PL B1. CENTRUM BADAŃ MOLEKULARNYCH I MAKROMOLEKULARNYCH POLSKIEJ AKADEMII NAUK, Łódź, PL BUP 05/13
|
|
- Zofia Wróbel
- 7 lat temu
- Przeglądów:
Transkrypt
1 PL B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: (22) Data zgłoszenia: (51) Int.Cl. G01N 33/44 ( ) G01N 31/00 ( ) B01L 3/00 ( ) (54) Zastosowanie poli(p-ksylilenu) w analizie spektrometrii mas techniką MALDI (43) Zgłoszenie ogłoszono: BUP 05/13 (45) O udzieleniu patentu ogłoszono: WUP 06/16 (73) Uprawniony z patentu: CENTRUM BADAŃ MOLEKULARNYCH I MAKROMOLEKULARNYCH POLSKIEJ AKADEMII NAUK, Łódź, PL (72) Twórca(y) wynalazku: MAREK J. POTRZEBOWSKI, Łódź, PL ANNA SROKA-BARTNICKA, Tarnobrzeg, PL BEATA MIKSA, Łódź, PL MAREK SOCHACKI, Łódź, PL (74) Pełnomocnik: rzecz. pat. Iwona Brodowska
2 2 PL B1 Opis wynalazku Przedmiotem wynalazku jest zastosowanie poli(p-ksylilenu) czyli Parylenu N jako pojedynczej warstwy materiału zabezpieczającego powierzchnię płytki pomiarowej i ułatwiającego desorpcję/- jonizację analitu w analizach spektrometrii mas techniką MALDI. Stan wiedzy: MALD1-TOF jest jedną z ważniejszych technik analitycznych, zaliczaną do metod łagodnej jonizacji, zrewolucjonizowała dziedzinę spektrometrii mas w badaniu dużych mas cząsteczkowych. Jest standardowo wykorzystywana w badaniu protein, peptydów, polimerów syntetycznych. Istotą wykonywania widm MALDI TOF jest desorpcja/jonizacja laserowa, której poddawana jest mieszanina matrycy z próbką i czynnikiem kationizującym. W celu podniesienia jakości widm rejestrowanych techniką MALDI, coraz więcej uwagi przywiązuje się do modyfikacji powierzchni płytek, na których umieszcza się analit. Istnieje wiele metod przygotowania próbki do analizy metodą MALDI opartych na modyfikacjach powierzchni płytki MALDI z zastosowaniem membran, cienkich filmów i monowarstw samoorganizujących np. MELDI Material-Enhanced Laser Desorption/Ionization 1, SGALDI Sol-Gel Assisted Laser Desorption/lonization 2, PALDI Polymer-Assisted Laser Desorption/lonization 3, DIOS Matrix- -Free Desorption/Ionization on Porous Silicon 4. Zainteresowanie tego typu technikami stale rośnie. Takie podłoża (monowarstwy) używane są oprócz albo zamiast typowej matrycy. Podłoże ma ułatwić desorpcję i jonizację substancji analizowanych. Znany jest także materiał poli(p-ksylilen) czyli Parylen N, powszechnie stosowany, do pokrywania różnych powierzchni w celu ich zabezpieczenia przed działaniem czynników zewnętrznych. Główną zaletą technologii parylenów jest proces polimeryzacji z fazy gazowej VDP (ang. Vapour Deposition Polymerization) 5, co w połączeniu z ich unikatowymi właściwościami fizykochemicznymi znacznie poszerza obszar ich zastosowań. Z tego też powodu technologia parylenów stała się konkurencyjna w stosunku do konwencjonalnych metod nakładania powłok polimerowych z fazy ciekłej, jak powlekanie natryskowe czy zanurzeniowe. Jej największą zaletą w porównaniu z wymienionymi metodami jest brak przejściowej fazy ciekłej, co sprawia, że siły napięcia powierzchniowego są praktycznie wyeliminowane, zaś nałożona warstwa posiada charakter konformalny. Oznacza to, że utworzona powłoka charakteryzuje się jednakową grubością w każdym miejscu niezależnie od krzywizny podłoża 6. Dzięki polimeryzacji z fazy gazowej VDP paryleny doskonale nadają się jako materiał do powlekania różnych powierzchni. Z powodu dużej odporności i wytrzymałości mechanicznej, a także silnych własności hydrofobowych stosuje się je do powlekania urządzeń elektronicznych, a ze względu na wysoką biozgodność i niski współczynnik tarcia używa się ich np. do pokrywania implantów i narzędzi chirurgicznych. Strukturę poli(p-ksylilenu) czyli Parylenu N (PPX) przedstawiono wzorem 1. W oryginalnej literaturze i w literaturze patentowej brak jest informacji dotyczących zastosowania poli(p-ksylilenu) czyli Parylenu N jako materiału zabezpieczającego powierzchnię płytki pomiarowej ułatwiającego desorpcję/jonizację analitu w analizach spektrometrii mas techniką MALDI. W literaturze znajdują się doniesienia o stosowaniu różnych monowarstw wspomagających desorpcję/jonizację, ale częstym problemem jest usuwanie ich po wykonaniu analizy z powierzchni płytki MALDI. Membrany, folie są często przyklejane za pomocą taśmy dwustronnej. Nanoszone monowarstwy można usunąć metodami chemicznymi (poprzez rozpuszczenie). Nieoczekiwanie, okazało się, że właściwości fizykochemiczne poli(p-ksylilenu), pozwalają na wykorzystanie takiej powłoki jako warstwy materiału zabezpieczającego powierzchnię płytki do analizy spektrometrii mas techniką MALDI, przy czym usunięcie tej warstwy parylenu, po wykonaniu analiz, z powierzchni płytki, jest proste i nie stanowi większego problemu dla przeprowadzającego badanie. Akronimy: DD metoda przygotowania próbek do analizy techniką MALDI z użyciem rozpuszczalników, ang. Dried Droplet SF metoda przygotowania próbek do analizy techniką MALDI bez użycia rozpuszczalników, ang. Solvent free PPK- parylen N poli(p-ksylilen)
3 PL B1 3 Istota wynalazku: Przedmiotem wynalazku jest zastosowanie jako materiału zabezpieczającego, powierzchnię płytki pomiarowej do pomiaru spektrometrii mas techniką MALDI, w analizie polimerów syntetycznych, naturalnych, a także mieszanin związków, zwłaszcza o masie cząsteczkowej do kda, w postaci pojedynczej warstwy naniesionej na płytkę pomiarową metodą polimeryzacji poli(p-ksylilenu) z fazy gazowej VDP, charakteryzującej się jednakową grubością w każdym miejscu niezależnie od krzywizny podłoża Nieoczekiwanie okazało się, że zastosowanie warstwy według wynalazku ułatwia desorpcję/jonizację analitu oraz usunięcie warstwy parylenu z powierzchni płytki pomiarowej. Warstwę poli(p-ksylilenu), według wynalazku, korzystnie stosuje się do analizy MALDI związków przygotowywanych różnymi metodami, zwłaszcza metodą z użyciem rozpuszczalnika zwaną z języka ang. Dried Droplet (DD) oraz metodą bez użycia rozpuszczalnika z języka ang. Solvent Free (SF). Warstwę poli(p-ksylilenu), według wynalazku, po procesie badania, oczyszcza się z modyfikowanej płytki MALDI, korzystnie prowadzi poprzez zdejmowanie/ usuwanie/ zrywanie tej warstwy poli(p- -ksylilenu) z zabezpieczonej powierzchni płytki MALDI. Zastosowanie poli(p-ksylilenu), według wynalazku, w którym korzystnie rejestrowanie widm MALDI prowadzi się w trybie liniowym lub reflektronowym. Nieoczekiwanie, wysoka odporność chemiczna rozpuszczalność tylko w wysokich temperaturach i w specyficznych rozpuszczalnikach oraz odporność na promieniowanie laserem UV pozwoliła na wykorzystanie poli(p-ksylilenu) jako powłoki stanowiącej warstwę zabezpieczającą powierzchnię płytki MALDI podczas analizy analitu. Możliwość zdjęcia zastosowanej warstwy poli(p-ksylilenu) bez zniszczenia powierzchni płytki znacznie skraca proces czyszczenia płytki i bez wątpienia ułatwia usuwanie z jej powierzchni trudno rozpuszczalnych związków lub śladowych ilości zanieczyszczeń. Ze względu na inercyjność biologiczną poli(p-ksylilenu), może być on stosowany w analizie związków biologicznych. Dodatkowym atutem powłoki parylenowej jest możliwość sterylizacji jej powierzchni. Hydrofobowość powierzchni poli(p-ksylilenu)ułatwia krystalizację próbek przygotowywanych metodą z użyciem rozpuszczalnika ang. Dried Droplet (DD). Hydrofobowość materiału jest ważnym elementem wpływającym na kokrystalizację analitu z matrycą poprzez minimalizację powierzchni kropli, a w związku z tym z większym stężeniem krystalizujących składników mieszaniny. Zastosowana w wynalazku warstwa poli(p-ksylilenu) w procesie VDP posiada charakter konformalny, co jest bardzo ważne przy przygotowaniu płytek ze specjalnymi wgłębieniami do analiz metodą rozpuszczalnikową Dried Droplet (DD). Warstwa poli(p-ksylilenu), według wynalazku jest stabilna chemicznie (odporna na rozpuszczalniki) i charakteryzuję się jednakową grubością na całej powierzchni. W celu przeprowadzenia badań z zastosowaniem warstwy poli(p-ksylilenu) według wynalazku przygotowano specjalną płytkę, przy współpracy z Zakładem Inżynierii Materiałowej Politechniki Łódzkiej. Jest to wiodący Instytut w Polsce, zajmujący się nakładaniem takich materiałów. Połowa płytki MALDI została pokryta poli(p-ksylilenu) (parylenem N), nanoszonym w temperaturze pokojowej. Druga połowa powierzchni pozostała bez zmian. W taki sposób zostały przygotowane dwie płytki. Pierwsza to pozłacana płytka z wgłębieniami przeznaczona do przygotowywania próbek metodą DD, druga to płytka płaska stalowa przeznaczona do przygotowywania próbek metodą bezrozpuszczalnikową ang. Solvent Free (SF). W literaturze częstym problemem jest usuwanie stosowanej warstwy materiału po wykonaniu analizy, z powierzchni płytki MALDI. Membrany, folie są często przyklejane za pomocą taśmy dwustronnej. Nanoszone monowarstwy usuwano metodami chemicznymi (poprzez rozpuszczenie). W przypadku zastosowania warstwy poli(p-ksylilenu) na płytce MALDI, po wykonaniu analiz, usunięcie tej warstwy materiału z powierzchni płytki nie stanowi większego problemu. Usunięcie odbywa się w sposób mechaniczny, poprzez zerwanie parylenu z powierzchni płytki, jak pokazano na fig. 1. Z miejsca z którego zdjęto warstwę parylenu, a poprzednio nałożone były próbki zarejestrowano widma. W widmach tych nie zarejestrowano żadnych sygnałów. Świadczy to o praktycznej możliwości zastosowania parylenu jako materiału zabezpieczającego płytkę MALDI. W wyniku badań własnych stwierdzono, że poli(p-ksylilen) czyli Parylen N naniesiony metodą polimeryzacji poli(p-ksylilenu) z fazy gazowej VDP na płytkę do analizy MALDI jest materiałem zabezpieczającym powierzchnię płytki pomiarowej i jednocześnie wspomagającym proces desorpcji/jonizacji analitu. Podane niżej przykłady ilustrują zastosowanie parylenu jako materiału zabezpieczającego powierzchnię płytki pomiarowej i ułatwiającego desorpcję/jonizację analitu w analizach MALDI nie ograniczając zakresu patentu przedstawionego w zastrzeżeniach patentowych.
4 4 PL B1 P r z y k ł a d y: P r z y k ł a d I. Badania techniką MALDI politlenku etylenu (PEG 2000). Analizy MALDI wykonano dla politlenku etylenu (PEG 2000 o masie cząsteczkowej 2000) z zastosowaniem czterech matryc. Uśrednione wartości s/n z widm MALDI próbki PEG 2000 przygotowywanej metodą DD (a) i metodą SF (b) przedstawiono na fig. 2. Czerwone słupki oznaczają średnie wartości s/n z widm uzyskanych z próbek naniesionych na niemodyfikowaną powierzchnię płytki MALDI, natomiast zielone słupki odpowiadają średnim wartościom s/n z widm próbek naniesionych na płytkę pokrytą warstwą PPX. Średnie wartości s/n uzyskano na podstawie 8 cykli pomiarowych (8 x 250 = 2000 widm). Porównanie uśrednionych wartości s/n z widm MALDI uzyskanych z próbek PEG 2000 z modyfikowanej i niemodyfikowanej powierzchni płytek przedstawiono na fig. 2. Z analizy powyższych danych wynika, że w przypadku przygotowania próbek metodą DD, widma próbek naniesionych na płytkę MALDI z poli(p-ksylilenu) dla matryc DT i DHB wykazują wyższą wartość s/n niż widma z próbek naniesionych na niemodyfikowaną część płytki. Parylen w oczywisty sposób polepsza wartość s/n w widmach w zależności od rodzaju użytej matrycy. W przypadku próbek przygotowywanych według metody SF, nie ma aż tak dużych różnic pomiędzy widmami uzyskanymi z różnych powierzchni płytki. Jednak aż w trzech przypadkach w widmach próbek przygotowywanych z zastosowaniem matryc IAA, HABA, DT z modyfikowanej parylenem powierzchni płytki uzyskano wyższe wartości s/n w widmach, co świadczy o wzmocnieniu procesu desorpcji i jonizacji. Matryca DT niezależnie od sposobu przygotowania próbki w połączeniu z warstwą parylenu pozwala uzyskać wyższe wartości s/n w rejestrowanych widmach MALDI. P r z y k ł a d II. Badania techniką MALDI polilaktydu (Polimer B). Analizy MALDI wykonano dla polilaktydu z zastosowaniem czterech matryc. Uśrednione wyniki analizy s/n na podstawie 8 cykli pomiarowych dla próbki polilaktydu liniowego (polimer B o masie cząsteczkowej 3000 z grupami końcowymi butylową i hydroksylową) (8 x 250 = 2000 widm) zestawiono na rysunku. Próbki polimeru B przygotowywano metodą DD (a) i metodą SF (b). Czerwone słupki oznaczają uśrednione wartości s/n z widm próbek naniesionych na niemodyfikowaną powierzchnię płytki MALDI, natomiast zielone słupki przedstawiają uśrednione wartości s/n z widm próbek naniesionych na płytkę z poli(p-ksylilenem) (fig. 3). Porównanie uśrednionych wartości s/n z widm MALDI uzyskanych z próbek polimeru B z modyfikowanej i niemodyfikowanej powierzchni płytek. Warstwa parylenu naniesiona na płytkę MALDI spowodowała wzrost wartości s/n w widmach próbek otrzymanych z matryc DT, DHB dla próbek przygotowanych zarówno metodą DD jak i SF. Dla próbek przygotowanych w matrycy HABA otrzymane widma są porównywalne niezależnie od rodzaju powierzchni płytki, z której były uzyskane. Takim samym poziomem jakości charakteryzują się widma wykonane w matrycy IAA, bez względu na zastosowaną metodę przygotowania próbki oraz powierzchnię płytki z której wykonywane były analizy. Zastosowanie warstwy poli(p-ksylilenu) na płytce MALDI daje w widmach wyższą wartość s/n tylko w przypadku próbek wykonanych w matrycy DT oraz DHB. P r z y k ł a d III. Badania techniką MALDI Insuliny bydlęcej oraz Cytochromu. Wpływ warstwy parylenu na jakość widm MALDI w zależności od trybu rejestrowania widm. Analizy MALDI na specjalnie przygotowanych płytkach wykonano dla dwóch modelowych protein: Insuliny bydlęcej i Cytochromu. Insulina i Cytochrom są wykorzystywane w analizie MALDI jako wzorce do kalibracji aparatu aby dokonać dokładnych przypisań mas cząsteczkowych w badaniach związków bioorganicznych. Próbki do pomiaru przygotowywane były metodą z użyciem rozpuszczalników DD (Dried Droplet). Następnie nakroplono je bezpośrednio na płytkę z nałożoną warstwą poli(p-ksylilenu) oraz na drugą niemodyfikowaną część płytki. Widma rejestrowano w trybie liniowym oraz w trybie reflektronowym. Otrzymane wyniki przedstawiono na fig. 4, gdzie widma MALDI próbek przygotowanych metodą DD uwidoczniono na wykresie: a) Insulina rejestracja w trybie reflektronowym, b) Cytochrom rejestracja w trybie liniowym.
5 PL B1 5 Uśrednione wartości s/n zestawiono w Tabeli 1. T a b e l a 1 Insulina bydlęca Uśrednione wartości s/n Cytochrom Rodzaj płytki Tryb liniowy Tryb reflektronowy Tryb liniowy Tryb reflektronowy Standardowa płytka Płytka z warstwą poli(p-ksylilenu) Widma zarejestrowane z modyfikowanej powierzchni płytki nie różnią się zasadniczo od widm zarejestrowanych z niemodyfikowanej powierzchni. Oznacza to, że poli(p-ksylilenu) nie przeszkadza w desorpcji/jonizacji analitu. Przypisanie mas cząsteczkowych jest tak samo dokładne z warstwy parylenu jak w przypadku widm rejestrowanych z niemodyfikowanej powierzchni płytki. Rejestracja widma w trybie liniowym z próbek naniesionych na warstwę poli(p-ksylilenu) wpływa na uzyskanie wyższych wartości s/n. P r z y k ł a d IV. Badania techniką MALDI równomolowej mieszaniny Insuliny bydlęcej i Cytochromu. Wpływ hydrofobowości poli(p-ksyiilenu) na uzyskane widma MALDI. Analizy MALDI na specjalnie przygotowanych płytkach wykonano dla mieszaniny równomolowej dwóch modelowych protein: Insuliny i Cytochromu. Taka mieszanina związków służy do kalibracji wewnętrznej podczas wykonywania pomiarów metodą MALDI. Do próbki analitu dodaje się mieszaninę wzorców kalibracyjnych przeważnie o różnych masach aby dokonać dokładnego przypisania masy cząsteczkowej analitu. Próbki do pomiaru przygotowywane były dwoma metodami: metodą DD (Dried Droplet) i SF (Solvent Free metoda bez użycia rozpuszczalników). Następnie tak przygotowane próbki były naniesione bezpośrednio na płytkę z parylenem oraz na drugą niemodyfikowaną część płytki. Otrzymane wyniki przedstawiono na fig. 5, gdzie uwidoczniono widma MALDI mieszaniny Insuliny i Cytochromu przygotowywane różnymi metodami: a) DD, b) SF. Z uzyskanych danych wynika, że warstwa poli(p-ksylilenu) ułatwia proces desorpcji/jonizacji analizowanych próbek przygotowywanych metodą DD z zastosowaniem matrycy DHB. Hydrofobowość warstwy poli(p-ksylilenu) ma wpływ na sposób krystalizacji składników analitu z matrycą. W przypadku metody SF niezależnie od rodzaju powierzchni, z której rejestrowane były widma uzyskane wyniki były porównywalne. Warstwa poli(p-ksylilenu) nie wpływa negatywnie na jakość zarejestrowanych widm przygotowywanych wg metody SF. Pomiary mas cząsteczkowych techniką MALDI Widma mas techniką MALDI zarejestrowano na spektrometrze Voyager Elite firmy PerSeptive Biosystems Inc., Framingham, MA, wyposażonym w laser azotowy (337 nm). Otrzymane widma przetworzono stosując program Data Explorer ver. 4.0 (Applied Biosystems Inc., Foster City, CA). W trakcie wykonywania widm użyto kalibracji zewnętrznej. Parametry aparatu podczas pomiarów MALDI dla polimerów i protein przedstawiono w Tabeli 2. T a b e l a 2 Parametry aparatu podczas pomiarów MALDI Polimery Proteiny Tryb pracy liniowy liniowy/reflektronowy Tryb ekstrakcji: opóźniony opóźniony Polaryzacja dodatnia dodatnia Kontrola akwizycji automatyczny manualny Napięcie przyśpieszające 20 kv 20 kv Napięcie siatki czyli napięcie przyłożone do siatki powyżej płytki MALDI lub Napięcie przyłożone do siatki powyżej płytki MALDI 92.1%* 70%* Napięcie przyłożone do przewodu prowadzącego wiązkę: 0.02%** 0.03%**
6 6 PL B1 cd. tabeli Czas opóźnienia ekstrakcji jonów: 100 ns 50 ns Zakres mas pomiarowych: Bramka niskich mas: %* prawidłowy zakres jest określany w stosunku do napięcia przyspieszającego, jest to parametr interakcyjny z opóźnieniem czasu ekstrakcji jonów %** Prawidłowy zakres jest określony w stosunku do napięcia przyspieszającego jest to zakres od 0,000 do 0,300% dla danego aparatu Voyager Elite firmy PerSeptive Biosystems Inc., Framingham, MA, wyposażonym w laser azotowy (337 nm) Matryce: 1,8-dihydroksyantracen-9(10H)-on (DT), kwas trans 3-indoloakrylowy (IAA), kwas 2,5-dihydroksybenzoesowy (DHB), i kwas 2-(4-hydroksyfenyloazo)benzoesowy (HABA) oraz sól: Nal zostały zakupione w firmie SIGMA-ALDRICH Przygotowanie próbek do analizy MALDI Metoda z użyciem rozpuszczalnika Dried Droplet DD polimery Sporządzono roztwory matrycy, soli (Nal) i polimeru o stężeniach 10 mg/ml każdy. Jako rozpuszczalnika użyto tetrahydrofuranu (THF, POCH, Gliwice Polska, 99%). Roztwory zmieszano w stosunku objętościowym 10 μl:1 μl:1 μl. Następnie 1 μl tak przygotowanej mieszaniny naniesiono na płytkę do analizy MALDI i pozostawiono do wyschnięcia. Metoda z użyciem rozpuszczalnika dried droplet DD proteiny Sporządzono roztwory 50 mg (3.2 x 10-7 M) matrycy DHB w 1 ml THF, zmieszano go z 1 mg (1.74 x 10-7 M insuliny bydlęcej oraz 8.09 x 10-8 M Cytochromu), następnie 1 μl mieszaniny naniesiono na płytkę do analizy MALDI. Metoda bezrozpuszczalnikowa solvent free SF polimery Matrycę, sól i polimer zmieszano w proporcjach wagowych 10:1:1, a następnie ucierano ręcznie w moździerzu 2 minuty. Porcję zmielonego proszku naniesiono na płytkę do analizy MALDI, a następnie rozsmarowano go za pomocą szpatułki na powierzchni płytki tworząc cienką warstwę. Metoda SF bezrozpuszczainikowa solvent free SF proteiny Matrycę DHB i proteiny zmieszano w proporcjach wagowych 50:1, a następnie postępowano jak w przypadku polimerów. Literatura 1. Feuerstein, I., Rainer, M., Bernardo, K., Stecher, G., Huck, C, W., Kofler, K., Pelzer, A., Horninger, W., Klocker, H., Bartsch, G., Bonn, G. K. J. Proteome. Res. 2005, 6, Dattelbaum A. M., Iyer S., Expert Rev. Proteomics 2006, 3, Woldegiorgis A., von Kieseritzky F., Dahlstedt E., Hellberg J., Brinck T, Roeraade J., Rapid Commun. Mass Spectrom. 2004, 18, Wei J., Buriak J. M., Siuzdak G., Nature 1999, 399, Gorham W.F. (to Union Carbide Corp.) U.S. Patent 3,342,754 (1967). 6. Mordelt G., Heim P., Metalloberflaeche, 1998, 52, 368. Zastrzeżenia patentowe 1. Zastosowanie poli(p-ksylilenu) w analizie spektrometrii mas techniką MALDI, jako materiału zabezpieczającego, powierzchnię płytki pomiarowej, w analizie polimerów syntetycznych, naturalnych, a także mieszanin związków, zwłaszcza o masie cząsteczkowej do kda, w postaci pojedynczej warstwy naniesionej na płytkę pomiarową metodą polimeryzacji poli(p-ksylilenu) z fazy gazowej VDP, charakteryzującej się jednakową grubością w każdym miejscu niezależnie od krzywizny podłoża. 2. Zastosowanie według zastrz. 1, znamienne tym, że poli(p-ksylilen) jako materiał zabezpieczający powierzchnię płytki pomiarowej stosuje się w analizach techniką MALDI prowadzonych metodą z użyciem rozpuszczalnika oraz bez użycia rozpuszczalnika. 3. Zastosowanie według zastrz. 1, znamienne tym, że poli(p-ksylilen) jako materiał zabezpieczający powierzchnię płytki pomiarowej stosuje się w analizach widm techniką MALDI w trybie liniowym oraz reflektronowym. Departament Wydawnictw UPRP Cena 2,46 zł (w tym 23% VAT)
PL B1. AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA W KRAKOWIE, Kraków, PL BUP 14/12
PL 218561 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 218561 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 393413 (51) Int.Cl. G01N 27/02 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:
(62) Numer zgłoszenia, z którego nastąpiło wydzielenie:
PL 223874 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 223874 (21) Numer zgłoszenia: 413547 (22) Data zgłoszenia: 10.05.2013 (62) Numer zgłoszenia,
(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11)
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 172296 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 302820 (22) Data zgłoszenia: 28.03.1994 (51) IntCl6: C08L 33/26 C08F
PL B1. POLWAX SPÓŁKA AKCYJNA, Jasło, PL BUP 21/12. IZABELA ROBAK, Chorzów, PL GRZEGORZ KUBOSZ, Czechowice-Dziedzice, PL
PL 214177 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 214177 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 394360 (51) Int.Cl. B22C 1/02 (2006.01) C08L 91/08 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
PL B1. INSTYTUT METALURGII I INŻYNIERII MATERIAŁOWEJ IM. ALEKSANDRA KRUPKOWSKIEGO POLSKIEJ AKADEMII NAUK, Kraków, PL
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 211075 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 382853 (51) Int.Cl. C22C 5/08 (2006.01) B21D 26/02 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)
PL 219451 B1. UNIWERSYTET WARSZAWSKI, Warszawa, PL 30.09.2013 BUP 20/13 30.04.2015 WUP 04/15. PIOTR WASYLCZYK, Warszawa, PL RZECZPOSPOLITA POLSKA
PL 219451 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 219451 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 398538 (22) Data zgłoszenia: 21.03.2012 (51) Int.Cl.
PL B1. POLITECHNIKA WARSZAWSKA, Warszawa, PL BUP 25/06
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 209495 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 375424 (22) Data zgłoszenia: 30.05.2005 (51) Int.Cl. G01N 21/05 (2006.01)
Układ stabilizacji natężenia prądu termoemisji elektronowej i napięcia przyspieszającego elektrony zwłaszcza dla wysokich energii elektronów
PL 219991 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 219991 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 398424 (51) Int.Cl. G05F 1/56 (2006.01) H01J 49/26 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
PL B1. Sposób otrzymywania nieorganicznego spoiwa odlewniczego na bazie szkła wodnego modyfikowanego nanocząstkami
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 231738 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 404416 (51) Int.Cl. B22C 1/18 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 24.06.2013
(12) OPIS PATENTOWY (19) PL
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 178433 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 312817 (2 2 ) Data zgłoszenia: 13.02.1996 ( 5 1) IntCl6: D06M 15/19
PL B1. Sposób oznaczania stężenia koncentratu syntetycznego w świeżych emulsjach chłodząco-smarujących
PL 214125 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 214125 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 389756 (51) Int.Cl. G01N 33/30 (2006.01) G01N 33/26 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej
PL B1. POLITECHNIKA WARSZAWSKA, Warszawa, PL BUP 11/09
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 208829 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 383802 (51) Int.Cl. G01N 31/20 (2006.01) G01N 31/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)
PL B1. UNIWERSYTET EKONOMICZNY W POZNANIU, Poznań, PL BUP 21/09. DARIA WIECZOREK, Poznań, PL RYSZARD ZIELIŃSKI, Poznań, PL
PL 215965 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 215965 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 384841 (51) Int.Cl. C07D 265/30 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:
PL B1. AKU SPÓŁKA Z OGRANICZONĄ ODPOWIEDZIALNOŚCIĄ, Tczew, PL BUP 25/11
PL 218174 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 218174 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 391342 (51) Int.Cl. B65B 9/08 (2006.01) B65D 75/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
PL 213904 B1. Elektrolityczna, nanostrukturalna powłoka kompozytowa o małym współczynniku tarcia, zużyciu ściernym i korozji
PL 213904 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 213904 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 390004 (51) Int.Cl. C25D 3/12 (2006.01) C25D 15/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
,CZ,PUV FERMATA,
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 198144 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 346437 (51) Int.Cl. G11B 23/40 (2006.01) G11B 7/24 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)
PL B BUP 14/16
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 229798 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 410735 (51) Int.Cl. G01R 19/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 22.12.2014
PL B1. Urządzenie do badania nieciągłości struktury detali ferromagnetycznych na małej przestrzeni badawczej. POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL
PL 212769 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 212769 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 381653 (51) Int.Cl. G01N 27/82 (2006.01) G01R 33/12 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej
PL B1. AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA W KRAKOWIE, Kraków, PL BUP 15/15
PL 226438 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 226438 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 406862 (22) Data zgłoszenia: 16.01.2014 (51) Int.Cl.
PL B1. Preparat o właściwościach przeciwutleniających oraz sposób otrzymywania tego preparatu. POLITECHNIKA ŁÓDZKA, Łódź, PL
PL 217050 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 217050 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 388203 (22) Data zgłoszenia: 08.06.2009 (51) Int.Cl.
PL B1. POLITECHNIKA GDAŃSKA, Gdańsk, PL BUP 19/09. MACIEJ KOKOT, Gdynia, PL WUP 03/14. rzecz. pat.
PL 216395 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 216395 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 384627 (51) Int.Cl. G01N 27/00 (2006.01) H01L 21/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej
(54) Sposób wydzielania zanieczyszczeń organicznych z wody
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 175992 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 305151 (22) Data zgłoszenia: 23.09.1994 (51) IntCl6: C02F 1/26 (54)
PL B1. POLITECHNIKA ŁÓDZKA, Łódź, PL BUP 17/11. RADOSŁAW ROSIK, Łódź, PL WUP 08/12. rzecz. pat. Ewa Kaczur-Kaczyńska
PL 212206 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 212206 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 390424 (51) Int.Cl. C07C 31/20 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:
PL B1. POLITECHNIKA ŁÓDZKA, Łódź, PL
PL 221932 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 221932 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 398270 (22) Data zgłoszenia: 29.02.2012 (51) Int.Cl.
Analiza syntetycznych polimerów biodegradowalnych metod¹ spekrometrii mas z udzia³em matrycy (MALDI-TOF) kontra pomiary...
50 Beata MIKSA, Marek J. POTRZEBOWSKI Beata MIKSA, Marek J. POTRZEBOWSKI Centrum Badañ Molekularnych i Makromolekularnych Polskiej Akademii Nauk w odzi, miksa@cbmm.lodz.pl Analiza syntetycznych polimerów
PL B1. POLITECHNIKA WROCŁAWSKA, Wrocław, PL BUP 02/14. PIOTR OSIŃSKI, Wrocław, PL WUP 10/16. rzecz. pat.
PL 223648 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 223648 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 404800 (51) Int.Cl. F04C 2/08 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:
PL B1. POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL BUP 15/15. JANUSZ W. SIKORA, Dys, PL MACIEJ NOWICKI, Lublin, PL KAMIL ŻELAZEK, Lublin, PL
PL 223387 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 223387 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 410338 (22) Data zgłoszenia: 03.12.2014 (51) Int.Cl.
PL B1. POLITECHNIKA WROCŁAWSKA, Wrocław, PL BUP 06/14
PL 223622 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 223622 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 403511 (51) Int.Cl. G01T 1/04 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:
PL B1. Sposób lutowania beztopnikowego miedzi ze stalami lutami twardymi zawierającymi fosfor. POLITECHNIKA WROCŁAWSKA, Wrocław, PL
PL 215756 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 215756 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 386907 (51) Int.Cl. B23K 1/20 (2006.01) B23K 1/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
PL B1. Sposób nanoszenia warstwy uszczelniającej na rdzeń piankowy korka do zamykania butelek, zwłaszcza z winem
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 210808 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 381821 (22) Data zgłoszenia: 22.02.2007 (51) Int.Cl. B29C 45/14 (2006.01)
PL B1. Kwasy α-hydroksymetylofosfonowe pochodne 2-azanorbornanu i sposób ich wytwarzania. POLITECHNIKA WROCŁAWSKA, Wrocław, PL
PL 223370 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 223370 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 407598 (51) Int.Cl. C07D 471/08 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:
PL 203790 B1. Uniwersytet Śląski w Katowicach,Katowice,PL 03.10.2005 BUP 20/05. Andrzej Posmyk,Katowice,PL 30.11.2009 WUP 11/09 RZECZPOSPOLITA POLSKA
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 203790 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 366689 (51) Int.Cl. C25D 5/18 (2006.01) C25D 11/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)
PL B1. INSTYTUT MECHANIKI GÓROTWORU POLSKIEJ AKADEMII NAUK, Kraków, PL BUP 21/08. PAWEŁ LIGĘZA, Kraków, PL
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 209493 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 382135 (51) Int.Cl. G01F 1/698 (2006.01) G01P 5/12 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)
PL B1. POLITECHNIKA ŚWIĘTOKRZYSKA, Kielce, PL BUP 17/16. MAGDALENA PIASECKA, Kielce, PL WUP 04/17
PL 225512 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 225512 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 415204 (51) Int.Cl. C23C 10/28 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:
PL B1. PRZEDSIĘBIORSTWO CIMAT SPÓŁKA Z OGRANICZONĄ ODPOWIEDZIALNOŚCIĄ, Bydgoszcz, PL BUP 04/16
PL 223987 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 223987 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 409120 (22) Data zgłoszenia: 06.08.2014 (51) Int.Cl.
PL B1. AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA W KRAKOWIE, Kraków, PL BUP 12/17
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 227914 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 414972 (51) Int.Cl. G01R 15/04 (2006.01) G01R 1/18 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)
PL B1. AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA, Kraków, PL BUP 21/10. MARCIN ŚRODA, Kraków, PL
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 212156 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 387737 (51) Int.Cl. C03C 1/00 (2006.01) B09B 3/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data
PL B1. Sposób wykonania ogrodzeniowego słupka metalowego z zastosowaniem kotwy mocującej oraz słupek ogrodzeniowy według tego sposobu
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 209023 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 376668 (22) Data zgłoszenia: 18.08.2005 (51) Int.Cl. E04H 17/20 (2006.01)
Sposób otrzymywania kompozytów tlenkowych CuO SiO 2 z odpadowych roztworów pogalwanicznych siarczanu (VI) miedzi (II) i krzemianu sodu
PL 213470 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 213470 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 390326 (22) Data zgłoszenia: 01.02.2010 (51) Int.Cl.
PL B1. POLITECHNIKA ŁÓDZKA, Łódź, PL BUP 16/16
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 228088 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 411011 (22) Data zgłoszenia: 21.01.2015 (51) Int.Cl. C08L 83/04 (2006.01)
1. PRZYGOTOWANIE ROZTWORÓW KOMPLEKSUJĄCYCH
1. PRZYGOTOWANIE ROZTWORÓW KOMPLEKSUJĄCYCH 1.1. przygotowanie 20 g 20% roztworu KSCN w wodzie destylowanej 1.1.1. odważenie 4 g stałego KSCN w stożkowej kolbie ze szlifem 1.1.2. odważenie 16 g wody destylowanej
PL B1. Sposób oceny dokładności transformacji indukcyjnych przekładników prądowych dla prądów odkształconych. POLITECHNIKA ŁÓDZKA, Łódź, PL
PL 223692 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 223692 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 399602 (51) Int.Cl. G01R 35/02 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:
PL B1. ZACHODNIOPOMORSKI UNIWERSYTET TECHNOLOGICZNY W SZCZECINIE, Szczecin, PL BUP 06/14
PL 222179 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 222179 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 400696 (22) Data zgłoszenia: 10.09.2012 (51) Int.Cl.
PL B1. AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA W KRAKOWIE, Kraków, PL BUP 20/10
PL 216643 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 216643 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 390475 (22) Data zgłoszenia: 17.02.2010 (51) Int.Cl.
KALIBRACJA. ważny etap procedury analitycznej. Dr hab. inż. Piotr KONIECZKA
KALIBRAJA ważny etap procedury analitycznej 1 Dr hab. inż. Piotr KONIEZKA Katedra hemii Analitycznej Wydział hemiczny Politechnika Gdańska ul. G. Narutowicza 11/12 8-233 GDAŃK e-mail: piotr.konieczka@pg.gda.pl
PL B1. Sposób wytwarzania kompozytów włóknistych z osnową polimerową, o podwyższonej odporności mechanicznej na zginanie
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 210460 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 387681 (22) Data zgłoszenia: 02.04.2009 (51) Int.Cl. C08J 3/24 (2006.01)
PL B1. POLITECHNIKA ŁÓDZKA, Łódź, PL BUP 05/12
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 212507 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 392207 (22) Data zgłoszenia: 23.08.2010 (51) Int.Cl. C08L 9/06 (2006.01)
PL B1. WOJSKOWY INSTYTUT MEDYCYNY LOTNICZEJ, Warszawa, PL BUP 23/13
PL 222455 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 222455 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 399143 (51) Int.Cl. H02M 5/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:
PL B1. POLITECHNIKA WROCŁAWSKA, Wrocław, PL BUP 07/10. ZDZISŁAW NAWROCKI, Wrocław, PL DANIEL DUSZA, Inowrocław, PL
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 213448 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 386136 (51) Int.Cl. H03H 11/16 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 23.09.2008
PL B1. AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA W KRAKOWIE, Kraków, PL BUP 08/13
PL 223496 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 223496 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 399321 (51) Int.Cl. B23P 17/00 (2006.01) C21D 8/12 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
PL B1. Sposób badania przyczepności materiałów do podłoża i układ do badania przyczepności materiałów do podłoża
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 203822 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 358564 (51) Int.Cl. G01N 19/04 (2006.01) G01N 29/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)
PL B1. HERCO SPÓŁKA Z OGRANICZONĄ ODPOWIEDZIALNOŚCIĄ, Cielądz, PL BUP 24/13. SŁAWOMIR MAGIERA, Cielądz, PL
PL 222032 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 222032 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 399260 (22) Data zgłoszenia: 21.05.2012 (51) Int.Cl.
... ...J CD CD. N "f"'" Sposób i filtr do usuwania amoniaku z powietrza. POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL 09.11.2009 BUP 23/09
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19)PL (11)212766 (13) 81 (21) Numer zgłoszenia 385072 (51) Int.CI 801D 53/04 (2006.01) C01C 1/12 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data
OZNACZENIE JAKOŚCIOWE I ILOŚCIOWE w HPLC
OZNACZENIE JAKOŚCIOWE I ILOŚCIOWE w HPLC prof. Marian Kamiński Wydział Chemiczny, Politechnika Gdańska CEL Celem rozdzielania mieszaniny substancji na poszczególne składniki, bądź rozdzielenia tylko wybranych
PL B1. Sposób i układ pomiaru całkowitego współczynnika odkształcenia THD sygnałów elektrycznych w systemach zasilających
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 210969 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 383047 (51) Int.Cl. G01R 23/16 (2006.01) G01R 23/20 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)
(12) TŁUMACZENIE PATENTU EUROPEJSKIEGO (19) PL (11) PL/EP (96) Data i numer zgłoszenia patentu europejskiego:
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) TŁUMACZENIE PATENTU EUROPEJSKIEGO (19) PL (11) PL/EP 1748241 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (96) Data i numer zgłoszenia patentu europejskiego: 26.07.200 0106841.9
PL B1. Sposób wytwarzania opakowań do ziół w doniczkach oraz opakowanie do ziół w doniczkach
PL 216977 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 216977 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 391752 (22) Data zgłoszenia: 06.07.2010 (51) Int.Cl.
PL B1. Sposób kucia półfabrykatu zwłaszcza do wytwarzania wyrobów płaskich z jednym żebrem o zarysie trójkątnym
PL 215504 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 215504 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 395408 (22) Data zgłoszenia: 22.06.2011 (51) Int.Cl.
PL B1. AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA W KRAKOWIE, Kraków, PL BUP 12/13
PL 222357 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 222357 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 400712 (22) Data zgłoszenia: 10.09.2012 (51) Int.Cl.
PL B1 (12) O P I S P A T E N T O W Y (19) P L (11) (13) B 1 A61K 9/20. (22) Data zgłoszenia:
R Z E C Z PO SPO L IT A PO LSK A (12) O P I S P A T E N T O W Y (19) P L (11) 1 7 7 6 0 7 (21) Numer zgłoszenia: 316196 (13) B 1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 13.03.1995
PL B1. AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA, Kraków, PL BUP 17/09
PL 214449 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 214449 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 384436 (22) Data zgłoszenia: 11.02.2008 (51) Int.Cl.
PL B1. SINTERIT SPÓŁKA Z OGRANICZONĄ ODPOWIEDZIALNOŚCIĄ, Kraków, PL BUP 19/17
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 231538 (21) Numer zgłoszenia: 425084 (22) Data zgłoszenia: 09.03.2016 (13) B1 (51) Int.Cl. B29C 64/227 (2017.01) B29C 67/00 (2017.01) Urząd Patentowy
(12) OPIS PATENTOWY (13) PL (11)
RZECZPOSPOLITA POLSKA Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (12) OPIS PATENTOWY (13) PL (11) 181626 (21) Numer zgłoszenia: 313243 (22) Data zgłoszenia: 14.03.1996 (13) B1 (51 ) IntCl7 B09C 3/00 C04B
PL B1. Sposób odczytu topografii linii papilarnych i układ do odczytu topografii linii papilarnych. Politechnika Wrocławska,Wrocław,PL
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 202905 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 357399 (51) Int.Cl. G06K 9/00 (2006.01) A61B 5/117 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)
PL 218226 B1. Programator do sprzętu AGD, zwłaszcza do kuchni domowych wolnostojących i do wbudowania. AMICA WRONKI SPÓŁKA AKCYJNA, Wronki, PL
PL 218226 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 218226 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 389418 (51) Int.Cl. F24C 7/08 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:
PL B1. POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL BUP 23/12
PL 217995 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 217995 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 394733 (51) Int.Cl. B23P 15/32 (2006.01) B21H 3/10 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
(12) TŁUMACZENIE PATENTU EUROPEJSKIEGO (19) PL (11) PL/EP (96) Data i numer zgłoszenia patentu europejskiego:
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) TŁUMACZENIE PATENTU EUROPEJSKIEGO (19) PL (11) PL/EP 1968711 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (96) Data i numer zgłoszenia patentu europejskiego: 05.01.2007 07712641.5
WZORU UŻYTKOWEGO (19,PL <11) 62049
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS OCHRONNY _. ^ZEMPLARZABJHMLiW WZORU UŻYTKOWEGO (19,PL
PL B1. INSTYTUT MASZYN PRZEPŁYWOWYCH PAN, Gdańsk, PL JASIŃSKI MARIUSZ, Wągrowiec, PL GOCH MARCIN, Braniewo, PL MIZERACZYK JERZY, Rotmanka, PL
PL 215139 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 215139 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 383703 (22) Data zgłoszenia: 06.11.2007 (51) Int.Cl.
PL B1. POLITECHNIKA WROCŁAWSKA, Wrocław, PL BUP 05/18
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 230200 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 422004 (22) Data zgłoszenia: 26.06.2017 (51) Int.Cl. H05B 6/64 (2006.01)
(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 174162 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 303848 (51) IntCl6: F16H 1/14 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 14.06.1994 (54)
PL 198188 B1. Instytut Chemii Przemysłowej im.prof.ignacego Mościckiego,Warszawa,PL 03.04.2006 BUP 07/06
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 198188 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 370289 (51) Int.Cl. C01B 33/00 (2006.01) C01B 33/18 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)
PL B1. AKZO NOBEL COATINGS Sp. z o.o., Włocławek,PL BUP 11/ WUP 07/08. Marek Pawlicki,Włocławek,PL
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 198634 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 363728 (22) Data zgłoszenia: 26.11.2003 (51) Int.Cl. C09D 167/00 (2006.01)
PL B1. Układ do przetwarzania interwału czasu na słowo cyfrowe metodą kompensacji wagowej
PL 227455 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 227455 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 413964 (22) Data zgłoszenia: 14.09.2015 (51) Int.Cl.
PL B1. POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL BUP 06/18
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 230908 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 423256 (51) Int.Cl. C08L 95/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 24.10.2017
PL B1. POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL BUP 06/18
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 230907 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 423255 (51) Int.Cl. C08L 95/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 24.10.2017
PL 218203 B1. R&D PROJECT SPÓŁKA Z OGRANICZONĄ ODPOWIEDZIALNOŚCIĄ, Łódź, PL 17.12.2012 BUP 26/12
PL 218203 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 218203 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 395134 (51) Int.Cl. B23B 3/16 (2006.01) B23B 3/18 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
PL B1. UNIWERSYTET IM. ADAMA MICKIEWICZA W POZNANIU, Poznań, PL BUP 24/17
RZECZPOSPOLITA POLSKA (2) OPIS PATENTOWY (9) PL () 229709 (3) B (2) Numer zgłoszenia: 49663 (5) Int.Cl. C07F 7/30 (2006.0) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 05.2.206 (54)
PL B1. IWONA PELLETS SPÓŁKA Z OGRANICZONĄ ODPOWIEDZIALNOŚCIĄ, Aleksandrów Łódzki, PL BUP 06/16
PL 225209 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 225209 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 409455 (22) Data zgłoszenia: 10.09.2014 (51) Int.Cl.
A61B 5/0492 ( ) A61B
PL 213307 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 213307 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 383187 (22) Data zgłoszenia: 23.08.2007 (51) Int.Cl.
PL 201347 B1. Politechnika Białostocka,Białystok,PL 29.07.2002 BUP 16/02. Roman Kaczyński,Białystok,PL Marek Jałbrzykowski,Wysokie Mazowieckie,PL
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 201347 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 351999 (51) Int.Cl. G01N 3/56 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 04.02.2002
Fotochromowe kopolimery metakrylanu butylu zawierające pochodne 4-amino-N-(4-metylopirymidyn-2-ilo)benzenosulfonamidu i sposób ich otrzymywania
PL 224153 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 224153 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 411794 (22) Data zgłoszenia: 31.03.2015 (51) Int.Cl.
PL B1. POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL BUP 02/17. TOMASZ KLEPKA, Lublin, PL MACIEJ NOWICKI, Lublin, PL
PL 226979 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 226979 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 413084 (22) Data zgłoszenia: 10.07.2015 (51) Int.Cl.
PL B1. AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA W KRAKOWIE, Kraków, PL BUP 08/13
PL 223497 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 223497 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 399322 (51) Int.Cl. B23P 17/00 (2006.01) C21D 8/12 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
PL B1. POLITECHNIKA ŁÓDZKA, Łódź, PL BUP 19/13
PL 217937 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 217937 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 398470 (51) Int.Cl. A61K 9/48 (2006.01) A61K 9/16 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
PL B1. POLITECHNIKA WROCŁAWSKA, Wrocław, PL BUP 25/09. ANDRZEJ KOLONKO, Wrocław, PL ANNA KOLONKO, Wrocław, PL
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 209351 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 385341 (51) Int.Cl. F16L 55/165 (2006.01) F16L 58/02 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)
PL B1. LIW-LEWANT Fabryka Wyrobów z Tworzyw Sztucznych Sp. z o.o. Zakład Pracy Chronionej,Bielawa,PL BUP 06/
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 204702 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 377033 (51) Int.Cl. C23C 14/00 (2006.01) C25D 17/08 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)
PL B1. WIJAS PAWEŁ, Kielce, PL BUP 26/06. PAWEŁ WIJAS, Kielce, PL WUP 09/12. rzecz. pat. Wit Flis RZECZPOSPOLITA POLSKA
PL 212307 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 212307 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 375676 (51) Int.Cl. F24H 9/20 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:
PL B1. AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA W KRAKOWIE, Kraków, PL BUP 12/13
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 229864 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 401393 (22) Data zgłoszenia: 29.10.2012 (51) Int.Cl. C04B 28/04 (2006.01)
PL B1. POLITECHNIKA OPOLSKA, Opole, PL BUP 17/17. JAROSŁAW ZYGARLICKI, Krzyżowice, PL WUP 03/18
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 228251 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 420600 (51) Int.Cl. H02H 3/32 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 20.02.2017
PL B1. POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL BUP 26/16. ZBIGNIEW PATER, Turka, PL JANUSZ TOMCZAK, Lublin, PL PAULINA PATER, Turka, PL
PL 226860 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 226860 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 414202 (51) Int.Cl. B21H 1/18 (2006.01) B21B 23/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
PL B1. Sposób wyznaczania błędów napięciowego i kątowego indukcyjnych przekładników napięciowych dla przebiegów odkształconych
PL 216925 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 216925 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 389198 (51) Int.Cl. G01R 35/02 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:
PL B1. Sposób chłodzenia obwodów form odlewniczych i układ technologiczny urządzenia do chłodzenia obwodów form odlewniczych
PL 221794 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 221794 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 404233 (22) Data zgłoszenia: 06.06.2013 (51) Int.Cl.
PL B1. Sposób wyciskania wyrobów, zwłaszcza metalowych i zespół do wyciskania wyrobów, zwłaszcza metalowych
PL 219234 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 219234 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 394924 (51) Int.Cl. B21C 23/02 (2006.01) B21C 25/02 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej
PL B1. INSTYTUT TECHNIKI BUDOWLANEJ, Warszawa, PL BUP 05/ WUP 11/16. WOJCIECH KUJAWSKI, Poznań, PL
PL 224149 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 224149 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 411400 (51) Int.Cl. G01M 3/00 (2006.01) G01M 3/08 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
PL B1. Układ do optycznego pomiaru parametrów plazmy generowanej wewnątrz kapilary światłowodowej. POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL
PL 225214 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 225214 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 414026 (22) Data zgłoszenia: 16.09.2015 (51) Int.Cl.
PL B1. Instytut Automatyki Systemów Energetycznych,Wrocław,PL BUP 26/ WUP 08/09. Barbara Plackowska,Wrocław,PL
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 202961 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 354738 (51) Int.Cl. G01F 23/14 (2006.01) F22B 37/78 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22)
PL B1. POLITECHNIKA WROCŁAWSKA, Wrocław, PL BUP 02/08. PIOTR KURZYNOWSKI, Wrocław, PL JAN MASAJADA, Nadolice Wielkie, PL
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 211200 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 380223 (22) Data zgłoszenia: 17.07.2006 (51) Int.Cl. G01N 21/23 (2006.01)
(12) TŁUMACZENIE PATENTU EUROPEJSKIEGO (19) PL (11) PL/EP (96) Data i numer zgłoszenia patentu europejskiego:
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) TŁUMACZENIE PATENTU EUROPEJSKIEGO (19) PL (11) PL/EP 2122 (96) Data i numer zgłoszenia patentu europejskiego: 2..07 07866441.4 (13) (1) T3 Int.Cl. D21H 19/06 (06.01) Urząd Patentowy
PL B1. Proteza ścięgna zginacza palca ręki oraz zastosowanie protezy ścięgna zginacza palca ręki. GDAŃSKI UNIWERSYTET MEDYCZNY, Gdańsk, PL
PL 220885 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 220885 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 400398 (22) Data zgłoszenia: 14.08.2012 (51) Int.Cl.