Technika sensorowa. Czujniki mikromechaniczne - cz.1

Podobne dokumenty
Sensory w systemach wbudowanych

Czujniki mikromechaniczne

Technika sensorowa. Czujniki piezorezystancyjne. dr inż. Wojciech Maziarz Katedra Elektroniki C-1, p.301, tel

Mikrosystemy Wprowadzenie. Prezentacja jest współfinansowana przez Unię Europejską w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego w projekcie pt.

Elementy technologii mikroelementów i mikrosystemów. USF_3 Technologia_A M.Kujawińska, T.Kozacki, M.Jóżwik 3-1

Właściwości kryształów

MIKROSYSTEMY. Ćwiczenie nr 2a Utlenianie

OBRÓBKA PLAZMOWA W MIKROELEKTRONICE I MIKROMECHANICE

TECHNOLOGIA STRUKTUR MOEMS

Marek Lipiński WPŁYW WŁAŚCIWOŚCI FIZYCZNYCH WARSTW I OBSZARÓW PRZYPOWIERZCHNIOWYCH NA PARAMETRY UŻYTKOWE KRZEMOWEGO OGNIWA SŁONECZNEGO

RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1

Technika sensorowa. Czujniki mikromechaniczne cz. 2

Badania wybranych nanostruktur SnO 2 w aspekcie zastosowań sensorowych

Piezorezystancyjny czujnik ciśnienia: modelowanie membrany krzemowej podstawowego elementu piezorezystancyjnego czujnika ciśnienia

MATERIAŁY SUPERTWARDE

Czyszczenie powierzchni podłoży jest jednym z

Modelowanie mikrosystemów - laboratorium. Ćwiczenie 1. Modelowanie ugięcia membrany krzemowej modelowanie pracy mikromechanicznego czujnika ciśnienia

Modelowanie mikrosystemów - laboratorium. Ćwiczenie 1. Modelowanie ugięcia membrany krzemowej modelowanie pracy mikromechanicznego czujnika ciśnienia

TECHNOLOGIA WYKONANIA PRZYRZĄDÓW PÓŁPRZEWOD- NIKOWYCH WYK. 16 SMK Na pdstw.: W. Marciniak, WNT 1987: Przyrządy półprzewodnikowe i układy scalone,

PRZEWODNIK PO PRZEDMIOCIE

Elementy technologii mikroelementów i mikrosystemów. Typowe wymagania klasy czystości: 1000/100 (technologie 3 µm)

METALE LEKKIE W KONSTRUKCJACH SPRZĘTU SPECJALNEGO - STOPY MAGNEZU

Skalowanie układów scalonych

Szkło kuloodporne: składa się z wielu warstw różnych materiałów, połączonych ze sobą w wysokiej temperaturze. Wzmacnianie szkła

Grafen materiał XXI wieku!?

ELEMENTY ELEKTRONICZNE

Technika sensorowa. Czujniki magnetyczne cz.2

PRZEWODNIK PO PRZEDMIOCIE

PL B1. INSTYTUT TECHNOLOGII ELEKTRONOWEJ, Warszawa, PL BUP 26/06

Teoria pasmowa ciał stałych

Skalowanie układów scalonych Click to edit Master title style

Technologia elementów optycznych

Procesy technologiczne w elektronice

Dobór materiałów konstrukcyjnych cz.13

Kondensatory. Konstrukcja i właściwości

Nauka o Materiałach. Wykład XI. Właściwości cieplne. Jerzy Lis

Politechnika Wrocławska Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Struktura CMOS PMOS NMOS. metal I. metal II. warstwy izolacyjne (CVD) kontakt PWELL NWELL. tlenek polowy (utlenianie podłoża) podłoże P

Pasmowa teoria przewodnictwa. Anna Pietnoczka

Technologia planarna

Rekapitulacja. Detekcja światła. Rekapitulacja. Rekapitulacja

Wpływ defektów punktowych i liniowych na własności węglika krzemu SiC

Rozdział 3. Rezystancyjne czujniki gazów na podłożu mikromechanicznym

Technologia sprzętu optoelektronicznego. dr inż. Michał Józwik pokój 507a

Diody elektroluminescencyjne na bazie GaN z powierzchniowymi kryształami fotonicznymi

Technologia elementów optycznych

Ćwiczenie 1: Wyznaczanie warunków odporności, korozji i pasywności metali

Technika sensorowa. Czujniki wielkości mechanicznych. dr inż. Wojciech Maziarz Katedra Elektroniki C-1, p.301, tel

Metody wytwarzania elementów półprzewodnikowych

MATERIAŁY STOSOWANE NA POWŁOKI PRZECIWZUŻYCIOWE

Struktura CMOS Click to edit Master title style

Piezorezystancyjny czujnik ciśnienia: pomiar i wyznaczenie parametrów metrologicznych czujnika i przetwornika ciśnienia

ELEMENTY ELEKTRONICZNE

Dobór materiałów konstrukcyjnych cz. 2

Elementy przełącznikowe

Zjawisko Halla Referujący: Tomasz Winiarski

ZASADY KONSTRUKCJI APARATURY ELEKTRONICZNEJ

Grafen perspektywy zastosowań

Ciała stałe. Literatura: Halliday, Resnick, Walker, t. 5, rozdz. 42 Orear, t. 2, rozdz. 28 Young, Friedman, rozdz

Leon Murawski, Katedra Fizyki Ciała Stałego Wydział Fizyki Technicznej i Matematyki Stosowanej

Ryszard J. Barczyński, 2012 Politechnika Gdańska, Wydział FTiMS, Katedra Fizyki Ciała Stałego Materiały dydaktyczne do użytku wewnętrznego

Repeta z wykładu nr 6. Detekcja światła. Plan na dzisiaj. Metal-półprzewodnik

Spektrometr ICP-AES 2000

OFERTA BADAŃ MATERIAŁOWYCH Instytutu Mechaniki i Informatyki Stosowanej Uniwersytetu Kazimierza Wielkiego

Drewno. Zalety: Wady:

(zwane również sensorami)

NADPRZEWODNIKI WYSOKOTEMPERATUROWE (NWT) W roku 1986 Alex Muller i Georg Bednorz odkryli. miedziowo-lantanowym, w którym niektóre atomy lantanu były

Rozszczepienie poziomów atomowych

JUMO MAERA S26. Sonda do pomiaru poziomu. Zastosowanie. Opis skrócony. Właściwości. Korzyści dla Klienta. Karta katalogowa 40.

Wytwarzanie niskowymiarowych struktur półprzewodnikowych

iglidur G Ekonomiczny i wszechstronny

Załącznik nr 1. Projekty struktur falowodowych

Badanie przenikalności elektrycznej i tangensa kąta stratności metodami mikrofalowymi

Badania właściwości zmęczeniowych bimetalu stal S355J2- tytan Grade 1

!!!DEL są źródłami światła niespójnego.

Badanie charakterystyk elementów półprzewodnikowych

CIEPLNE I MECHANICZNE WŁASNOŚCI CIAŁ

Zjawiska zachodzące w półprzewodnikach Przewodniki samoistne i niesamoistne

Odporny na korozję czujnik ciśnienia dla mikroreaktorów chemicznych

Procesy technologiczne w elektronice

Co to jest kropka kwantowa? Kropki kwantowe - część I otrzymywanie. Co to jest ekscyton? Co to jest ekscyton? e πε. E = n. Sebastian Maćkowski

Właściwości optyczne. Oddziaływanie światła z materiałem. Widmo światła widzialnego MATERIAŁ

Nauka o Materiałach Wykład II Monokryształy Jerzy Lis

Po co układy analogowe?

SPM Scanning Probe Microscopy Mikroskopia skanującej sondy STM Scanning Tunneling Microscopy Skaningowa mikroskopia tunelowa AFM Atomic Force

Chemia nieorganiczna. Copyright 2000 by Harcourt, Inc. All rights reserved.

Technologia w elektronice

Przyrządy i układy półprzewodnikowe

Zastosowanie materiałów perowskitowych wykonanych metodą reakcji w fazie stałej do wytwarzania membran separujących tlen z powietrza

Budowa. Metoda wytwarzania

Teoria pasmowa. Anna Pietnoczka

Repeta z wykładu nr 8. Detekcja światła. Przypomnienie. Efekt fotoelektryczny

Sensory i systemy pomiarowe Prezentacja Projektu SYNERIFT. Michał Stempkowski Tomasz Tworek AiR semestr letni

Odporny na korozję czujnik ciśnienia dla mikroreaktorów chemicznych

Mechatronika i inteligentne systemy produkcyjne. Sensory (czujniki)

Wykład 17: Optyka falowa cz.2.

Wykład XIV: Właściwości optyczne. JERZY LIS Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki Katedra Technologii Ceramiki i Materiałów Ogniotrwałych

WŁAŚCIWOŚCI MECHANICZNE PLASTYCZNOŚĆ. Zmiany makroskopowe. Zmiany makroskopowe

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11)

Transkrypt:

Technika sensorowa Czujniki mikromechaniczne - cz.1 dr inż. Wojciech Maziarz, prof. dr hab. T. Pisarkiewicz Katedra Elektroniki C-1, p.301, tel. 12 617 30 39 Kontakt: Wojciech.Maziarz@agh.edu.pl 1

Czujniki mikromechaniczne WSTĘP Narzędzia mikroelektroniki zastosowane do struktur mechanicznych pozwalają wytworzyć nie tylko proste czujniki o wymiarach mikronowych, ale całe struktury - mikrosystemy. Terminologia: technologia mikromaszyn - Japonia technologia mikrosystemów MST - Europa systemy mikroelektromechaniczne MEMSy - USA Historycznie pierwszym materiałem w technologii mikromechanicznej (i do dziś dominującym) jest Si. Poza tym stosuje się materiały typowe dla technologii CMOS (SiO 2, Si 3 N 4, Al) oraz zaczyna się stosować inne półprzewodniki (SiC, GaAs, diament), metale i ich tlenki, polimery organiczne. 2

Ewolucja mikrosystemów, MEMS i układów zintegrowanych - USA Kensall D. Wise, Integrated sensors, MEMS, and microsystems: Reflections on a fantastic voyage, Sensors and Actuators A 136 (2007) 39 50 3

Ewolucja mikrosystemów - neurofizjologia (1) Krzemowa sonda nerwowa (1969) (a) widok struktury mikromechanika objętościowa + osadzony dielektryk (b) widok sondy (c) widok impulsu nerwowego z kory słuchowej kota w odpowiedzi na dźwięk dzwonka. Metalizacja sondy: 20mm. Kensall D. Wise, Integrated sensors, MEMS, and microsystems: Reflections on a fantastic voyage, Sensors and Actuators A 136 (2007) 39 50 4

Ewolucja mikrosystemów - pomiar ciśnienia (2) Czujniki ciśnienia (1970) Projekty fundowane przez NASA Anizotropowe trawienie (Bell Labs) a) membrany o grubości 50um wytworzone poprzez anizotropowe trawienie. b) Średnice 0.8 and 1.6 mm. Po prawej widoczne przejście światła przez membranę o grubości 5um. Kensall D. Wise, Integrated sensors, MEMS, and microsystems: Reflections on a fantastic voyage, Sensors and Actuators A 136 (2007) 39 50 5

Ewolucja mikrosystemów - pomiar gazów (3) System chromatografii gazowej (1970) Misja na Marsa Viking (1975) Kolumna (trawienie izotropowe) Kensall D. Wise, Integrated sensors, MEMS, and microsystems: Reflections on a fantastic voyage, Sensors and Actuators A 136 (2007) 39 50 6

Ewolucja mikrosystemów - mikrosystemy bezprzewodowe zint. (4) Mikrosystem dla niesłyszących (2006) Hermetycznie zamknięte opakowanie zawierające mikrokontroler, elektronikę i bezprzewodowy interfejs, 8 żyłowy przewód i matryca 32-elektrodowa. Końcówka jednej z matryc zawierająca czujniki piezorezystancyjne do pomiaru kontaktu oraz sondy położenia Kensall D. Wise, Integrated sensors, MEMS, and microsystems: Reflections on a fantastic voyage, Sensors and Actuators A 136 (2007) 39 50 7

Ewolucja mikrosystemów - mikrosystemy bezprzewodowe zint. (5) Implant mikrosystem bezprzewodowy (2005) Implant pod skórą Elektroda implantu Kensall D. Wise, Integrated sensors, MEMS, and microsystems: Reflections on a fantastic voyage, Sensors and Actuators A 136 (2007) 39 50 Bezprzewodowy system zapisu sygnału z kory mózgowej. Zawiera: 64 grupy elektrod, (wzmocnienie 1000 na kanał), 64-kanałowy układ przetwarzania sygnału, interfejs bezprzewodowy do zasilania i transmisji dwukierunkowej. 8

Czujniki mikromechaniczne materiały Szczególne właściwości mechaniczne Si: moduł Younga - bliski stali granica plastyczności trzy razy większa niż w stali twardość - wyższa niż stali współcz. rozszerz. term. siedem razy mniejszy niż dla stali wysokie przewodnictwo cieplne nie wykazuje histerezy mechanicznej, niskie wew. tłumienie silny efekt piezorezystancyjny wada - kruchość. Jako półprzewodnik krzem jest najpowszechniej stosowany, stąd łatwość integracji elementów mechanicznych z elektroniką. Mechaniczne i elektryczne własności podłoży krzemowych są powtarzalne i łatwo można je zmieniać, komercyjnie wytwarzany c-si jest wysokiej czystości i jakości. 9

Własności wybranych materiałów Własności krzemu w porównaniu do innych materiałów Si SiC diament Stal nierdz. Al Punkt topnienia (st. C) 1350 2830 3550 1400 do 660 Temp. pracy (st. C) 300 873 1100 - - Wsp. rozsz. term. 2.5 3.3 1 17.3 25 (10-6 /st.c) Wsp. przew. ciepl. (W/cm K) 1.57 4.9 20 0.329 2.36 Gęstość (g/cm3) 2.3 3.2 3.5 7.9 2.7 Moduł Younga 1.9 7 10.35 2 0.7 (10 11 N/m2) Granica plastyczności 6.9 21 53 2.1 0.17 (10 9 N/m 2 ) Twardość w skali Knoopa 850 2480 7000 660 130 (kg/m 2 ) Wytrzymałość dielektr. 0.5 4.0 10 - - (MV/m) Przerwa energetyczna 1.12 3.0 5.5 - - (ev) 10

Własności wybranych materiałów W ogólności wraz ze zmianą wymiaru obiektu r w kierunku miniaturyzacji rośnie rola powierzchni S (zmiana wymiaru liniowego o rząd daje zmianę powierzchni o dwa rzędy, a objętości V o trzy rzędy). S/ V Własności powierzchni rozciągają się częściowo w głąb. Twardość, odporność na korozję - uwarunkowane są własnościami kilku warstw atomowych. 12

W obszarze nanotechnologii obserwuje się zależność parametrów sprężystych materiałów od wymiarów. Odchylenie własności sprężystej D od D c dla materiału w skali makro wynosi D D c S 1 h o D c E h h gdzie: - stała zależna od geometrii h - długość określająca wymiar struktury S - powierzchniowa stała sprężystości E - objętościowy moduł Younga h 0 - wymiar, dla którego istnieje wpływ powierzchni (dla c-si h 0 0.1 nm, a więc wpływ powierzchni istnieje dla h < 5 nm) 13

Technologia mikromechaniczna Podział technologii mikromechanicznych: - objętościowa: struktury wytwarzane w głębi podłoża (głębokie trawienie c-si), mikrostruktury 3-wym. (belki, membrany, rowki itp. ) - powierzchniowa: struktury wytwarzane na powierzchni (trawienie warstw naniesionych na podłoże, najczęściej warstw poli-si na podłoże Si) -LIGA (niem. Lithographie, Galvanoformung, Abformung litografia, galwanotechnika, formowanie); wytwarza się w niej miniaturowe metalowe kołka zębate, walce, mikroigły itd. (FILM) 14 - inne, np. EFAB

Stosowane metody: - nanoszenie warstw, - naświetlanie przez maskę wzoru na fotorezyście, - trawienie obszarow niepożądanych Technologia mikromechaniczna podstawowe procesy Etapy te są powtarzane aż do uzyskania żądanej struktury. 15

Technologia mikromechaniczna Trzycalowa płytka Si z czujnikami gazów (WM-2006) Akcelerometry krzemowe Wybrane mikrostruktury powstałe w wyniku trawienia 16

Elementy mikromechaniki objętościowej membrany belki 17

Elementy mikromechaniki powierzhniowej Otrzymywanie belki wspornikowej metodami mikromechaniki powierzchniowej Warstwa dystansowa (poświęcana) 18

W. Maziarz, Zintegrowany sensor gazów wytworzony w technologii mikromechanicznej, Rozprawa doktorska, Kraków 2006 Mikromechanika powierzchniowa - powstawanie belki polikrzemowej 19

Mikromechanika powierzchniowa - fotolitografia Proces trawienia Si poprzedzony jest fotolitograficznym naniesieniem wzoru (pattern transfer) 20

Mikromechanika w krzemie płaszczyzny krystalograficzne {110} zbiór płaszczyzn (110) płaszczyzna [110] - kierunki a) Trzy płaszczyzny krystalograficzne i odpowiadające im wskaźniki w krysztale sześciennym. Identyfikowane dwie płaszczyzny w zbiorze płaszczyzn {110} b) Cztery płaszczyzny w zbiorze płaszczyzn (111). (111) i (111) to te same płaszczyzny. 21

Mikromechanika w krzemie płaszczyzny krystalograficzne Jak rozpoznać kierunki mając płytkę Si typu n lub p? Ścięcia 22

Mikromechanika powierzchniowa - trawienie Trawienie głębokie to głównie tzw. trawienie mokre anizotropowe (o szybkości zależnej od orientacji krystalograficznej). Możliwości z tego wynikające odkryto na początku lat 1980. Stosując określone środki trawiące uzyskuje się w krzemie duże szybkości trawienia dla płaszczyzn (100) i (110), a znikomo małe dla (111). Domieszkowanie Si borem powoduje gwałtowny spadek szybkości trawienia (dla koncentracji B > 2.5 10 19 cm -3 szybkość trawienia spada 3 rzędy wielkości). Selektywność trawienia można również uzyskać w procesie elektrochemicznym. 23

Mikromechanika powierzchniowa trawienie anizotropowe Środki trawiące anizotropowo: KOH + woda środek b.selektywny, stosunek szybkości trawienia płaszczyzn {100} do {111} wynosi 200 : 1 EDP (etylenodiamina + pirokatechol + woda) środek mniej selektywny, b. wolno trawiący SiO 2 - zaleta Hydrazyna + woda duża szybkość trawienia {100}, selektywność mała ok. 10:1. CsOH, NH 4 OH, TMAH Stopowanie trawienia: V-rowek lub dyfuzja p+ W. Maziarz, Zintegrowany sensor gazów wytworzony w technologii mikromechanicznej, Rozprawa doktorska, Kraków 2006 24

Mikromechanika powierzchniowa trawienie anizotropowe Etapy wytwarzania belki krzemowej jednostronnie podpartej w trawieniu anizotropowym W. Maziarz, Zintegrowany sensor gazów wytworzony w technologii mikromechanicznej, Rozprawa doktorska, Kraków 2006 25

Mikromechanika powierzchniowa trawienie elektrochemiczne Szybkość trawienia zależy od różnicy potencjałów między próbką i środkiem trawiącym. V RE dobrane tak aby zachodziło trawienie podłoża. Potencjał epiwarstwy V RE + V E dobrany tak, aby był powyżej progu pasywacji n-si. Trawienie zatrzymuje się na warstwie epitaksjalnej, tworząc warstwę pasywacyjną. 26

Mikromechanika powierzchniowa trawienie suche Trawienie suche (w plaźmie gazowej) Jony Ar, O 2 CF 4, SF 6 RIE Trawienie plazmowe jest procesem czystym, bardzo użytecznym w przypadku, gdy nie można stosować trawienia mokrego. 27

Mikromechanika powierzchniowa trawienie izotropowe Izotropowe trawienie cienkich warstw Przykłady środków trawiących dla wybranych cienkich warstw: Si: HF + HNO 3 + H 2 O SiO 2 : HF + H 2 O Si 3 N 4 : H 3 PO 4 + H 2 O Al: trawienie plazmowe lub reaktywne jonowe Warstwy Au, Pt nie są trawione, ale kształtowane w tzw. procesie lift-off. 28

Mikromechanika powierzchniowa proces lift-off Fotorezyst jest nasączony przed ekspozycją w chlorobenzenie, w wyniku czego warstwa wierzchnia jest słabiej rozpuszczalna w wywoływaczu. Naparowanie metalu. Usunięcie fotorezystu. Uzyskano wzór ścieżki metalicznej bez trawienia metalu. 29

W. Maziarz, Zintegrowany sensor gazów wytworzony w technologii mikromechanicznej, Rozprawa doktorska, Kraków 2006 Mikromechanika objętościowa - powstawanie belki zawieszonej i komory 30

Technologia mikromechaniczna typy membran Typy membran spotykane w czujnikach mikromechanicznych: zamknięta (a) oraz podwieszona typu pająk (hotplate, spider) (b) I. Simon i inni, Micromachined metal oxide gas sensors: opportunities to improve sensor performance, Sens. Actuators B 73 (2001) 1 26. 31

http://www.memsnet.org/mems/fabrication.html Technologia LIGA etapy technologiczne LIGA (niem. Lithographie, Galvanoformung, Abformung litografia, galwanotechnika, formowanie); ( FILM) Wymaga promieni X droga! Wytwarza się w niej miniaturowe metalowe kołka zębate, walce, mikroigły itd. 32

Technologia LIGA zastosowania http://www.memsnet.org/mems/fabrication.html J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS. 8(3), 033010 (July 01, 2009). doi:10.1117/1.3158617 Wytwarza się w niej miniaturowe metalowe (Ni) kołka zębate, walce, mikroigły itd. Możliwość wytwarzania wysokich elementów 33

Technologia EFAB dlaczego? State-of-the-art setki masek, ogromne koszty, efekt nie tak dobry? Mikromechanika powierzchniowa LIGA Wady: ograniczone geometrie, mnóstwo masek i procesów, długi czas wprowadzenia produktu na rynek, wymagana znajomość wytw. MEMS, brak standardów (każde nowe urządzenie nowe procesy), kłopotliwe łączenie z elektroniką http://www.isi.edu/efab/need.html EFAB 34

http://www.microfabrica.com/ Technologia EFAB Szybkie przejście od modeli 3D CAD (WYSIWYG) reprezentujących urządzenie ( wiem, jak coś ma działać; nie znam technologii ) do prototypu urządzenia. Możliwe szybkie wytworzenie mikrourządzeń, których wcześniej nie dało się wytworzyć. 23-warstwowy transformator zbudowany w EFAB na podłożu izolowanym (MEMGen Corporation) 35

Technologia EFAB - procesy 36

http://www.microfabrica.com/ Technologia EFAB Relative to conventional micromachining, no customer s design is too complex and no part is too small from Microfabrica website Mrówka leżąca na 12-warstwowym mikrołańcuchu z niezależnie poruszanymi ogniwami. Wysokość ~100um (grubość kartki papieru) Materiał: nikiel. Pojedynczy proces 37

http://www.ewp.rpi.edu/hartford/~streej/fwm/project/references/efab_white_paper_microfabrica.pdf Technologia EFAB Krzemowy pojemnościowy czujnik ciśnienia: technologia MEMS zawiera dwie płytki Si, które musza być zbondowane wymaga obudowy Czujnik w technologii EFAB: Większa powierzchnia aktywna > pojemność Konstrukcja 3D Obudowa samopakująca 38

http://www.ewp.rpi.edu/hartford/~streej/fwm/project/references/efab_white_paper_microfabrica.pdf Technologia EFAB EFAB: model i wykonanie urządzenia RF na 30 GHz Fale EM o dużych częst. są bardzo wrażliwe na geometrię przewodnika wpływ na propagację. Za pomocą EFAB można tworzyć linie transmisyjne, sprzęgacze, linie opóźniające, anteny, filtry. 39

http://www.ewp.rpi.edu/hartford/~streej/fwm/project/references/efab_white_paper_microfabrica.pdf Technologia EFAB EFAB: model i wykonanie urządzenia RF na 30 GHz 40

Materiały dodatkowe, źródła W. Maziarz, Wspołczesne czujniki ciśnienia, Elektronik 1 (2002) 45 49. N. Maluf, An Introduction to Microelectromechanical Systems Engineering, Artech House, Inc., Boston, 2000. M. Gad-el-Hak, (red.), The MEMS handbook, The Mechanical Engineering Handbook Series. CRC Press, Boca Raton, 2002. S. Beeby, G. Ensell, M. Kraft i N. White, MEMS Mechanical Sensors, Microelectromechanical Systems (MEMS) Series. Artech House, Inc., Boston, 2004. J. Dziuban, Technologia i zastosowanie mikromechanicznych struktur krzemowych i krzemowoszklanych w technice mikrosystemow, Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław, 2002. J. M. Łysko, Anizotropia trawienia i piezorezystancji w kryształach połprzewodnikow. Przykłady wykorzystania w przyrządach MEMS, Instytut Technologii Elektronowej, Warszawa, 2004. Michael A. Cullinan i inni, Scaling electromechanical sensors down to the nanoscale, Sensors and Actuators A 187 (2012) 162 173 http://mems.sandia.gov/about/actuators.html http://www.bacteria-world.com/what-are-mems.htm http://e-fab.com/ http://www.dei.uminho.pt/pessoas/biomedica/ultra/01258171.pdf FILM: metoda LIGA - http://www.youtube.com/watch?v=oi0hgo_dmsg http://www.memsnet.org/mems/fabrication.html 41