWODOWYCH ABSOLWENÓW: NANOECHNOLOGIA jest dyscypliną technologii oraz nauki, która zajmuje się wszystkim w skali nano, czyli na poziomie pojedynczych atomów i molekuł. Istotą nanotechnologii jest sterowane tworzenie i stosowanie materiałów i struktur, urządzeń i systemów o nanometrowych wymiarach. Wszystko wskazuje na to, że nanotechnologia z dużym powodzeniem będzie wykorzystywana w wielu dziedzinach - m.in. w elektronice (gdzie molekularne układy elektroniczne będą podstawowym budulcem przyszłych komputerów), elektrotechnice, technologiach materiałowych (wytwarzanie i projektowanie nowych materiałów o niezwykłych właściwościach jak np. materiałów bardzo lekkich o dużej wytrzymałości mechanicznej, niełuszczącej się farby, niebrudzących się tkanin, szyb itp.), medycynie (np. nano- i mikroczujniki, przenośne laboratoria do natychmiastowych analiz, aparaty wszczepiane do organizmu i monitorujące stan zdrowia). Nanomateriały, nanostruktury z pewnością będą wykorzystywane w farmaceutyce do precyzyjnego dostarczania leków, do niszczenia pojedynczych komórek nowotworowych lub do ochrony innych komórek. Nanotechnologia nie jest abstrakcyjnym wymysłem ludzkości. Wiele struktur występujących w tkankach żywych i samych komórkach to rodzaj nanostruktur kontrolowanych na poziomie pojedynczych atomów lub cząsteczek. rzy tworzeniu kierunku Nanotechnologia prowadzone były konsultacje z przedstawicielami Gdańskiego lubu Biznesu. 7. SOSOBY WERYFIACJI I OCENY OSIĄGANYCH RZEZ SUDENA ZAŁADANYCH EFEÓW SZAŁCENIA (określone w matrycy efektów kształcenia i kartach przedmiotów) Określone w matrycy efektów kształcenia i kartach przedmiotów. V. ROGRAM SUDIÓW: 1. FORMA SUDIÓW: stacjonarne (studia stacjonarne, studia niestacjonarne) Nanotechnologia (ierunek) - Nanomateriały dla Energetyki (Specjalność) 2. SEMESRÓW: 3 3. UNÓW ECS: MODUŁY ZAJĘĆ (zajęcia lub grupy zajęć) wraz z przypisaniem do każdego modułu zakładanych efektów kształcenia i liczby punktów ECS: A. GRUA ZAJĘĆ OBOWIĄZOWYCH Z ZARESU IERUNU SUDIÓW RZEDMIOU 1 G_ G_ RZEDMIOU eoretyczne podstawy nanotechnologii erminologia angielska w nanotechnologii EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 E _U01 7_W81 1 Z _U81 7_81 UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 4 z 21

5 RZEDMIOU A. GRUA ZAJĘĆ OBOWIĄZOWYCH Z ZARESU IERUNU SUDIÓW RZEDMIOU 3 G_ Nanotechnologia eksperymentalna EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_U02 UNÓW ECS Data wydruku: :38:14 Strona 5 z 21 W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 Z ŁĄCZNIE kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium RZEDMIOU B. GRUA ZAJĘĆ FAULAYWNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 30% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU 1 G_ rojekt zespołowy 2 G_ onwersja energii słonecznej 3 G_ Nanoczujniki 4 G_ Elektronika molekularna 5 G_M G_M G_M G_ G_ G_ NANO2-WS1 - Wykład specjalistyczny 1 NANO2-WS2 - Wykład specjalistyczny 2 NANO2-WS3 - Wykład specjalistyczny 3 Metody badań spektroskopowych Fizyczne metody badań materiałów II Magnetyczne właściwości nanostruktur i spintronika 11 G_ Nanotechnologia obliczeniowa 12 G_ G_M G_M G_M Fizyka fazy skondensowanej NANO2-WS4 - Wykład specjalistyczny 4 NANO2-WS5 - Wykład specjalistyczny 5 NANO2-WO1 - Wykład obieralny 1 EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 Z _U01 7_03 7_W01 1 E _W01 7_U01 1 Z Z _U02 2 E _03 7_U02 7_W01 7_03 7_U01 2 E Z Z _04 7_W01 7_U02 2 E _ _U01 7_U UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO

6 RZEDMIOU 16 G_ B. GRUA ZAJĘĆ FAULAYWNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 30% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU raca dyplomowa magisterska 17 G_ Seminarium dyplomowe 18 G_ G_M rojektowanie układów energetyki fotowoltaicznej NANO2-WO2 - Wykład obieralny 2 EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_U01 7_U02 7_04 7_U01 W Ć L S RAZEM W RAZEM 3 Z Z Z _U ŁĄCZNIE WSZYSO kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium RZEDMIOU UNÓW ECS C. GRUA ZAJĘĆ Z OBSZARÓW NAU HUMANISYCZNYCH LUB NAU SOŁECZNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 5 punktów ECS, w tym rzedmiot humanistyczno społeczny w wymiarze 2 punktów ECS dla studiów stacjonarnych drugiego stopnia) RZEDMIOU 1 G_ rzedsiębiorczość 2 G_ G_M Metodologia pracy naukowej rzedmiot humanistycznospołeczny 4 G_ Etyka w nanotechnologii EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_U71 7_71 W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 Z Z _U01 7_ _U71 7_71 3 Z ŁĄCZNIE kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium RZEDMIOU 1 G_ G_ UNÓW ECS D. GRUA ZAJĘĆ OWIĄZANYCH Z ROWADZONYMI BADANIAMI NAUOWYMI W DZIEDZINIE NAUI ZWIĄZANEJ Z IERUNIEM - ROFIL OGÓLNOAADEMICI (liczba punktów ECS w wymiarze większym niż 50% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU eoretyczne podstawy nanotechnologii onwersja energii słonecznej 3 G_ Nanoczujniki EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 E _U01 7_W01 1 E Z UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 6 z 21

7 RZEDMIOU D. GRUA ZAJĘĆ OWIĄZANYCH Z ROWADZONYMI BADANIAMI NAUOWYMI W DZIEDZINIE NAUI ZWIĄZANEJ Z IERUNIEM - ROFIL OGÓLNOAADEMICI (liczba punktów ECS w wymiarze większym niż 50% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU 4 G_ Nanotechnologia eksperymentalna 5 G_ Elektronika molekularna 6 G_M G_M G_M G_ G_ G_ NANO2-WS1 - Wykład specjalistyczny 1 NANO2-WS2 - Wykład specjalistyczny 2 NANO2-WS3 - Wykład specjalistyczny 3 Metody badań spektroskopowych Fizyczne metody badań materiałów II Magnetyczne właściwości nanostruktur i spintronika 12 G_ Nanotechnologia obliczeniowa 13 G_ G_M G_M G_M G_ Fizyka fazy skondensowanej NANO2-WS4 - Wykład specjalistyczny 4 NANO2-WS5 - Wykład specjalistyczny 5 NANO2-WO1 - Wykład obieralny 1 raca dyplomowa magisterska 18 G_ Seminarium dyplomowe 19 G_ rojektowanie układów energetyki fotowoltaicznej EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_U02 7_W01 7_U01 W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 Z Z _U02 2 E _03 7_U02 7_W01 7_03 7_U01 2 E Z Z _04 7_W01 7_U02 2 E _ _U01 7_U01 7_U01 7_U02 7_04 7_U Z Z Z UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 7 z 21

8 RZEDMIOU 20 G_M D. GRUA ZAJĘĆ OWIĄZANYCH Z ROWADZONYMI BADANIAMI NAUOWYMI W DZIEDZINIE NAUI ZWIĄZANEJ Z IERUNIEM - ROFIL OGÓLNOAADEMICI (liczba punktów ECS w wymiarze większym niż 50% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU NANO2-WO2 - Wykład obieralny 2 EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_U01 W Ć L S RAZEM W RAZEM ŁĄCZNIE kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium UNÓW ECS 5. ODSUMOWANIE LICZBY GODZIN I UNÓW ECS: ŁĄCZNA W ROGRAMIE ŁĄCZNA UNÓW ECS W BEZOŚREDNIM ONACIE Z NAUCZYCIELEM AADEMICIM DYDAYCZNYCH OBJĘYCH LANEM SUDIÓW 1110 ONSULACJI 125 EGZAMINY W RACIE SESJI 10 EGZAMIN DYLOMOWY 1 ŁĄCZNIE 1246 ROCENOWY UDZIAŁ GODZIN 55,25% 6. ŁĄCZNA UNÓW ECS, którą student musi uzyskać NA ZAJĘCIACH WYMAGAJĄCYCH BEZOŚREDNIEGO UDZIAŁU NAUCZYCIELI AADEMICICH I SUDENÓW: UNÓW ECS, którą student musi uzyskać W RAMACH ZAJĘĆ Z JĘZYA OBCEGO: 1 8. ŁĄCZNA I UNÓW ECS, którą student musi uzyskać W RAMACH RZEDMIOU ROJE ZESOŁOWY : 2 9. UNÓW ECS, WYMIAR, ZASADY I FORMA ODBYWANIA RAY ZAWODOWYCH: (obowiązkowa dla profilu praktycznego) 0 Brak ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO RZEDMIOU 1 G_ G_ Nanotechnologia (ierunek) - omputerowe Modelowanie Materiałów (Specjalność) 2. SEMESRÓW: 3 3. UNÓW ECS: MODUŁY ZAJĘĆ (zajęcia lub grupy zajęć) wraz z przypisaniem do każdego modułu zakładanych efektów kształcenia i liczby punktów ECS: A. GRUA ZAJĘĆ OBOWIĄZOWYCH Z ZARESU IERUNU SUDIÓW RZEDMIOU eoretyczne podstawy nanotechnologii erminologia angielska w nanotechnologii EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 E _U01 7_W81 1 Z _U81 7_81 UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 8 z 21

9 RZEDMIOU A. GRUA ZAJĘĆ OBOWIĄZOWYCH Z ZARESU IERUNU SUDIÓW RZEDMIOU 3 G_ Nanotechnologia eksperymentalna EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_U02 W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 Z ŁĄCZNIE kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium RZEDMIOU B. GRUA ZAJĘĆ FAULAYWNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 30% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU 1 G_ rojekt zespołowy 2 G_ G_ G_ Nanostruktura materiałów rzeczywistych Obiektowe języki programowania Mechanika ośrodków ciągłych 5 G_M NANO2-WS6-Wykład specjalistyczny 6 6 G_M G_M G_M G_M G_M G_ NANO2-WS8 - Wykład specjalistyczny 8 NANO2-WS9 - Wykład specjalistyczny 9 NANO2-WS10 - Wykład specjalistyczny 10 NANO2-WS11 - Wykład specjalistyczny 11 NANO2-WS12 - Wykład specjalistyczny 12 raca dyplomowa magisterska 12 G_ Seminarium dyplomowe EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 Z _U01 7_03 1 Z _U01 1 Z _03 7_U01 7_U01 7_W01 1 E _U01 7_ _03 7_U01 7_W _ _U01 7_U02 7_04 7_U01 3 Z Z UNÓW ECS UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 9 z 21

10 RZEDMIOU 13 G_M B. GRUA ZAJĘĆ FAULAYWNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 30% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU NANO2-WO3 - Wykład obieralny 3 14 G_M NANO2-WS7-Wykład specjalistyczny 7 EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_U01 W Ć L S RAZEM W RAZEM ŁĄCZNIE WSZYSO kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium RZEDMIOU UNÓW ECS C. GRUA ZAJĘĆ Z OBSZARÓW NAU HUMANISYCZNYCH LUB NAU SOŁECZNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 5 punktów ECS, w tym rzedmiot humanistyczno społeczny w wymiarze 2 punktów ECS dla studiów stacjonarnych drugiego stopnia) RZEDMIOU 1 G_ rzedsiębiorczość 2 G_ G_M Metodologia pracy naukowej rzedmiot humanistycznospołeczny 4 G_ Etyka w nanotechnologii EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_U71 7_71 W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 Z Z _U01 7_ _U71 7_71 3 Z ŁĄCZNIE kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium RZEDMIOU 1 G_ UNÓW ECS D. GRUA ZAJĘĆ OWIĄZANYCH Z ROWADZONYMI BADANIAMI NAUOWYMI W DZIEDZINIE NAUI ZWIĄZANEJ Z IERUNIEM - ROFIL OGÓLNOAADEMICI (liczba punktów ECS w wymiarze większym niż 50% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU eoretyczne podstawy nanotechnologii 2 G_ Nanotechnologia eksperymentalna 3 G_ G_ G_ Nanostruktura materiałów rzeczywistych Obiektowe języki programowania Mechanika ośrodków ciągłych 6 G_M NANO2-WS6-Wykład specjalistyczny 6 EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 E _U01 7_U02 1 Z Z _U01 1 Z _03 7_U01 1 E UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 10 z 21

11 RZEDMIOU 7 G_M G_M G_M G_M G_M G_ D. GRUA ZAJĘĆ OWIĄZANYCH Z ROWADZONYMI BADANIAMI NAUOWYMI W DZIEDZINIE NAUI ZWIĄZANEJ Z IERUNIEM - ROFIL OGÓLNOAADEMICI (liczba punktów ECS w wymiarze większym niż 50% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU NANO2-WS8 - Wykład specjalistyczny 8 NANO2-WS9 - Wykład specjalistyczny 9 NANO2-WS10 - Wykład specjalistyczny 10 NANO2-WS11 - Wykład specjalistyczny 11 NANO2-WS12 - Wykład specjalistyczny 12 raca dyplomowa magisterska 13 G_ Seminarium dyplomowe 14 G_M NANO2-WO3 - Wykład obieralny 3 15 G_M NANO2-WS7-Wykład specjalistyczny 7 EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_U01 7_W01 W Ć L S RAZEM W RAZEM _U01 7_ _03 7_U01 7_W _ _U01 7_U02 7_04 7_U01 7_U01 3 Z Z ŁĄCZNIE kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 11 z 21

12 5. ODSUMOWANIE LICZBY GODZIN I UNÓW ECS: ŁĄCZNA W ROGRAMIE ŁĄCZNA UNÓW ECS W BEZOŚREDNIM ONACIE Z NAUCZYCIELEM AADEMICIM DYDAYCZNYCH OBJĘYCH LANEM SUDIÓW 1035 ONSULACJI 126 EGZAMINY W RACIE SESJI 10 EGZAMIN DYLOMOWY 1 ŁĄCZNIE 1172 ROCENOWY UDZIAŁ GODZIN 51,97% 6. ŁĄCZNA UNÓW ECS, którą student musi uzyskać NA ZAJĘCIACH WYMAGAJĄCYCH BEZOŚREDNIEGO UDZIAŁU NAUCZYCIELI AADEMICICH I SUDENÓW: UNÓW ECS, którą student musi uzyskać W RAMACH ZAJĘĆ Z JĘZYA OBCEGO: 1 8. ŁĄCZNA I UNÓW ECS, którą student musi uzyskać W RAMACH RZEDMIOU ROJE ZESOŁOWY : 2 9. UNÓW ECS, WYMIAR, ZASADY I FORMA ODBYWANIA RAY ZAWODOWYCH: (obowiązkowa dla profilu praktycznego) 0 Brak Nanotechnologia (ierunek) - Nanostructures and computer simulations in material science (Specjalność) 2. SEMESRÓW: 4 3. UNÓW ECS: MODUŁY ZAJĘĆ (zajęcia lub grupy zajęć) wraz z przypisaniem do każdego modułu zakładanych efektów kształcenia i liczby punktów ECS: Dodatkowe informacje: Specjalność "Nanostruktury i symulacje komputerowe w inżynierii materiałowej" (Nanostructures and computer simulations in material science), z programem kształcenia dostosowanym do wymogów współpracy międzynarodowej i realizowanym w całości w języku angielskim, została przygotowana w ramach Działania 3.3 Umiędzynarodowienie polskiego szkolnictwa wyższego, Oś III Szkolnictwo Wyższe dla gospodarki i rozwoju rogramu Operacyjnego Wiedza Edukacja Rozwój współfinansowanego ze środków Europejskiego Funduszu Społecznego (NCBiR umowa OWR M056/16-00). RZEDMIOU B. GRUA ZAJĘĆ FAULAYWNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 30% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU 1 G_ hysics of materials 2 G_ Introduction to quantum mechanics 3 G_ Basics of nanophysics EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_W01 7_U02 7_03 W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 E E Z UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 12 z 21

13 RZEDMIOU B. GRUA ZAJĘĆ FAULAYWNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 30% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU 4 G_ hermodynamics 5 G_ General chemistry 6 G_ G_ Synthesis methods of nanomaterials hysical testing methods of materials 8 G_M NAN2AM1-WS1A- Specialist course 1 9 G_M NAN2AM2-WS1B- Specialist course 2 10 G_ G_ G_ Microscopy methods in nanotechnology Galsses and glassnanoceramic composites heoretical principles of nanotechnology 13 G_ Experimental nanotechnology 14 G_ Magnetism: from fundamentals to spintronics 15 G_ Nanochemistry 16 G_ Materials Science - classical particle approach 17 G_M NAN2AM4-WS2A- Specialist course 3 18 G_M NAN2AM5-WS2B- Specialist course 4 19 G_ Surface science 20 G_ G_ G_ Solid state electronics and nanoelectronics Materials Science - quantum particle approach Computer modeling and design of materials EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 Z E Z _W01 1 Z _03 7_U02 7_W01 7_U01 7_U01 7_U02 7_U01 7_W Z Z E Z E Z Z E E Z Z _03 UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 13 z 21

14 RZEDMIOU 23 G_ G_ B. GRUA ZAJĘĆ FAULAYWNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 30% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU Spectroscopy methods in nanotechnology Diploma laboratory and seminar 25 G_ Group project 26 G_M NAN2AM7-WS3A- Specialist course 5 27 G_M NAN2AM8-WS3B- Specialist course 6 28 G_ Diploma seminar 29 G_ Msc thesis 30 G_M NAN2AM10-WS4A- Specialist course 7 31 G_M NAN2AM11-WS4B- Specialist course 8 EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_03 7_W81 7_U81 7_81 W Ć L S RAZEM W RAZEM 3 E Z _U01 3 Z _03 7_U01 7_U01 7_U Z _U01 7_04 4 Z _U ŁĄCZNIE WSZYSO kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium RZEDMIOU 1 G_M G_M G_M UNÓW ECS C. GRUA ZAJĘĆ Z OBSZARÓW NAU HUMANISYCZNYCH LUB NAU SOŁECZNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 5 punktów ECS, w tym rzedmiot humanistyczno społeczny w wymiarze 2 punktów ECS dla studiów stacjonarnych drugiego stopnia) RZEDMIOU NAN2AM3-Humanities and social science course 1 NAN2AM6-Humanities and social science course 2 NAN2AM9-Humanities and social science course 3 EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM _U71 7_71 7_U01 7_71 7_ UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 14 z 21

15 RZEDMIOU 4 G_ C. GRUA ZAJĘĆ Z OBSZARÓW NAU HUMANISYCZNYCH LUB NAU SOŁECZNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 5 punktów ECS, w tym rzedmiot humanistyczno społeczny w wymiarze 2 punktów ECS dla studiów stacjonarnych drugiego stopnia) RZEDMIOU Ethics in nanotechnology EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM 4 Z ŁĄCZNIE kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium RZEDMIOU UNÓW ECS D. GRUA ZAJĘĆ OWIĄZANYCH Z ROWADZONYMI BADANIAMI NAUOWYMI W DZIEDZINIE NAUI ZWIĄZANEJ Z IERUNIEM - ROFIL OGÓLNOAADEMICI (liczba punktów ECS w wymiarze większym niż 50% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU 1 G_ hysics of materials 2 G_ Introduction to quantum mechanics 3 G_ Basics of nanophysics 4 G_ hermodynamics 5 G_ General chemistry 6 G_ G_ Synthesis methods of nanomaterials hysical testing methods of materials 8 G_M NAN2AM1-WS1A- Specialist course 1 9 G_M NAN2AM2-WS1B- Specialist course 2 10 G_ G_ G_ Microscopy methods in nanotechnology Galsses and glassnanoceramic composites heoretical principles of nanotechnology 13 G_ Experimental nanotechnology EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_W01 7_U02 7_03 W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 E E Z Z E Z _W01 1 Z _03 7_U02 7_W01 7_U01 7_U01 7_U Z Z E Z UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 15 z 21

16 RZEDMIOU 14 G_ D. GRUA ZAJĘĆ OWIĄZANYCH Z ROWADZONYMI BADANIAMI NAUOWYMI W DZIEDZINIE NAUI ZWIĄZANEJ Z IERUNIEM - ROFIL OGÓLNOAADEMICI (liczba punktów ECS w wymiarze większym niż 50% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU Magnetism: from fundamentals to spintronics 15 G_ Nanochemistry 16 G_ Materials Science - classical particle approach 17 G_M NAN2AM4-WS2A- Specialist course 3 18 G_M NAN2AM5-WS2B- Specialist course 4 19 G_ Surface science 20 G_ G_ G_ G_ G_ Solid state electronics and nanoelectronics Materials Science - quantum particle approach Computer modeling and design of materials Spectroscopy methods in nanotechnology Diploma laboratory and seminar 25 G_M NAN2AM7-WS3A- Specialist course 5 26 G_M NAN2AM8-WS3B- Specialist course 6 27 G_ Diploma seminar 28 G_ Msc thesis 29 G_M NAN2AM10-WS4A- Specialist course 7 EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_U01 7_W01 W Ć L S RAZEM W RAZEM 2 E Z Z E E Z Z _03 7_03 7_W81 7_U81 7_81 7_U01 7_U01 7_U01 3 E Z Z _U01 7_04 4 Z UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 16 z 21

17 RZEDMIOU D. GRUA ZAJĘĆ OWIĄZANYCH Z ROWADZONYMI BADANIAMI NAUOWYMI W DZIEDZINIE NAUI ZWIĄZANEJ Z IERUNIEM - ROFIL OGÓLNOAADEMICI (liczba punktów ECS w wymiarze większym niż 50% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU 30 G_M NAN2AM11-WS4B- Specialist course 8 EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM 7_U ŁĄCZNIE kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium UNÓW ECS 5. ODSUMOWANIE LICZBY GODZIN I UNÓW ECS: ŁĄCZNA W ROGRAMIE ŁĄCZNA UNÓW ECS W BEZOŚREDNIM ONACIE Z NAUCZYCIELEM AADEMICIM DYDAYCZNYCH OBJĘYCH LANEM SUDIÓW 1500 ONSULACJI 158 EGZAMINY W RACIE SESJI 10 EGZAMIN DYLOMOWY 1 ŁĄCZNIE 1669 ROCENOWY UDZIAŁ GODZIN 55,63% 6. ŁĄCZNA UNÓW ECS, którą student musi uzyskać NA ZAJĘCIACH WYMAGAJĄCYCH BEZOŚREDNIEGO UDZIAŁU NAUCZYCIELI AADEMICICH I SUDENÓW: UNÓW ECS, którą student musi uzyskać W RAMACH ZAJĘĆ Z JĘZYA OBCEGO: 0 8. ŁĄCZNA I UNÓW ECS, którą student musi uzyskać W RAMACH RZEDMIOU ROJE ZESOŁOWY : 2 9. UNÓW ECS, WYMIAR, ZASADY I FORMA ODBYWANIA RAY ZAWODOWYCH: (obowiązkowa dla profilu praktycznego) 0 Brak ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Nanotechnologia (ierunek) - Nanostruktury fotoniczne (Specjalność) 2. SEMESRÓW: 3 3. UNÓW ECS: MODUŁY ZAJĘĆ (zajęcia lub grupy zajęć) wraz z przypisaniem do każdego modułu zakładanych efektów kształcenia i liczby punktów ECS: Dodatkowe informacje: Specjalność powstaje przy współpracy Wydziału FiMS z Instytutem Wysokich Ciśnień olskiej Akademii Nauk w Warszawie. Studia elitarne, rekrutacja na kierunek nastąpi po pierwszym semestrze.semestr 1 realizowany w Gdańsku, semestr 2 w IWC AN w Warszawie a semestr 3 realizacja Gdańsk i Warszawa, praca dyplomowa realizowana w IWC AN. Data wydruku: :38:14 Strona 17 z 21

18 RZEDMIOU 1 G_ G_ A. GRUA ZAJĘĆ OBOWIĄZOWYCH Z ZARESU IERUNU SUDIÓW RZEDMIOU eoretyczne podstawy nanotechnologii erminologia angielska w nanotechnologii 3 G_ Nanotechnologia eksperymentalna EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 E _U01 7_W81 1 Z _U81 7_81 7_U02 1 Z ŁĄCZNIE kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium RZEDMIOU B. GRUA ZAJĘĆ FAULAYWNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 30% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU 1 G_ rojekt zespołowy 2 G_ onwersja energii słonecznej 3 G_ Nanoczujniki 4 G_ Elektronika molekularna 5 G_M G_M G_M NANO2-WS1 - Wykład specjalistyczny 1 NANO2-WS2 - Wykład specjalistyczny 2 NANO2-WS3 - Wykład specjalistyczny 3 8 G_M NAN2-NF1-Fizyka półprzewodników 9 G_M NAN2-NF2- Wytwarzanie nanostruktur fotonicznych EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 Z _U01 7_03 7_W01 1 E _W01 7_U01 7_U01 7_U02 7_03 7_04 1 Z Z UNÓW ECS UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 18 z 21

19 RZEDMIOU 10 G_M B. GRUA ZAJĘĆ FAULAYWNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 30% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU NAN2-NF3- Charakteryzacja nanostruktur 11 G_ Seminarium dyplomowe AN 12 G_ raca dyplomowa magisterska 13 G_ Seminarium dyplomowe EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_U02 7_04 7_U01 7_U81 7_U01 7_U02 7_04 7_U01 W Ć L S RAZEM W RAZEM Z Z Z ŁĄCZNIE WSZYSO kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium RZEDMIOU UNÓW ECS C. GRUA ZAJĘĆ Z OBSZARÓW NAU HUMANISYCZNYCH LUB NAU SOŁECZNYCH (liczba punktów ECS w wymiarze nie mniejszym niż 5 punktów ECS, w tym rzedmiot humanistyczno społeczny w wymiarze 2 punktów ECS dla studiów stacjonarnych drugiego stopnia) RZEDMIOU 1 G_ rzedsiębiorczość 2 G_ G_M Metodologia pracy naukowej rzedmiot humanistycznospołeczny 4 G_ Etyka w nanotechnologii EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_U71 7_71 W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 Z Z _U01 7_ _U71 7_71 3 Z ŁĄCZNIE kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium RZEDMIOU 1 G_ UNÓW ECS D. GRUA ZAJĘĆ OWIĄZANYCH Z ROWADZONYMI BADANIAMI NAUOWYMI W DZIEDZINIE NAUI ZWIĄZANEJ Z IERUNIEM - ROFIL OGÓLNOAADEMICI (liczba punktów ECS w wymiarze większym niż 50% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU eoretyczne podstawy nanotechnologii EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM 1 E _U01 UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 19 z 21

20 RZEDMIOU 2 G_ D. GRUA ZAJĘĆ OWIĄZANYCH Z ROWADZONYMI BADANIAMI NAUOWYMI W DZIEDZINIE NAUI ZWIĄZANEJ Z IERUNIEM - ROFIL OGÓLNOAADEMICI (liczba punktów ECS w wymiarze większym niż 50% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU onwersja energii słonecznej 3 G_ Nanoczujniki 4 G_ Nanotechnologia eksperymentalna 5 G_ Elektronika molekularna 6 G_M G_M G_M NANO2-WS1 - Wykład specjalistyczny 1 NANO2-WS2 - Wykład specjalistyczny 2 NANO2-WS3 - Wykład specjalistyczny 3 9 G_M NAN2-NF1-Fizyka półprzewodników 10 G_M G_M NAN2-NF2- Wytwarzanie nanostruktur fotonicznych NAN2-NF3- Charakteryzacja nanostruktur 12 G_ Seminarium dyplomowe AN 13 G_ raca dyplomowa magisterska EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA W Ć L S RAZEM W RAZEM 7_W01 1 E _U02 7_W01 7_U01 7_U01 7_U02 7_03 7_04 7_U02 7_04 7_U01 7_U81 7_U01 7_U02 7_04 1 Z Z Z Z Z UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO Data wydruku: :38:14 Strona 20 z 21

21 RZEDMIOU D. GRUA ZAJĘĆ OWIĄZANYCH Z ROWADZONYMI BADANIAMI NAUOWYMI W DZIEDZINIE NAUI ZWIĄZANEJ Z IERUNIEM - ROFIL OGÓLNOAADEMICI (liczba punktów ECS w wymiarze większym niż 50% łącznej liczby punktów ECS) RZEDMIOU 14 G_ Seminarium dyplomowe EFEY SZAŁCENIA SEMESR FORMA 7_U01 W Ć L S RAZEM W RAZEM 3 Z ŁĄCZNIE kod nadawany przez system rogramy kształcenia liczba godzin w planie studiów; liczba godzin konsultacji; W liczba godzin pracy własnej W wykład; Ć ćwiczenia; L laboratorium; projekt; S - seminarium UNÓW ECS ODOWIEDZIALNA ZA RZEDMIO 5. ODSUMOWANIE LICZBY GODZIN I UNÓW ECS: ŁĄCZNA W ROGRAMIE ŁĄCZNA UNÓW ECS W BEZOŚREDNIM ONACIE Z NAUCZYCIELEM AADEMICIM DYDAYCZNYCH OBJĘYCH LANEM SUDIÓW 1110 ONSULACJI 106 EGZAMINY W RACIE SESJI 10 EGZAMIN DYLOMOWY 1 ŁĄCZNIE 1227 ROCENOWY UDZIAŁ GODZIN 54,41% 6. ŁĄCZNA UNÓW ECS, którą student musi uzyskać NA ZAJĘCIACH WYMAGAJĄCYCH BEZOŚREDNIEGO UDZIAŁU NAUCZYCIELI AADEMICICH I SUDENÓW: UNÓW ECS, którą student musi uzyskać W RAMACH ZAJĘĆ Z JĘZYA OBCEGO: 1 8. ŁĄCZNA I UNÓW ECS, którą student musi uzyskać W RAMACH RZEDMIOU ROJE ZESOŁOWY : 2 9. UNÓW ECS, WYMIAR, ZASADY I FORMA ODBYWANIA RAY ZAWODOWYCH: (obowiązkowa dla profilu praktycznego) 0 Brak 10. WARUNI UOŃCZENIA SUDIÓW I UZYSANIA WALIFIACJI: - uzyskanie wymaganej (90 /120) liczby punktów ECS, - przygotowanie i zaliczenie projektu dyplomowego, - zdanie egzaminu dyplomowego. 11. LAN SUDIÓW prowadzonych w formie stacjonarnej (w załączeniu) 12. MARYCA EFEÓW SZAŁCENIA W ODNIESIENIU DO MODUŁÓW / RZEDMIOÓW (w załączeniu) 13. ARY RZEDMIOÓW (w portalu MojaG) Data wydruku: :38:14 Strona 21 z 21