RZECZPOSPOLITA ( 12) OPIS PATENTOWY 19) PL 11) POLSKA 1 3 B1. (2)D ata zgłoszenia:

Wielkość: px
Rozpocząć pokaz od strony:

Download "RZECZPOSPOLITA ( 12) OPIS PATENTOWY 19) PL 11) POLSKA 1 3 B1. (2)D ata zgłoszenia:"

Transkrypt

1 RZECZPOSPOLITA ( 12) OPIS PATENTOWY 19) PL 11) POLSKA 1 3 B1 (21) Numer zgłoszenia: (51) IntCl5: C25D 3/22 Urząd Patentowy R zeczypospolitej Polskiej (2)D ata zgłoszenia: Kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopow ych cynku z niklem i/lub kobaltem 4 3 Z głoszenie o g łoszono: BUP 0 6/ ) U p raw n io n y i tw ó rc a w ynalazku: Stanisław Szczepaniak, Kielce, PL (45) O u d zielen iu p a te n tu ogłoszono: W UP 12/91 PL B1 Kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lub kobaltem, zawierająca co najmniej jeden rozpuszczalny związek cynku o stężeniu 5-50 g/dm 3, chlorek amonowy i/lub potasowy i/lub sodowy w stężeniu g/dm 3 zależnie od potrzeby co najmniej jeden rozpuszczalny związek niklu i/lub kobaltu w stężeniu 0-50 g/dm 3. a także zależnie od potrzeby przynajmniej jeden ze stosowanych niejonowych i/lub jonowych związków powierzchniowo-czynnych w stężeniu do 2 0 g/dm 3, oraz zależnie od potrzeby aromatyczne i/lu b alifatyczne aldehydy i/lub ketony w stężeniu do 2 g/dm 3, znamienna tym, że zawiera w ilości 0, g/dm 3 aryloamidokarboksylowy kwas lub jego sól, atom chlorowca, rodnik alkilowy lub alkoksyalkilowy o 1-4 atomach węgla, R3 jest wodorem lub alkilem o 1-4 atom ach węgla, n oznacza liczbę naturalną 1-10, Me oznacza wodór, amoniak, aminy, alkanoloaminy, sód, potas lub lit, oraz zawiera w ilości 0,05-5 g/dm 3 oligomer o ogólnym wzorze 2, w którym R4, R5, R6, R7 są niezależnie wodorem, alkilem lub hydroksyalkilem o zawartości 1-4 atomów węgla, m jest liczbą całkowitą 1-4, p jest liczbą wzór 2

2 KĄPIEL DO GALWANICZNEGO NAKŁADANIA BŁYSZCZĄCYCH POWŁOK CYNKOWYCH LUB STOPOWYCH CYNKU Z NIKLEM I/LUB KOBALTEM Z a s t r z e ż e n i e p a t e n t o w e Kąpiel do galwaniczego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lu b kobaltem, zaw ierająca co najmniej jeden rozpuszczalny związek cynku o stę ż e - n iu 5-50 g/dm³, chlorek amonowy i/lu b potasowy i/lu b sodowy w stężen iu g / dm ³zależn ie od potrzeby co najmniej jeden rozpuszczalny związek niklu i/lu b kobaltu w stę ż e - niu 0-50 g/dm³, a także zależnie od potrzeby przynajmniej jeden ze stosowanych niejonowych i/lu b jonowych związków powierzchniowo czynnych w stężeniu do 20 g/dm³, oraz zależnie od potrzeby aromatyczne i/lu b a lifa ty c z n e aldehydy i/lu b ketony w stężen iu do 2g / dm³, z n a m i e n n a tym, że zawiera w ilo ś c i 0,1-10 g/dm³ aryloamidokarboksylowy kwas lub jego só l, o ogólnym wzorze 1, w którym R1 i R2 oznaczają n iezależn ie wodór, atom chlorowca, rodnik alkilow y lub a lk o k sy alk il owy o 1-4 atomach węgla, R3 je s t wodorem lub a l- kilem o 1-4 atomach węgla, n oznacza liczbę naturalną 1-10, Me oznacza wodór, amoniak, aminy, alkanoloaminy, sód, potas lub l i t, oraz zawiera w ilo ś c i 0, 05-5 g/dm³ oligom er o ogólnym wzorze 2, w którym R4, R5, R6, R7 są niezależnie wodorem, alkilem lub hydroksyalkilem o zawartości 1-4 atomów węgla, m je s t liczbą całkowitą 1-4, p je s t lic z b ą Przedmiotem wynalazku je s t kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lu b kobaltem, zwłaszcza o dużej szybkości nakładania. Stosowane dotychczas kąpiele chlorkowe do galwanicznego cynkowania w roztworach słabo- kwaśnych, znajdujące zastosowanie szczególnie przy pokrywaniu żeliw a, d e ta li sprężynujących oraz d e ta li od których wymaga s ię wysokiego połysku, są bardzo agresywne w stosunku do urządzeń galwanicznych wykonywanych zwykle z żelaza i jego stopów. W konsekwencji prowadzi to do szybkiego zniszczenia urządzeń przez korozję. W wyniku tego procesu następuje zanieczyszczenie k ą p ie li, co wiąże s ię z koniecznością usuwania z n ie j związków szkodliwych a w drastycznych przypadkach wylaniem k ą p ie li. Wymienione powyżej niekorzystne, uboczne procesy zwiększają w ielokrotnie koszty procesu cynkowania. Znane są kąpiele do galwanicznego cynkowania w roztworach słabokwaśnych. Kąpiele te w swoim składzie zaw ierają niektóre związki bifunkcyjne, będące jednocześnie dodatkami b la - skotwórczymi i inhibitoram i k o ro zji. I tak, w o p isie patentowym RFN nr przedstawiona je s t kąpiel do e le k tro lity c z - nego cynkowania przy ph 3,5 do 7,5, zaw ierająca niekarbonylowe czwartorzędowe związki p i- rydyni owe i produkty kondensacji kwasów naftalenosulfonowych z formaldehydem. W o p isie patentowym RFN nr opisana je s t kąpiel do cynkowania, pracująca w roztworze mającym ph od 2 do 9. W je j skład wchodzą te ż związki powierzchniowo czynne i niekarbonylowe czwartorzędowe heterocykliczne związki wybrane z grupy pirydyny, izochinoliny, pirymidyny, im i- dazolu, im idazoliny, p ira lu, p irazo lu, pirazyny i innych. Znana je s t również z opisu patentowego W ielkiej B rytanii n r kąpiel o p arta na chlorku potasowym, k tóra jako dodatki wybłyszczające zawiera niejonowe związki powierzchniowo czynne lub p o lie te ry, aromatyczne nienasycone kwasy i niekarbonylowe związki h e te ro - cykliczne zaw ierające azo t. W o p isie patentowym USA nr przedstawiona je s t kąpiel do cynkowania o p arta na chlorku potasowym, k tó ra zawiera anionowe i/lu b amfoteryczne związki powierzchniowo czynne i heterocykliczne kwasy o p ie rśc ie n iu pirydyny, izochinoliny, p iro lu, piperydyny i innych oraz aromatyczne kwasy i/lu b ketony.

3 Z polskiego opisu patentowego nr znana je s t kąpiel do cynkowania, k tó ra zaw iera co najmniej jeden związek cynku dostarczający jonów cynku do cynkowania, co najm niej jeden środek powierzchniowo czynny, rozpuszczalny w k ą p ie li, z grupy związków obejmujących rozpuszczalne w k ą p ie li p o lie te ry, podstawione p o lie te ry oraz podstawione niearomatyczne azotowe heterocykliczne środki powierzchniowo czynne, oraz co najmniej jeden aromatyczny n ie k a r- bonylowy, zaw ierający azot, związek heterocykliczny. Także, z polskiego opisu patentowego nr , znana je st kąpiel do galwanicznego cynkowania z lustrzanym połyskiem, oparta na rozpuszczalnych związkach cynku i chlorku amonu. Zawiera ona liniowe oligomery, niejonowe związki powierzchniowo czynne, eteryfikow any p o li- metylenotiomocznik oraz aromatyczne aldehydy i/lu b ketony. Znana je st także z polskiego opisu patentowego n r kąpiel do cynkowania zaw ierają c a halogenek cztero-alkilo-am oniow y, niejonowe związki powierzchniowo czynne i substancje blaskotwórcze będące pochodną ete ru alkilowo-arylowego. Praca te j k ą p ie li odbywa s ię przy g ę sto śc i prądu nie przekraczającej 4 A/dm². Kąpiel do cynkowania przedstawiona w polskim o p isie patentowym nr , obok związków niejonowych i halogenków aminy trzeciorzędowej zawiera e stry kwasów aromatycznych. Pra ca t e j kąp ieli odbywa się przy gęstościach prądu nie przekraczających 4 A/dm². W opolskim o p isie patentowym n r przedstawiono kąpiel zaw ierającą rozpuszczalne sole cynku, chlorek amonowy, niejonowy środek powierzchniowo czynny oraz aromatyczny a ld e - hyd i/lu b keton. Zaś w polskim o p isie patentowym nr opisana je s t słabokwaśna kąp ie l do cynkowania z połyskiem zaw ierająca chlorki cynku, sole słabych kwasów organicznych i nieorganicznych, związki karbonylowe i/lu b karboksylowe oraz produkty kopolim eryzacji tlen k u propylenu z tlenkiem etylenu a także pochodne pentanonu-2. Z opisu patentowego RFN nr znana je s t słabokwaśna kąpiel do cynkowania, będąca roztworem wodnym zawierającym sole cynku, produkty polim eryzacji pochodne od tlen k u ety - lenu, wybłyszczacze i środki powierzchniowo czynne. Produktami polim eryzacji, wchodzącymi w skład te j k ąp ieli są polimery tlenku propylenu i/lu b kopolimery tlenku propylenu i tlen k u etylenu o zaw artości tlenku etylenu do 25% wagowych maksimum. Ponadto zawiera jeden lub w ięcej aromatycznych związków karbonylowych. Z opisu patentowego USA nr znana je s t jeszcze inna kwaśna k ąp iel do cynkowan ia. Zawiera ona só l cynku, chlorek amonowy oraz a lk il lub propoxylowaną só l amoniową, n a jle p ie j propoxylowaną sól trialkiloam oniow ą, a także a lk il o niższym ciężarze m olekularnym zastępowany kwasem sulfono-naftenowym. W celu zwiększenia odporności korozyjnej osadzanych powłok cynkowych, do znanych kąpiel i cynkowych wprowadzane są różnorakie rozpuszczalne m etale, które w określonych warunkach współosadzają s ię z cynkiem tworząc stopy cynku. Do najczęściej dodawanych związków należą związki niklu, kobaltu, żelaza, chromu, manganu, molibdenu, wolframu i inne. Wprowadzane są do k ąp ieli w p o staci s o li, tlenków, wodorotlenków, a także przez bezpośrednie rozpuszczenie z anody dowolnego metalu lub stopu. Powłoki stopowe charakteryzują się wysoką odpornością korozyjną, dobrą plastycznością i przyczepnością do żelaza i s t a l i oraz znakomitą przyczepnością do nich farb i lakierów. Z opisów patentowych USA, np. nr , , , 4 O64 320, , , , , , , , , znane są kąp ie le galwaniczne do osadzania powłok stopowych. Powłoki osadzane z k ą p ie li przedstawionych w powyższych opisach patentowych posiadają zwiększoną odporność korozyjną w stosunku do powłok z czystego cynku. Są te ż mało przyczepne i szare, a co najwyżej pół-błyszczące i nie nadają się do celów dekoracyjnych. W opisie patentowym USA nr prezentowany je s t proces e lek tro lity czn eg o osadzania stopu cynk - n ik ie l z połyskiem, który nadaje się do celów dekoracyjnych. Jako wybłyszczacz osadzanego stopu cynk - n ik ie l zastosowano polioksyetylowane środki powierzchniowo czynne w ilo ś c i 5-50 g/dm³ i aromatyczne związki karbonylowe w ilo ś c i 0, 05-4 g/dm³.

4 Z opisu patentowego W ielkiej B ry ta n ii nr znana je s t k ąp iel do osadzania powłok stopowych cynku z niklem. Jej ph je s t od 4,7 do 8,0. Zawiera jony cynku, n iklu i amonium oraz polioksyalkilowany środek powierzchniowo czynny. Ponadto, znane kąpiele chlorkowe wymagają stałego stosowania dodatków poprawiających ja - kość otrzymywanych powłok. Związki te wymagają często zachowania specyficznych warunków prowadzenia procesu cynkowania, co j e s t czasem kłopotliwe w określonych warunkach roboczych galw anizerni. Wwiększości przypadków, zakres pracy tych k ą p ie li je s t niew ystarczający i z reg u ły nie przekracza 5 A/dm². Wobec niewątpliwie uzasadnionych wskazań do stosowania w procesie galwanicznego cynkowan ia kąpieli chlorkowych, powstała konieczność opracowania ta k ie j k ą p ie li chlorkowej, która zw ielokrotniłaby pozytywne i pożądane efekty stosowanych dotychczas k ą p ie li, wykazując jednocześnie znikome działania uboczne. Celem wynalazku je s t opracowanie k ą p ie li do galwanicznego cynkowania z połyskiem, zwłaszcza o dużej szybkości nakładania powłok. Dalszym celem je s t aby k ąp iel słu ż y ła także do nakładania powłok stopowych cynku z niklem i/lu b kobaltem, aby k ąp iel posiadała mniejszą agresywność w stosunku do m etali, szczególnie do żelaza, oraz aby um ożliwiała nakładanie błyszczących, gładkich i w miarę plastycznych powłok. Ponadto, k ą p ie l powinna mieć dodatki wybłyszczające stab iln e przez dłuższy okres i nie kompleksujące cynku oraz stosowane w n iewielkim stężeniu. Cel ten osiągnięto przez opracowanie k ąp ieli do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lu b kobaltem, zaw ierającej co najmniej je den rozpuszczalny związek cynku o stę ż e n iu 5-50 g/dm³, chlorek amonowy i/lu b potasowy i/lu b sodowy w stężeniu g/dm³, zależnie od potrzeby co najmniej jeden rozpuszczalny związek niklu i/lu b kobaltu w stężen iu 0-50 g/dm³, a także zależnie od potrzeby przynajmniej jeden z powszechnie stosowanych niejonowych i/lu b jonowych związków powierzchniowo czynnych w stężeniu do 20 g/dm³, oraz zależnie od potrzeby aromatyczne i/lu b a l i f a - tyczne aldehydy i/lu b ketony w stężen iu do 2 g/dm³. Is to ta wynalazku polega na tym, że kąp iel zawiera ilo ś c i 0,1-10 g/dm³ aryloamidokarboksylowy kwas lub jego sól, o ogólnym wzorze 1, w którym R1 i R2 oznaczają n iezależnie wodów, atom chlorowca, rodnik alkilow y lub alkoksyalkilowy o1-4 atomach węgla, R3 je s t wodorem lub alkilem o 1-4 atomach węgla, n oznacza liczbę n atu raln ą 1-10, Me oznacza wodór, amoniak, aminy, alkanoloaminy, sód, potas lub l i t, oraz zawiera w ilo ś c i 0, g/dm³ oligomer o ogólnym wzorze 2, w którym R4, R5, R6, R7 są n iezależn ie wodorem, a l - kilem lub hydroksyalkilem o zaw artości 1-4 atomów węgla, m je s t lic z b ą całkow itą 1-4, zaś p je st liczbą Jako substancje uzupełniające wyżej wymienioną kąpiel używa s ię dodatków powszechnie stosowanych w tego typu kąpielach. Przykładowo, są to związki wielkocząsteczkowe naturalne i syntetyczne tak ie jak klej s to la r s k i, żelatyna, alkohol poliwinylowy, p o liw in y lo p ire lidon, kwasy alifaty czn e i/lu b aromatyczne, czwartorzędowe związki h eterocykliczne, pirydyna i je j pochodne, tiomocznik, tia z o le i inne. Kąpiel według wynalazku charakteryzuje się dużą szybkością nakładania i szerokim zakresem osadzania, przy gęstości prądu 1-15 A/dm², małą agresywnością w stosunku do m etali, a szczególnie do żelaza. Kąpiel według wynalazku może być stosowana także z innymi dodatkami wybłyszczającymi, powszechnie używanymi dla zapobieżenia przypaleniem, pittingow i, zwiększenia połysku, gładkości, ewentualnie usunięcia m etali ciężkich z k ą p ie li. Kąpiel może pracować w sposób c ią g ły lub przerywany i od czasu do czasu składniki k ąp ieli muszą być uzupełniane w oparciu o wyniki przeprowadzonych la b o ra to ry jn ie an aliz i testów. U zupełniające składniki mogą być podawane pojedynczo lub w zestaw ie. Ponadto, kąpiel według wynalazku je s t łatw a w obsłudze, mało agresywna i tym samym pros ta w konserwacji, a nadto może być używana w urządzeniach obrotowych i stacjonarnych. Osadzanie powłok z kąp ieli według wynalazku prowadzi się w k ie lic h u i bębnie zanurzeniowym lub w automacie, w przedziale tem peratur od K, z mieszaniem lub bez mie-

5 szania. Ilo ść cynku w k ą p ie li nie je s t decydująca i może wahać s ię od 5 do 50 g/dm³, zaś stężenie chlorku amonu i/lu b potasu i/lu b sodu może być zawarte od 100 do 250 g/dm³, korzy stn ie od 100 do 220. Kąpiel według wynalazku je s t zilustrow ana w poniżej podanych przykładach: P r z y k ł a d I. Cynku chlorek ZnC g/dm³ Amonu chlorek NH4 C g/dm³ Alkohol cetylowy oksyetylowany 15 molami tlenku etylenu. 4g/dm³ Benzylidenoaceton... 0,2 g/dm³ W oda... w uzupełnieniu do 1 dm³ Kąpiel powyższa z o sta ła przetestowana w komórce Hulla, gdzie anodą była płytka cynkowa o zawartości 99,95% Zn, a katodą odtłuszczona i wytrawiona p ły tk a stalow a. Przez komórkę przepuszczono prąd o natężeniu 3 A, w czasie 400 s, przy tem peraturze 300 4±1K przy wykorzy stan iu m ieszania magnetycznego. W wyniku uzyskano powłokę gładką i błyszczącą w zakres ie gęstości prądu 0,3-0,8 A/dm² i 1, 4-4 A/dm². W pozostałych zakresach gęstości prądu powłoki cynkowe były szare, nie nadające się do celów przemysłowych. P r z y k ł a d I I. Do k ą p ie li opisanej w przykładzie 1 dodano 5 g/dm³ so li t r i e t a - noloaminowej kwasu benzoiloamidowalerianowego i 0,8 g/dm³ oligomeru o ogólnym wzorze 2, w którym R4, R5, R6, R7 są wodorami, m = 2, zaś p około 12. Kąpiel przetestowano w tych samych warunkach jak w przykładzie I. W wyniku e le k tro liz y uzyskano powłokę cynkową pl asty - czną o wysokim połysku w całym zakresie p ły tk i, przy gęsto ści prądu 1-15 A/dm². P r z y k ł a d I I I. Do k ą p ie li przedstawionej w przykładzie I I dodano 40 g/dm³ chlorku niklawego NiC12 6H20 i przetestowano ją w warunkach ja k ie podano w przykładzie I. W wyniku otrzymano błyszczącą powłokę stopową cynku z niklem przy gęstościach prądu w za k resie 0-6 A/dm a szarą i przypaloną przy gęstościach prądu powyżej 6 A/dm². W wyniku analizy stwierdzono, że osadzona powłoka stopowa zaw ierała 4,7% Ni. Odporność korozyjna otrzymanej powłoki stopowej, testowanej w komorze solnej zgodnie z zaleceniami normy PN-76/H-O46O3, była dwukrotnie wyższa od powłoki cynkowej otrzymanej z kąp ieli przedstawionej w przykładzie I I. P r z y k ł a d IV. Cynku octan Zn(CH3COO) g/dm³ Amonu chlorek NH4C g/dm³ Potasu chlorek KC g/dm³ Alkohol oleinowy oksyetylowany 22 molami tlenku etylenu... 5g/dm³ Benzylidenoaceton... 0,1 g/dm³ Aldehyd p-chlorobenzoesowy... 0,1 g/dm³ W oda... w uzupełnieniu do 1 dm³ Powyższa kąpiel z o sta ła przetestowana w komórce Hulla, przy użyciu anody z cynku elektrolitycznego i p ły tk i stalow ej jako katody. W tra k c ie e le k tro liz y przepuszczano prąd o natężeniu 2 A przez 600 s, przy temperaturze 300 K. W wyniku uzyskano powłokę cynkową sza rą w zakresie g ęsto ści prądu 0-0,3 A/dm² i 0,8-1,3 A/dm² oraz błyszczącą w zakresie gęstości prądu do 4,5 A/dm². Kąpiel ta nie nadaje się do celów przemysłowych. P r z y k ł a d V. Do k ąp ieli opisanej w przykładzie IV dodano 3,5 g/dm³ so li d ie ta - noloaminowej kwasu p-metoksy-benzoiloamidokapronowego i 1,2 g/dm³ oligomeru o ogólnym wzorze 2, gdzie R4 i R5 są wodorami a R6 i R7 są grupami metylowymi, m = 3 zaś p je s t około 8. Kąpiel przetestowano w tych samych warunkach jak podano w przykładzie IV. Wwyniku e le k tro - liz y uzyskano plastyczne powłoki błyszczące na c ałej płytce w zak resie gęstości prądu 1-10 A/dm2. P r z y k ł a d VI. Do k ąp ieli przedstawionej w przykładzie IV dodano 25 g/dm³ch lo r- ku kobaltawego CoC12 6H2O i testo w an o w warunkach jak podano w przykładzie IV. W wyniku otrzymano błyszczącą powłokę stopową cynku z kobaltem w zakresie g ęsto ści prądu O - 5 A/dm² i przypaloną w zakresie wyższych gęstości prądu. W wyniku an alizy ustalono, że osadzona powłoka stopowa zaw ierała 0,65% kobaltu, a cynk stanowił uzupełnienie do 100%. Odporność

6 korozyjna otrzymanej powłoki stopowej, testowanej w komorze solnej zgodnie z zaleceniam i normy PN-76/H była około 1,5 raza wyższa od odporności powłoki cynkowej otrzymanej z k ą p ie li przedstawionej w przykładzie V. Jak wynika z powyższych przykładów, z k ąp ieli według wynalazku uzyskuje s ię powłoki cynkowe równomiernie błyszczące, w szerokim zakresie gęstości prądu - aż do kilkunastu A/dm², co w praktyce przemysłowej umożliwia dwu- a nawet trzykrotne skrócenie czasu cynkowania przy zachowaniu t e j samej grubości powłoki. Ponadto charakterystyczne składniki k ą p ie li według wynalazku są dobrymi inhibitoram i korozji w słabokwaśnym środowisku c h lo r- ków i kilkukrotnie hamują korozję żelaza, a tym samym skutecznie zwiększają żywotność urządzeń galw anizerskich i trw ałość k ą p ie li. wzór 1 wzór 2 Zakład Wydawnictw UP RP. Nakład 100 egz. Cena 3000 zł

o d ro z m ia r u /p o w y ż e j 1 0 c m d ł c m śr e d n ic y 5 a ) o ś r e d n ic y 2,5 5 c m 5 b ) o śr e d n ic y 5 c m 1 0 c m 8

o d ro z m ia r u /p o w y ż e j 1 0 c m d ł c m śr e d n ic y 5 a ) o ś r e d n ic y 2,5 5 c m 5 b ) o śr e d n ic y 5 c m 1 0 c m 8 T A B E L A O C E N Y P R O C E N T O W E J T R W A Ł E G O U S Z C Z E R B K U N A Z D R O W IU R o d z a j u s z k o d z e ń c ia ła P r o c e n t t r w a łe g o u s z c z e r b k u n a z d r o w iu

Bardziej szczegółowo

PL B BUP 10/06

PL B BUP 10/06 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 213136 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 371108 (51) Int.Cl. C25D 3/22 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 09.11.2004

Bardziej szczegółowo

PL B1. SZCZEPANIAK STANISŁAW, Kielce, PL SZCZEPANIAK REMIGIUSZ, Kielce, PL BUP 25/08

PL B1. SZCZEPANIAK STANISŁAW, Kielce, PL SZCZEPANIAK REMIGIUSZ, Kielce, PL BUP 25/08 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 209564 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 382600 (51) Int.Cl. C25D 3/22 (2006.01) C25D 3/56 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data

Bardziej szczegółowo

(57) czących pow łok mosiężnych, zwłaszcza na przedm (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1 PL B1

(57) czących pow łok mosiężnych, zwłaszcza na przedm (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1 PL B1 R Z E C Z P O S P O L IT A PO LSK A (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 162893 (13) B1 U rząd Patentow y R zeczypospolitej Polskiej (2 1) N um er zgłoszenia: 284976 (22) D ata zgłoszenia: 27. 04. 1990 (51)

Bardziej szczegółowo

PL 213904 B1. Elektrolityczna, nanostrukturalna powłoka kompozytowa o małym współczynniku tarcia, zużyciu ściernym i korozji

PL 213904 B1. Elektrolityczna, nanostrukturalna powłoka kompozytowa o małym współczynniku tarcia, zużyciu ściernym i korozji PL 213904 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 213904 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 390004 (51) Int.Cl. C25D 3/12 (2006.01) C25D 15/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej

Bardziej szczegółowo

Echa Przeszłości 11,

Echa Przeszłości 11, Irena Makarczyk Międzynarodowa Konferencja: "Dzieje wyznaniowe obu części Prus w epoce nowożytnej: region Europy Wschodniej jako obszar komunikacji międzywyznaniowej", Elbląg 20-23 września 2009 roku Echa

Bardziej szczegółowo

(19) PL (11) (13)B1

(19) PL (11) (13)B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (12) OPIS PATENTOWY (21) Numer zgłoszenia: 324710 (22) Data zgłoszenia: 05.02.1998 (19) PL (11)189348 (13)B1 (51) IntCl7 C08L 23/06 C08J

Bardziej szczegółowo

ZARZĄDZENIE NR 72/2019 WÓJTA GMINY CZERNIKOWO z dnia 29 sierpnia 2019 r.

ZARZĄDZENIE NR 72/2019 WÓJTA GMINY CZERNIKOWO z dnia 29 sierpnia 2019 r. ZARZĄDZENIE NR 72/2019 WÓJTA GMINY CZERNIKOWO z dnia 29 sierpnia 2019 r. w sprawie zmian w budżecie na 2019 rok Na podstawie art.257 pkt 1 i pkt 3 ustawy z dnia 27 sierpnia 2009r o finansach publicznych

Bardziej szczegółowo

(54) Kopolimer styrenowy z grupami funkcyjnymi i sposób wprowadzania grup funkcyjnych kopolimeru styrenowego. (74) Pełnomocnik:

(54) Kopolimer styrenowy z grupami funkcyjnymi i sposób wprowadzania grup funkcyjnych kopolimeru styrenowego. (74) Pełnomocnik: RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 185031 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21 ) Numer zgłoszenia: 324650 (22) Data zgłoszenia: 12.07.1996 (86) Data i numer zgłoszenia

Bardziej szczegółowo

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 160056 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 276128 (22) Data zgłoszenia: 29.11.1988 (51) IntCl5: C09B 67/20 C09B

Bardziej szczegółowo

PL 203790 B1. Uniwersytet Śląski w Katowicach,Katowice,PL 03.10.2005 BUP 20/05. Andrzej Posmyk,Katowice,PL 30.11.2009 WUP 11/09 RZECZPOSPOLITA POLSKA

PL 203790 B1. Uniwersytet Śląski w Katowicach,Katowice,PL 03.10.2005 BUP 20/05. Andrzej Posmyk,Katowice,PL 30.11.2009 WUP 11/09 RZECZPOSPOLITA POLSKA RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 203790 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 366689 (51) Int.Cl. C25D 5/18 (2006.01) C25D 11/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)

Bardziej szczegółowo

Sposób otrzymywania dwutlenku tytanu oraz tytanianów litu i baru z czterochlorku tytanu

Sposób otrzymywania dwutlenku tytanu oraz tytanianów litu i baru z czterochlorku tytanu RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 198039 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 350109 (51) Int.Cl. C01G 23/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 12.10.2001

Bardziej szczegółowo

(12) TŁUMACZENIE PATENTU EUROPEJSKIEGO (19) PL (11) PL/EP (96) Data i numer zgłoszenia patentu europejskiego:

(12) TŁUMACZENIE PATENTU EUROPEJSKIEGO (19) PL (11) PL/EP (96) Data i numer zgłoszenia patentu europejskiego: RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) TŁUMACZENIE PATENTU EUROPEJSKIEGO (19) PL (11) PL/EP 2610371 (96) Data i numer zgłoszenia patentu europejskiego: 27.12.2012 12460097.4 (13) (51) T3 Int.Cl. C25D 3/56 (2006.01)

Bardziej szczegółowo

Zagadnienia z chemii na egzamin wstępny kierunek Technik Farmaceutyczny Szkoła Policealna im. J. Romanowskiej

Zagadnienia z chemii na egzamin wstępny kierunek Technik Farmaceutyczny Szkoła Policealna im. J. Romanowskiej Zagadnienia z chemii na egzamin wstępny kierunek Technik Farmaceutyczny Szkoła Policealna im. J. Romanowskiej 1) Podstawowe prawa i pojęcia chemiczne 2) Roztwory (zadania rachunkowe zbiór zadań Pazdro

Bardziej szczegółowo

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 162995 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 283854 (22) Data zgłoszenia: 16.02.1990 (51) IntCl5: C05D 9/02 C05G

Bardziej szczegółowo

O bjaśn ien ia. do in form acji o przeb iegu w yk on an ia plan u finansow ego za I -sze półrocze 2018r.

O bjaśn ien ia. do in form acji o przeb iegu w yk on an ia plan u finansow ego za I -sze półrocze 2018r. O bjaśn ien ia do in form acji o przeb iegu w yk on an ia plan u finansow ego za I -sze półrocze 2018r. M ie jsk o -G m in n y O śro d e k K u ltu ry S p o rtu i R ek reacji w Z d zie sz o w ic ach je

Bardziej szczegółowo

PL B1. AKZO NOBEL COATINGS Sp. z o.o., Włocławek,PL BUP 11/ WUP 07/08. Marek Pawlicki,Włocławek,PL

PL B1. AKZO NOBEL COATINGS Sp. z o.o., Włocławek,PL BUP 11/ WUP 07/08. Marek Pawlicki,Włocławek,PL RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 198634 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 363728 (22) Data zgłoszenia: 26.11.2003 (51) Int.Cl. C09D 167/00 (2006.01)

Bardziej szczegółowo

Chemia nieorganiczna Zadanie Poziom: podstawowy

Chemia nieorganiczna Zadanie Poziom: podstawowy Zadanie 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 (Nazwisko i imię) Punkty Razem pkt % Chemia nieorganiczna Zadanie 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 Poziom: podstawowy Punkty Zadanie 1. (1 pkt.) W podanym

Bardziej szczegółowo

ZARZĄDZENIE NR 43/2019 WÓJTA GMINY CZERNIKOWO z dnia 24 maja 2019 r.

ZARZĄDZENIE NR 43/2019 WÓJTA GMINY CZERNIKOWO z dnia 24 maja 2019 r. ZARZĄDZENIE NR 43/2019 WÓJTA GMINY CZERNIKOWO z dnia 24 maja 2019 r. w sprawie zmian w budżecie na 2019 rok Na podstawie art.257 pkt 1 i pkt 3 ustawy z dnia 27 sierpnia 2009r o finansach publicznych (

Bardziej szczegółowo

PL B1. SZCZEPANIAK STANISŁAW, Kielce, PL SZCZEPANIAK REMIGIUSZ, Kielce, PL BUP 10/06

PL B1. SZCZEPANIAK STANISŁAW, Kielce, PL SZCZEPANIAK REMIGIUSZ, Kielce, PL BUP 10/06 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 207675 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 371109 (22) Data zgłoszenia: 09.11.2004 (51) Int.Cl. G01N 33/00 (2006.01)

Bardziej szczegółowo

6. ph i ELEKTROLITY. 6. ph i elektrolity

6. ph i ELEKTROLITY. 6. ph i elektrolity 6. ph i ELEKTROLITY 31 6. ph i elektrolity 6.1. Oblicz ph roztworu zawierającego 0,365 g HCl w 1,0 dm 3 roztworu. Odp 2,00 6.2. Oblicz ph 0,0050 molowego roztworu wodorotlenku baru (α = 1,00). Odp. 12,00

Bardziej szczegółowo

SurTec 865 miedź kwaśna

SurTec 865 miedź kwaśna SurTec 865 miedź kwaśna właściwości w niskich gęstościach prądu tworzy jasne, błyszczące powłoki powłoki drobnoziarniste, elastyczne nadaje się do elementów o skompilkowanych kształtach stosowana w liniach

Bardziej szczegółowo

OPIS PATENTOWY (P ) Zgłoszenie ogłoszono: Opis patentowy opublikowano:

OPIS PATENTOWY (P ) Zgłoszenie ogłoszono: Opis patentowy opublikowano: RZECZPOSPOLITA POLSKA OPIS PATENTOWY 154 999 Patent dodatkowy do patentu n r - - - Zgłoszono: 88 03 04 (P. 271043) Int. Cl.5 H01C 17/18 //C 2 3 C 18/36 Pierw szeństw o - URZĄD PATENTOWY RP Zgłoszenie ogłoszono:

Bardziej szczegółowo

Ćwiczenie 1: Wyznaczanie warunków odporności, korozji i pasywności metali

Ćwiczenie 1: Wyznaczanie warunków odporności, korozji i pasywności metali Ćwiczenie 1: Wyznaczanie warunków odporności, korozji i pasywności metali Wymagane wiadomości Podstawy korozji elektrochemicznej, wykresy E-pH. Wprowadzenie Główną przyczyną zniszczeń materiałów metalicznych

Bardziej szczegółowo

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 169370 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej ( 2 1) Numer zgłoszenia: 285544 (22) Data zgłoszenia. 08.06.1990 (51) IntCl6 C11D 1/83 (54)

Bardziej szczegółowo

Ś Ó Ą Ó Ó Ż ć Ó Ż Ó Ą Ź Ź Ó Ó Ó Ź Ó Ź Ó

Ś Ó Ą Ó Ó Ż ć Ó Ż Ó Ą Ź Ź Ó Ó Ó Ź Ó Ź Ó Ś Ó Ą Ó Ó Ż ć Ó Ż Ó Ą Ź Ź Ó Ó Ó Ź Ó Ź Ó Ź Ż Ż Ć ć Ź Ź Ż Ó Ó Ź ć ć Ż Ź Ó Ą Ó ć ć Ż ć Ó ć ć Ź ć ć ć Ż Ś Ć Ę Ć ć Ę Ó ć Ż Ż Ę Ż Ę Ź ć Ó Ó Ś ć Ł Ś Ó ć Ż Ś Ó Ó Ś Ż ć ć Ó Ó ć Ś Ó Ś Ć ć Ó Ó Ó Ą Ą Ą Ą Ą Ą Ą Ą ź

Bardziej szczegółowo

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 162013 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 28 3 8 2 5 (51) IntCl5: C 07D 499/76 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 16.02.1990

Bardziej szczegółowo

Laboratorium Ochrony przed Korozją. GALWANOTECHNIKA II Ćw. 6: ANODOWE OKSYDOWANIE ALUMINIUM

Laboratorium Ochrony przed Korozją. GALWANOTECHNIKA II Ćw. 6: ANODOWE OKSYDOWANIE ALUMINIUM Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów Laboratorium Ochrony przed Korozją GALWANOTECHNIKA II Ćw. 6: ANODOWE

Bardziej szczegółowo

ć ć Ł

ć ć Ł Ł Ą Ę Ó Ą Ę Ż Ę Ś ć ć Ł Ą ĘŚĆ ć Ś ć ć ć ć ć Ś ć ć ć ć ć ć ć ć ć ć ć ć ć ć ć Ć ć ć ć ć Ł Ś ć ć ć ć ć ć ć ć ć ć Ł Ś ć ć ć ć ć Ć ć ć ć Ć ć ć ć ć ć ć Ć Ś Ł ć Ę ć Ł Ź ź ź ć Ł Ę Ę Ł ŁĄ Ż ć ć ć Ś ŚÓ Ś ć ć Ś

Bardziej szczegółowo

H a lina S o b c z y ń ska 3

H a lina S o b c z y ń ska 3 Z a rz ą d z a n ie o ś w ia tą B a z a te c h n o d yd a k ty c z n a B a z a te c h n o d yd a k tyc z n a In w e n ta ryza c ja P o lityk a k a d ro w a B h p w p la c ó w c e o ś w ia to w e j C O

Bardziej szczegółowo

Laboratorium Ochrony przed Korozją. Ćw. 9: ANODOWE OKSYDOWANIEALUMINIUM

Laboratorium Ochrony przed Korozją. Ćw. 9: ANODOWE OKSYDOWANIEALUMINIUM Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów Laboratorium Ochrony przed Korozją Ćw. 9: ANODOWE OKSYDOWANIEALUMINIUM

Bardziej szczegółowo

Ę ż ć ŁĄ

Ę ż ć ŁĄ Ł Ł Ę ć ż Ś ć ć Ę Ę ż ć ŁĄ Ą Ł ć ć ć Ę ż ć Ą ć ć ż ć ć ż Ę ż ć ć ć ć ż Ę Ą ż ć Ś ż ć ż ż Ę ć ż Ł ć Ą Ę Ł ć ć ć Ś ć Ł ć ć Ą Ł ć ć ć ć ó Ę Ł ć ć Ą Ł ć ć ć Ł Ść ć ó ć ć ć ć ż Ł ć ć ć Ł Ą Ś Ł Ą ż Ę Ą ć ć ć

Bardziej szczegółowo

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11)

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 177120 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 308929 (22) Data zgłoszenia: 02.06.1995 (51) IntCl6: C07D 319/06 (54)

Bardziej szczegółowo

ŁĄ Ł

ŁĄ Ł Ł Ę Ś ŁĄ Ł Ś Ś Ś Ą Ś Ó Ę Ś Ą Ś Ę Ą Ą Ś Ą Ó Ó Ś Ś Ą Ą Ę ć ć ć ć Ó Ó ż ć ć ć ż ć ż ć Ł Ś Ś Ś Ą Ś Ę Ś Ś Ś Ś Ś ż Ś ć ż ć ż ć Ś Ś ż Ó ć ż ć Ó Ó ć ż Ó ć Ś ć Ź ć ż ż ć ć Ó ć ż ć ć Ó ć Ó ż ż ć Ó ż ć Ó ć ć ż Ó

Bardziej szczegółowo

PL B1. Sposób otrzymywania nieorganicznego spoiwa odlewniczego na bazie szkła wodnego modyfikowanego nanocząstkami

PL B1. Sposób otrzymywania nieorganicznego spoiwa odlewniczego na bazie szkła wodnego modyfikowanego nanocząstkami RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 231738 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 404416 (51) Int.Cl. B22C 1/18 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 24.06.2013

Bardziej szczegółowo

Ę Ć Ś Ż ź Ż ć ć ć ć Ś ć ć ż ż Ź ć Ż ć

Ę Ć Ś Ż ź Ż ć ć ć ć Ś ć ć ż ż Ź ć Ż ć Ł Ę Ć Ś Ż ź Ż ć ć ć ć Ś ć ć ż ż Ź ć Ż ć Ś ć ż ć Ś ć ż ż ć Ść ć ć ć ć Ś Ś ż Ę Ś Ń ć ć Ś ć ć Ż ż ź ź ć ć ź Ż Ą Ś ź ż ż Ż Ż ż Ż ż Ż Ż ć ż Ż Ż ż ć ć Ż ć ć Ż Ą ć ć ż ź Ł Ł Ś Ą Ń Ż Ż Ż ć ć ż Ż ć Ż Ę ć Ż Ż ć

Bardziej szczegółowo

Odpowiedź:. Oblicz stężenie procentowe tlenu w wodzie deszczowej, wiedząc, że 1 dm 3 tej wody zawiera 0,055g tlenu. (d wody = 1 g/cm 3 )

Odpowiedź:. Oblicz stężenie procentowe tlenu w wodzie deszczowej, wiedząc, że 1 dm 3 tej wody zawiera 0,055g tlenu. (d wody = 1 g/cm 3 ) PRZYKŁADOWE ZADANIA Z DZIAŁÓW 9 14 (stężenia molowe, procentowe, przeliczanie stężeń, rozcieńczanie i zatężanie roztworów, zastosowanie stężeń do obliczeń w oparciu o reakcje chemiczne, rozpuszczalność)

Bardziej szczegółowo

Ekonomiczne Problemy Usług nr 74,

Ekonomiczne Problemy Usług nr 74, Grażyna Rosa, Izabela Auguściak Aspekt społeczny w działaniach marketingowych organizacji na przykładzie Szczecińskiego Towarzystwa Budownictwa Społecznego Ekonomiczne Problemy Usług nr 74, 721-732 2011

Bardziej szczegółowo

b) Podaj liczbę moli chloru cząsteczkowego, która całkowicie przereaguje z jednym molem glinu.

b) Podaj liczbę moli chloru cząsteczkowego, która całkowicie przereaguje z jednym molem glinu. Informacja do zadań 1 i 2 Chlorek glinu otrzymuje się w reakcji glinu z chlorowodorem lub działając chlorem na glin. Związek ten tworzy kryształy, rozpuszczalne w wodzie zakwaszonej kwasem solnym. Z roztworów

Bardziej szczegółowo

Podstawowe pojęcia i prawa chemiczne

Podstawowe pojęcia i prawa chemiczne Podstawowe pojęcia i prawa chemiczne Pierwiastki, nazewnictwo i symbole. Budowa atomu, izotopy. Przemiany promieniotwórcze, okres półtrwania. Układ okresowy. Właściwości pierwiastków a ich położenie w

Bardziej szczegółowo

PL B1. Symetryczne czwartorzędowe sole imidazoliowe, pochodne achiralnego alkoholu monoterpenowego oraz sposób ich wytwarzania

PL B1. Symetryczne czwartorzędowe sole imidazoliowe, pochodne achiralnego alkoholu monoterpenowego oraz sposób ich wytwarzania PL 215465 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 215465 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 398943 (51) Int.Cl. C07D 233/60 (2006.01) C07C 31/135 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej

Bardziej szczegółowo

Ś Ó Ó Ś ż Ś Ó Ś ŚÓ Ó

Ś Ó Ó Ś ż Ś Ó Ś ŚÓ Ó Ą Ł ć Ę Ę Ł Ź Ł ż ż ż ż Ó Ł Ś Ó Ó Ś ż Ś Ó Ś ŚÓ Ó ż Ż Ó Ż Ś ć ć ż Ś Ż Ó Ż Ó ż ż Ż ż ż Ż Ż Ą ć Ż Ó ż Ż Ż ż ż Ż Ó ż Ż Ś Ć ż Ł Ę Ę Ź ć Ó ć Ś Ż ż ż Ę ż ż Ę Ż Ś ż Ś Ż ż Ś Ż Ż ż ż Ż Ż Ż Ż ż Ś Ż Ż ż Ż ż ż Ź Ż

Bardziej szczegółowo

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11)

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 172296 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 302820 (22) Data zgłoszenia: 28.03.1994 (51) IntCl6: C08L 33/26 C08F

Bardziej szczegółowo

ś ć ś ś ś ć Ź ń ś ś ń ść ń ś ś

ś ć ś ś ś ć Ź ń ś ś ń ść ń ś ś ń ść ś Ź ć ź ś Ę ń ś Ę ś ń ś ś ź ś ć ś ś ś ć Ź ń ś ś ń ść ń ś ś ń ń ń ń ś ć ń ć Ą Ó Ó ń Ś ń ś Ę ć ś ś ć ś ć ń ń ś ś ń Ó ń ć ć ć Ź ś ć ć Ś ś ć ć ć ść ś ń ś ś ń ć ź ń ć Ó ś ś ś ś ń ś ść ść ć ś śó ść ć ń

Bardziej szczegółowo

PODSTAWOWE POJĘCIA I PRAWA CHEMICZNE

PODSTAWOWE POJĘCIA I PRAWA CHEMICZNE PODSTAWOWE POJĘCIA I PRAWA CHEMICZNE Zadania dla studentów ze skryptu,,obliczenia z chemii ogólnej Wydawnictwa Uniwersytetu Gdańskiego 1. Jaka jest średnia masa atomowa miedzi stanowiącej mieszaninę izotopów,

Bardziej szczegółowo

Repetytorium z wybranych zagadnień z chemii

Repetytorium z wybranych zagadnień z chemii Repetytorium z wybranych zagadnień z chemii Mol jest to liczebność materii występująca, gdy liczba cząstek (elementów) układu jest równa liczbie atomów zawartych w masie 12 g węgla 12 C (równa liczbie

Bardziej szczegółowo

Nowa technologia - Cynkowanie termodyfuzyjne. Ul. Bliska 18 43-430 Skoczów Harbutowice +48 33 8532418 jet@cynkowanie.com www.cynkowanie.

Nowa technologia - Cynkowanie termodyfuzyjne. Ul. Bliska 18 43-430 Skoczów Harbutowice +48 33 8532418 jet@cynkowanie.com www.cynkowanie. Nowa technologia - termodyfuzyjne Ul. Bliska 18 43-430 Skoczów Harbutowice +48 33 8532418 jet@cynkowanie.com www.cynkowanie.com Nowa technologia cynkowanie termodyfuzyjne Pragniemy zaprezentować nowe rozwiązanie

Bardziej szczegółowo

Pierwiastki bloku d. Zadanie 1.

Pierwiastki bloku d. Zadanie 1. Zadanie 1. Zapisz równania reakcji tlenków chromu (II), (III), (VI) z kwasem solnym i zasadą sodową lub zaznacz, że reakcja nie zachodzi. Określ charakter chemiczny tlenków. Charakter chemiczny tlenków:

Bardziej szczegółowo

PL B1. Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Izotopów POLATOM,Świerk,PL BUP 12/05

PL B1. Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Izotopów POLATOM,Świerk,PL BUP 12/05 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 201238 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 363932 (51) Int.Cl. G21G 4/08 (2006.01) C01F 17/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)

Bardziej szczegółowo

Mg I. I Mg. Nie można ich jednak otrzymać ze związków, które posiadają grupy chlorowcowe w tak zwanym ustawieniu wicynalnym.

Mg I. I Mg. Nie można ich jednak otrzymać ze związków, które posiadają grupy chlorowcowe w tak zwanym ustawieniu wicynalnym. nformacje do zadań kwalifikacyjnych na "Analizę retrosyntetyczną" Urszula Chrośniak, Marcin Goławski Właściwe zadania znajdują się na stronach 9.-10. Strony 1.-8. zawieraja niezbędne informacje wstępne.

Bardziej szczegółowo

ŁĄ

ŁĄ Ś ĄŻ ŁĄ Ź Ą ÓŹ Ś Ś Ą Ą Ś Ó ŚÓ Ó Ą Ó Ż Ź Ś Ż Ó Ó Ó Ż Ó Ą Ż Ó Ż Ż Ż Ż Ś Ą Ż Ć Ą Ć Ą Ż Ł Ś Ś Ź Ó Ś Ó Ó Ó Ś Ż Ź Ż Ż Ę Ą Ó Ś ź Ó Ę Ą Ź Ą Ż Ó Ś Ć Ę Ś Ą Ś Ś Ś Ą Ó Ę Ó Ę Ą Ż Ż Ó Ż ź Ą Ó Ś Ź Ż Ó Ż Ż Ź Ó Ó Ś Ś Ó

Bardziej szczegółowo

(57)1. Sposób wytwarzania nitrowych pochodnych

(57)1. Sposób wytwarzania nitrowych pochodnych RZECZPOSPOLITA POLSKA Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 185862 (21) Numer zgłoszenia: 319445 (22) Data zgłoszenia: 11.04.1997 (13) B1 (51) IntCl7 C07D 209/08 C07D

Bardziej szczegółowo

Konkurs przedmiotowy z chemii dla uczniów gimnazjów 13 stycznia 2017 r. zawody II stopnia (rejonowe)

Konkurs przedmiotowy z chemii dla uczniów gimnazjów 13 stycznia 2017 r. zawody II stopnia (rejonowe) Konkurs przedmiotowy z chemii dla uczniów gimnazjów 13 stycznia 2017 r. zawody II stopnia (rejonowe) Kod ucznia Suma punktów Witamy Cię na drugim etapie konkursu chemicznego. Podczas konkursu możesz korzystać

Bardziej szczegółowo

PL B1. Politechnika Świętokrzyska,Kielce,PL BUP 10/08. Wojciech Depczyński,Jasło,PL Norbert Radek,Górno,PL

PL B1. Politechnika Świętokrzyska,Kielce,PL BUP 10/08. Wojciech Depczyński,Jasło,PL Norbert Radek,Górno,PL RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 203009 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 380946 (22) Data zgłoszenia: 30.10.2006 (51) Int.Cl. C23C 26/02 (2006.01)

Bardziej szczegółowo

Arkusz zadań dla I roku Inżynierii Procesowej i Ochrony Środowiska Chemia II (semestr II)

Arkusz zadań dla I roku Inżynierii Procesowej i Ochrony Środowiska Chemia II (semestr II) Arkusz zadań dla I roku Inżynierii Procesowej i Ochrony Środowiska Chemia II (semestr II) Reakcje w roztworach 1. Jaką objętość 20% roztworu kwasu solnego (o gęstości ρ = 1,10 g/cm 3 ) należy dodać do

Bardziej szczegółowo

(86) Data i numer zgłoszenia międzynarodowego: , PCT/EP96/05837

(86) Data i numer zgłoszenia międzynarodowego: , PCT/EP96/05837 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12)OPIS PATENTOWY (19)PL (11)186469 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 327637 (22) Data zgłoszenia: 24.12.1996 (86) Data i numer zgłoszenia międzynarodowego:

Bardziej szczegółowo

WOJEWÓDZKI KONKURS CHEMICZNY DLA UCZNIÓW GIMNAZJUM W ROKU SZKOLNYM 2017/2018 STOPIEŃ WOJEWÓDZKI 9 MARCA 2018 R.

WOJEWÓDZKI KONKURS CHEMICZNY DLA UCZNIÓW GIMNAZJUM W ROKU SZKOLNYM 2017/2018 STOPIEŃ WOJEWÓDZKI 9 MARCA 2018 R. Kod ucznia Liczba punktów WOJEWÓDZKI KONKURS CHEMICZNY DLA UCZNIÓW GIMNAZJUM W ROKU SZKOLNYM 2017/2018 9 MARCA 2018 R. 1. Test konkursowy zawiera 12 zadań. Na ich rozwiązanie masz 90 minut. Sprawdź, czy

Bardziej szczegółowo

ż ć

ż ć Ł Ł Ż ć Ż Ś ć ć Ż ż ć ć Ś Ż ż ć ó ż ż ć Ą Ż ć ć Ż ć ć Ż ć ć ć ć Ż Ż ż Ż Ż ć Ś Ż Ż Ś Ś ż Ś Ż ż ŁĄ ć Ż Ą Ż Ł Ść ć Ść Ż ŁĄ Ś Ż Ą Ś ż Ż Ż ŁĄ Ą Ą Ż Ł ć ć ć ć Ż ć Ż Ż ż ż ż Ż Ż ż Ż ż Ź Ś Ż Ź Ź Ż ć Ż Ż ć ć ć

Bardziej szczegółowo

z dnia 1 marca 2019 r. zarządza się co następuje:

z dnia 1 marca 2019 r. zarządza się co następuje: ZARZĄDZENIE NR 173/2019 PREZYDENTA MIASTA KATOWICE w sprawie zmian w budżecie miasta Katowice na 2019 rok Na podstawie art. ust. 2 pkt 4 ustawy z dnia 8 marca 1990 r. o samorządzie gminnym (Dz.U. z 2018

Bardziej szczegółowo

Konkurs przedmiotowy z chemii dla uczniów dotychczasowych gimnazjów 24 stycznia 2018 r. zawody II stopnia (rejonowe)

Konkurs przedmiotowy z chemii dla uczniów dotychczasowych gimnazjów 24 stycznia 2018 r. zawody II stopnia (rejonowe) Konkurs przedmiotowy z chemii dla uczniów dotychczasowych gimnazjów 24 stycznia 2018 r. zawody II stopnia (rejonowe) Kod ucznia Suma punktów Witamy Cię na drugim etapie konkursu chemicznego. Podczas konkursu

Bardziej szczegółowo

STAłA I STOPIEŃ DYSOCJACJI; ph MIX ZADAŃ Czytaj uważnie polecenia. Powodzenia!

STAłA I STOPIEŃ DYSOCJACJI; ph MIX ZADAŃ Czytaj uważnie polecenia. Powodzenia! STAłA I STOPIEŃ DYSOCJACJI; ph MIX ZADAŃ Czytaj uważnie polecenia. Powodzenia! 001 Obliczyć stężenie molowe jonów Ca 2+ w roztworze zawierającym 2,22g CaCl2 w 100 ml roztworu, przyjmując a = 100%. 002

Bardziej szczegółowo

Ł Ą Ó Ł ć Ą ć ć

Ł Ą Ó Ł ć Ą ć ć Ą Ł Ż Ż Ą Ń Ą Ś ź Ść ć Ł Ą Ó Ł ć Ą ć ć Ó ć Ż ż ż ż ć ć ż ć ż Ść Ż ć Ó ź Ł ć Ą ż ż ć ć Ś Ą ż ć Ę Ś Ś Ł ć ć ż ć ź Ż Ę Ó Ś ć ć Ś ż ż ć ć Ż Ó Ń ć Ó Ż Ść Ś ć ć Ż ć Ę ć Ł Ź ŁĄ ż Ó ć ć Ę Ż Ę Ł Ś Ł Ł Ż Ż Ż Ż ć

Bardziej szczegółowo

(54) Tworzywo oraz sposób wytwarzania tworzywa na okładziny wałów maszyn papierniczych. (72) Twórcy wynalazku:

(54) Tworzywo oraz sposób wytwarzania tworzywa na okładziny wałów maszyn papierniczych. (72) Twórcy wynalazku: RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 167358 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 291734 (51) IntCl6: D21G 1/02 C08L 7/00 Urząd Patentowy (22) Data zgłoszenia: 16.09.1991 C08L 9/06 Rzeczypospolitej

Bardziej szczegółowo

Zapisz za pomocą symboli i wzorów następujące ilości substancji :

Zapisz za pomocą symboli i wzorów następujące ilości substancji : ZESTAW I Zadanie 1. Zapisz za pomocą symboli i wzorów następujące ilości substancji : a) dwa atomy wapnia... b) cztery cząsteczki wodoru... c) trzy cząsteczki siarczku żelaza... d) atom magnezu... e) dwie

Bardziej szczegółowo

Zadanie 1. [ 3 pkt.] Uzupełnij zdania, wpisując brakującą informację z odpowiednimi jednostkami.

Zadanie 1. [ 3 pkt.] Uzupełnij zdania, wpisując brakującą informację z odpowiednimi jednostkami. Zadanie 1. [ 3 pkt.] Uzupełnij zdania, wpisując brakującą informację z odpowiednimi jednostkami. I. Gęstość propanu w warunkach normalnych wynosi II. Jeżeli stężenie procentowe nasyconego roztworu pewnej

Bardziej szczegółowo

Ó Ż ż Ć ż ż ż Ó Ę Ę Ó Ó ż Ó Ł ż Ł

Ó Ż ż Ć ż ż ż Ó Ę Ę Ó Ó ż Ó Ł ż Ł ż Ó Ż Ż ż ź ż ż Ź Ż ż Ę Ą Ó Ż ż Ć ż ż ż Ó Ę Ę Ó Ó ż Ó Ł ż Ł Ń Ę ż ż Ź ż Ę Ż Ż ż ż ż ż ż ż ż ż ż ż ż Ź ż ż ż Ź Ó Ś Ó ż Ś Ą Ą ż ż Ł Ą Ń Ą Ą Ł ż Ź ż ż ż ż ż ż ŁĄ Ł Ś ż Ż ż Ś ż ż ż Ż ż Ż Ż ż Ż Ż Ż ż ż Ń ź

Bardziej szczegółowo

T E C H N O L O G IE U Z D A T N IA N IA W O D Y. O d tle n ia n ie w o d y m e to d. ą k a ta lity c z n ą

T E C H N O L O G IE U Z D A T N IA N IA W O D Y. O d tle n ia n ie w o d y m e to d. ą k a ta lity c z n ą O d tle n ia n ie w o d y m e to d ą k a ta lity c z n ą P r z e d m io t p r e z e n ta c ji: O d tle n ia n ie k a ta lity c z n e w o d y n a b a z ie d o św ia d c z e ń fir m y L A N X E S S (d.b

Bardziej szczegółowo

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 178433 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 312817 (2 2 ) Data zgłoszenia: 13.02.1996 ( 5 1) IntCl6: D06M 15/19

Bardziej szczegółowo

(21) Numer zgłoszenia:

(21) Numer zgłoszenia: RZECZPOSPOLITA POLSKA (12)OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 157892 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 274430 IntC l5: B66B 25/00 Urząd Patentowy R zeczypospolitej Polskiej (22) D ata zgłoszenia: 26.08.1988 (54)

Bardziej szczegółowo

Ł Ń ś ń ć Ź ś ń

Ł Ń ś ń ć Ź ś ń Ł Ł Ł Ń ś ń ć Ź ś ń ŁĄ Ę Ą Ą Ź ć ś ś Ź ć ć ć ć Ą ń ść ść ń Ź ń ś ś ń ń ń ń ń ś ń ś ść ś Ą ź Ź ś ś ń ć ń ń Ą ń ś ś ś ś Ź ś Ź ś ś Ź ś Ł Ś Ó Ą Ź Ą Ą Ó Ó ń ś ć ć ś ń ń Ść ń Ź ść ść ść ś ś ń ść ś ść ć ś Ń ć

Bardziej szczegółowo

2. Procenty i stężenia procentowe

2. Procenty i stężenia procentowe 2. PROCENTY I STĘŻENIA PROCENTOWE 11 2. Procenty i stężenia procentowe 2.1. Oblicz 15 % od liczb: a. 360, b. 2,8 10 5, c. 0.024, d. 1,8 10 6, e. 10 Odp. a. 54, b. 4,2 10 4, c. 3,6 10 3, d. 2,7 10 7, e.

Bardziej szczegółowo

PL B1. Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica,Kraków,PL BUP 14/02. Irena Harańczyk,Kraków,PL Stanisława Gacek,Kraków,PL

PL B1. Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica,Kraków,PL BUP 14/02. Irena Harańczyk,Kraków,PL Stanisława Gacek,Kraków,PL RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19)PL (11)195686 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 344720 (22) Data zgłoszenia: 19.12.2000 (51) Int.Cl. B22F 9/18 (2006.01)

Bardziej szczegółowo

ń

ń Ą ń Ą ż ń Ł ć ń ć ż ć ż Ą ć ń ź ż Ę ż ż ć ń ć ż ć ż ć ż ń ż ć ż ń ń ń ż ń ń ż Ł ń ż ń ć ń ż Ń ć ż ń ń ń ń ń ż ż Ą ć ż ć ż ć ż ć Ń ć ć ń ć ć ń ć ć ż ń ń Ń ń ż ć ź ń ż ż ŁĄ ż ń ż ż ż Ą ż ć ń ż ć ż Ń ż Ń

Bardziej szczegółowo

Ą Ź ć ć Ó Ó Ć Ć Ś

Ą Ź ć ć Ó Ó Ć Ć Ś Ł Ł ź Ę Ą Ą Ź ć ć Ó Ó Ć Ć Ś Ł Ą Ą Ó ć ć ć Ś Ś Ó Ś Ó Ó Ó Ó Ó Ó Ó ć Ść Ó Ć ć Ź Ó ć Ó Ó Ó Ś Ź Ó ć ć ć Ł Ć Ź Ó Ó Ś ć Ź ć ć Ć ć ć ć Ź Ó ć Ó Ó Ś Ź Ó Ó Ś Ó ć ć ć Ś Ś Ó Ó Ó ć Ź Ł Ó ć Ś Ś Ó Ó ć Ź ć Ź Ł Ó Ó ć Ź

Bardziej szczegółowo

ć Ś Ś Ść

ć Ś Ś Ść ć Ś Ś Ść Ś Ł Ź Ść ć ć ć Ść ć Ść Ś Ść ć ć Ś Ó Ś Ś ć ć Ś Ś Ó Ś Ś ć Ą ć Ś Ś Ł ć Ś Ś Ł ć Ą Ść ć Ś Ó Ź ć ć Ś Ś ć ć ć Ś Ść Ść Ś Ś Ś Ś Ś Ś Ś Ś Ś Ś ć Ą Ś Ą Ś Ś Ź Ź ć ć Ś Ę Ź Ł ź Ę Ę Ś Ś Ś Ę Ą Ź ć Ł Ś Ś Ś Ś ć Ś

Bardziej szczegółowo

ż ć

ż ć Ł Ł ż ć ć ż ć Ą Ł ó ó ć ż ć ć ż ć Ę ć Ę ć ć Ę ć ć ć Ę ż ć ć ć Ś ć Ę Ę ż ż ć ż Ę ć ć Ę ż ż Ę Ł ć ć Ą Ę Ł ć ć ć ż ć Ę Ł Ść Ą Ę Ł ć ć ć ć Ę Ł Ść Ą Ę Ł ć ć ć Ł ć Ę Ę ć ć ć ć Ł Ść ć ć Ę Ę Ł Ś Ą Ś Ś Ł Ą Ą ż

Bardziej szczegółowo

ć ć Ł ć Ź ć Ł ź ć Ś ć ć Ż Ł Ż ć ż ć

ć ć Ł ć Ź ć Ł ź ć Ś ć ć Ż Ł Ż ć ż ć Ł Ź Ł Ł ź ź Ż Ż ż Ż ć Ś ż ć ć Ę ć ć Ł ć Ź ć Ł ź ć Ś ć ć Ż Ł Ż ć ż ć Ł ć ć ć ć Ł Ż ć Ł ź ć Ś Ż Ż Ż ż Ż Ż ż Ż Ś Ż Ą Ł Ż ź Ż Ż Ż Ż Ż Ż Ś Ż Ż ż Ż Ż ż ż Ł Ż Ś Ż Ż Ż Ż Ż Ż Ś Ż Ę Ł Ź Ó ż Ę Ł ź Ł Ź Ż ż Ł Ż Ż ż

Bardziej szczegółowo

Ś Ż Ó Ś ż Ó ć ź ż ż Ą

Ś Ż Ó Ś ż Ó ć ź ż ż Ą Ś ż Ż Ż Ś Ż Ó ż ż ż Ą Ś Ż Ó Ś ż Ó ć ź ż ż Ą Ą Ó ż ż Ó Ś Ż Ó ż ż ż Ż Ź ź Ć Ó ż Ż ć Ż ż Ś ć Ś Ś Ż Ą Ż Ż Ó Ż Ż Ś Ż Ż Ź Ż Ż Ż Ę Ś Ż Ż Ś Ó Ż Ż ż Ą Ż Ą Ż Ś Ś ć Ź ć ć Ó ć Ś Ą Ó Ó ć Ż ż Ż Ó ż Ś Ś Ó Ś Ż Ż Ż Ż Ż

Bardziej szczegółowo

C e l e m c z ę ś c i d y s k u s y j n e j j e s t u ś w i a d o m i e n i e s o b i e, w o p a r c i u o r o z w a ż a n i a P i s m a Ś w.

C e l e m c z ę ś c i d y s k u s y j n e j j e s t u ś w i a d o m i e n i e s o b i e, w o p a r c i u o r o z w a ż a n i a P i s m a Ś w. 1. C e l s p o t k a n i a. C e l e m c z ę ś c i d y s k u s y j n e j j e s t u ś w i a d o m i e n i e s o b i e, w o p a r c i u o r o z w a ż a n i a P i s m a Ś w., ż e : B y d z b a w i o n y m

Bardziej szczegółowo

ć ć ź ć ć ć Ść ć ź ź ź ć ź Ą ź

ć ć ź ć ć ć Ść ć ź ź ź ć ź Ą ź ć ć ć ź ć ć ć ć ź ć Ż ź ź ć ć ź ć ć ć Ść ć ź ź ź ć ź Ą ź ć ć ć ć ć ć ź ź Ż ć ć ć ć ć Ś ć ć Ź ć Ś ź ć ź ć ź ć ź ć ź Ź ć ć Ś ź ć ć ź Ć ć ź Ó Ż ć ć ź Ś ź ź ć ć ć ź ć ć ć ć ć ć ć ź ź ć ć ć Ś Ć Ó ź ć ź ć ć

Bardziej szczegółowo

ć

ć Ł Ę Ę Ą ć Ś ć ć ź ź ć ć ź ź ź ć ć ź Ś ć ć ć ć ć Ś ć Ż ć ŚĆ Ć Ż Ś Ż Ś Ż ć Ś Ś Ś Ś Ś Ś Ś Ś Ś Ś Ś ć Ć ć Ć ć Ć ć Ś Ś Ś ć Ć Ż Ć ć ć Ś Ż Ż Ś Ć Ż ć ć ć ć ć Ś Ś Ś ć Ż Ż ć ć Ś Ś ć Ś Ż ć Ś ć ć ć Ż Ć ć ć Ż Ś Ż Ć

Bardziej szczegółowo

ć ć Ą ć Ęć Ó Ą ź ć ć ć ć ź ź Ą ć Ę ć ź ć ć ć ź ć ź ć ć ć Ś Ź ź

ć ć Ą ć Ęć Ó Ą ź ć ć ć ć ź ź Ą ć Ę ć ź ć ć ć ź ć ź ć ć ć Ś Ź ź ź Ó ć Ę ć Ó ć ć ć ć Ź ć ź ć ć Ź ć ć ć Ą ć Ęć Ó Ą ź ć ć ć ć ź ź Ą ć Ę ć ź ć ć ć ź ć ź ć ć ć Ś Ź ź ć Ą ć Ą ć ź ć ź ć Ę ć ć Ź ź Ę ć ć ć ć Ę Ę ź ć Ó ć ć ć ć ć ć ć ć ć Ź Ź ć ć ć ź Ę ć ć ć ć Ę Ąć ź Ź ć Ą ć ć

Bardziej szczegółowo