Czujniki mikromechaniczne
|
|
- Damian Kowalik
- 7 lat temu
- Przeglądów:
Transkrypt
1 Czujniki mikromechaniczne WSTĘP Narzędzia mikroelektroniki zastosowane do struktur mechanicznych pozwalają wytworzyć nie tylko proste czujniki o wymiarach mikronowych ale całe struktury - mikrosystemy. Terminologia: technologia mikromaszyn - Japonia technologia mikrosystemów MST - Europa systemy mikroelektromechaniczne MEMSy - USA Historycznie pierwszym materiałem w technologii mikromechanicznej (i do dziś dominującym) jest Si. Poza tym stosuje się mat. typowe dla technologii CMOS (SiO 2, Si 3 N 4, Al) oraz zaczyna się stosować inne półprz. (SiC, GaAs, diament), metale i ich tlenki, polimery organiczne. 1
2 Szczególne właściwości mechaniczne Si: moduł Younga - bliski stali granica plastyczności - dwa razy większa niż w stali twardość - wyższa niż stali wsp. rozszerz. term. - pięć razy mniejszy niż dla stali wysokie przewodnictwo cieplne nie wykazuje histerezy mechanicznej, niskie wew. tłumienie silny efekt piezorezystancyjny wada - kruchość. Jako półprzewodnik krzem jest najpowszechniej stosowany stąd łatwość integracji el. mechanicznych z elektroniką. Mechaniczne i elektryczne wł. podłoży krzemowych są powtarzalne i łatwo można je zmieniać, komercyjnie wytw. c-si jest wysokiej czystości i jakości. 2
3 Własności krzemu w porównaniu do innych materiałów Si SiC diament Stal nierdz. Al Punkt topnienia (st. C) Max. temp. pracy (st. C) Wsp. rozsz. term. (10-6 /st.c) Wsp. przew. ciepl. (W/cm K) Gęstość (g/cm 3 ) Moduł Younga (10 11 N/m 2 ) Granica plastycz -ności (10 9 N/m 2 ) Twardość w skali Knoopa (kg/m 2 ) Wytrz. dielektr. (MV/m) Przerwa energet. (ev)
4 W ogólności wraz ze zmianą wymiaru obiektu r w kierunku miniaturyzacji rośnie rola powierzchni S (zmiana wym. liniowego o rząd daje zmianę pow. o dwa rzędy a objętości V o trzy rzędy). S/ V Własności powierzchni rozciągają się częściowo w głąb. Twardość, odporność na korozję - uwar. są własnościami kilku warstw atomowych. 4
5 W obszarze nanotechnologii obserwuje się zależność parametrów sprężystych materiałów od wymiarów. Odchylenie własności sprężystej D od D c dla materiału w skali makro wynosi D D c D c S 1 h o E h h gdzie: - stała zal. od geometrii h - długość określ. wymiar struktury S - powierzchniowa stała sprężystości E - objętościowy moduł Younga h 0 - wymiar, dla którego istnieje wpływ powierzchni (dla c-si h nm, a więc wpływ powierzch. istnieje dla h < 5 nm) 5
6 Technologia mikromechaniczna Podział technologii mikromechanicznych: - objętościowa (głębokie trawienie c-si), mikrostruktury 3-wym. typu belki, membrany, rowki itp; - powierzchniowa (trawienie warstw naniesionych na podłoże, najczęściej warstw poli-si na podł. Si) 6
7 Trzycalowa płytka Si z czujnikami gazów Akcelerometry krzemowe Wybrane mikrostruktury powstałe w wyniku trawienia 7
8 Podstawowe elementy objętościowe membrany belki 8
9 Otrzymywanie belki wspornikowej metodami mikromechaniki powierzchniowej Warstwa dystansowa (poświęcana) 9
10 Fotolitografia Proces trawienia Si poprzedzony jest fotolitograficznym naniesieniem wzoru (pattern transfer) 10
11 Trawienie Trawienie głębokie to głównie tzw. trawienie mokre anizotropowe (o szybkości zależnej od orientacji krystalograficznej). Możliwości z tego wynikające odkryto na początku lat Stosując określone środki trawiące uzyskuje się w krzemie duże szybkości trawienia dla płaszczyzn {100} i {110} a znikomo małe dla {111}. Domieszkowanie Si borem powoduje gwałtowny spadek szybkości trawienia (dla konc. B > cm -3 szybkość trawienia spada 3 rzędy). Selektywność trawienia można również uzyskać w procesie elektrochemicznym. 11
12 Środki trawiące anizotropowo: KOH + woda środek b.selektywny, stosunek szybkości trawienia płaszczyzn {100} do {111} wynosi 200 : 1 EDP (etylenodiamina + pirokatechol + woda) środek mniej selektywny, b. wolno trawiący SiO 2 - zaleta Hydrazyna + woda duża szybkość trawienia {100}, selektywność mała ok. 10:1. 12
13 Trawienie elektrochemiczne Szybkość trawienia zależy od różnicy potencjałów między próbką i środkiem trawiącym. V RE dobrane tak aby zachodziło trawienie podłoża. Potencjał epiwarstwy V RE + V E dobrany tak aby był powyżej progu pasywaji n-si. Trawienie zatrzymuje się na warstwie epitaksjalnej, tworząc warstwę pasywacyjną. 13
14 Trawienie suche (w plaźmie gazowej) Jony Ar, O 2 CF 4, SF 6 RIE Trawienie plazmowe jest procesem czystym, bardzo użytecznym w przypadku gdy nie można stosować trawienia mokrego. 14
15 Izotropowe trawienie cienkich warstw Przykłady środków trawiących dla wybranych cienkich warstw: Si: HF + HNO 3 + H 2 O SiO 2 : HF + H 2 O Si 3 N 4 : H 3 PO 4 + H 2 O Al: trawienie plazmowe lub reaktywne jonowe Warstwy Au, Pt nie są trawione ale kształtowane w tzw. procesie liftoff. 15
16 Proces lift off Fotorezyst jest nasączony przed ekspozycją w chlorobenzenie, w wyniku czego warstwa wierzchnia jest słabiej rozpuszczlna w wywoływaczu Naparowanie metalu Usunięcie fotorezystu Uzyskano wzór ścieżki metalicznej bez trawienia metalu. 16
17 Czujniki wytwarzane w procesach zintegrowanych Piezorezystancyjny czujnik ciśnienia 17
18 Połączenie krzem - szkło Mostek z piezorezystorami (przekrój) 18
19 Proces technologiczny wytwarzania piezorezystancyjnego czujnika ciśnienia 19
20 Czujnik ciśnienia z piezoelektryczną warstwą ZnO T ox tlenek termiczny (izolacja od podłoża) ZnO technologia rozpylenia 20
21 Czujniki ciśnienia firmy Motorola X - ducer 21
22 Budowa czujnika ciśnienia firmy Motorola Pomiar ciśnienia bezwzględnego Pomiar ciśnienia różnicowego 22
23 Czujnik przyspieszenia Struktura pionowa Struktura boczna 23
24 Czujnik przyspieszenia Pojemnościowy czujnik przyspieszenia Piezorezystywny czujnik przyspieszenia Szczegóły belki 24
25 Aktuatory Mikrosilnik elektrostatyczny średnica rotora 0.1 mm 25
26 Mikrosilnik magnetyczny 26
27 Mikrosystemy 27
28 Mikrosamochód (Nippondenso Co., Ltd, Japan Model pierwszej Toyoty w skali 1:1000 (dł. 4.8mm). Pojazd w pełni funkcjonalny. Silnik elektromagnetyczny, szybkość 2 cm/s 28
29 Mikromaszyny Miniaturowa łódź podwodna (4 x 0.8 mm) w naczyniu krwionośnym (Micro TECH Duisburg) 29
30 Mikrosonda Mikroskopu AFM (Atomic Force Microscope) L 1 = 175 m L 2 = 75 m w = 20 m b = 90 m l = 2 m 30
31 System telewizji projekcyjnej (Texas Instruments) Mikrozwierciadło Al ze sterowaniem cyfrowym Struktura adresująca CMOS SRAM Matryca Mikrozwierciadeł Typowe parametry: 768 X 576 pixeli, tj zwierciadeł 31
32 Mikromaszyny w zastosowaniach medycznych Minimalnie inwazyjna terapia (MIT) Minimalnie inwazyjna chirurgia (MIS) Manipulator endoskopowy do chirurgii guza 32
Technika sensorowa. Czujniki mikromechaniczne - cz.1
Technika sensorowa Czujniki mikromechaniczne - cz.1 dr inż. Wojciech Maziarz, prof. dr hab. T. Pisarkiewicz Katedra Elektroniki C-1, p.301, tel. 12 617 30 39 Kontakt: Wojciech.Maziarz@agh.edu.pl 1 Czujniki
Bardziej szczegółowoSensory w systemach wbudowanych
Sensory w systemach wbudowanych Technologia MEMS wytwarzanie współczesnych czujników dr inż. Wojciech Maziarz, Katedra Elektroniki C-1, p.301, tel. 12 617 30 39 Kontakt: Wojciech.Maziarz@agh.edu.pl 1 Czujniki
Bardziej szczegółowoElementy technologii mikroelementów i mikrosystemów. USF_3 Technologia_A M.Kujawińska, T.Kozacki, M.Jóżwik 3-1
Elementy technologii mikroelementów i mikrosystemów USF_3 Technologia_A M.Kujawińska, T.Kozacki, M.Jóżwik 3-1 Elementy technologii mikroelementów i mikrosystemów Typowe wymagania klasy czystości: 1000/100
Bardziej szczegółowoTechnika sensorowa. Czujniki piezorezystancyjne. dr inż. Wojciech Maziarz Katedra Elektroniki C-1, p.301, tel
Technika sensorowa Czujniki piezorezystancyjne dr inż. Wojciech Maziarz Katedra Elektroniki C-1, p.301, tel. 12 617 30 39 Wojciech.Maziarz@agh.edu.pl 1 Czujniki działające w oparciu o efekt Tensometry,
Bardziej szczegółowoMIKROSYSTEMY. Ćwiczenie nr 2a Utlenianie
MIKROSYSTEMY Ćwiczenie nr 2a Utlenianie 1. Cel ćwiczeń: Celem zajęć jest wykonanie kompletnego procesu mokrego utleniania termicznego krzemu. W skład ćwiczenia wchodzą: obliczenie czasu trwania procesu
Bardziej szczegółowoWłaściwości kryształów
Właściwości kryształów Związek pomiędzy właściwościami, strukturą, defektami struktury i wiązaniami chemicznymi Skład i struktura Skład materiału wpływa na wszystko, ale głównie na: właściwości fizyczne
Bardziej szczegółowoTECHNOLOGIA STRUKTUR MOEMS
Różne wyniki trawienia krzemu TECHNOLOGIA STRUKTUR MOEMS prof. nzw. Romuald B. Beck Wykład 3 Warszawa, czerwiec 2008 Wytwarzanie belki (belka krzemowa) Magnetic Force Microscope MFM Ostrze do analizy MFM
Bardziej szczegółowoElementy technologii mikroelementów i mikrosystemów. Typowe wymagania klasy czystości: 1000/100 (technologie 3 µm)
Elementy technologii mikroelementów i mikrosystemów Typowe wymagania klasy czystości: 1000/100 (technologie 3 µm) np. pamięci: 64k 1000/100 >1M 100/10 USF_4 Technologia M.Kujawińska, T.Kozacki, M.Józwik
Bardziej szczegółowoTechnika sensorowa. Czujniki mikromechaniczne cz. 2
Technika sensorowa Czujniki mikromechaniczne cz. 2 dr inż. Wojciech Maziarz, prof. dr hab. T. Pisarkiewicz Katedra Elektroniki C-1, p.301, tel. 12 617 30 39 Kontakt: Wojciech.Maziarz@agh.edu.pl 1 Czujniki
Bardziej szczegółowoMATERIAŁY SUPERTWARDE
MATERIAŁY SUPERTWARDE Twarde i supertwarde materiały Twarde i bardzo twarde materiały są potrzebne w takich przemysłowych zastosowaniach jak szlifowanie i polerowanie, cięcie, prasowanie, synteza i badania
Bardziej szczegółowoOBRÓBKA PLAZMOWA W MIKROELEKTRONICE I MIKROMECHANICE
OBRÓBKA PLAZMOWA W MIKROELEKTRONICE I MIKROMECHANICE Metody suchego i mokrego trawienia umożliwiają selektywne trawienie metali, przewodników, dielektryków a także światłoczułych materiałów organicznych
Bardziej szczegółowoSkalowanie układów scalonych
Skalowanie układów scalonych Technologia mikroelektroniczna Charakterystyczne parametry najmniejszy realizowalny rozmiar (ang. feature size), liczba bramek (układów) na jednej płytce, wydzielana moc, maksymalna
Bardziej szczegółowoMarek Lipiński WPŁYW WŁAŚCIWOŚCI FIZYCZNYCH WARSTW I OBSZARÓW PRZYPOWIERZCHNIOWYCH NA PARAMETRY UŻYTKOWE KRZEMOWEGO OGNIWA SŁONECZNEGO
Marek Lipiński WPŁYW WŁAŚCIWOŚCI FIZYCZNYCH WARSTW I OBSZARÓW PRZYPOWIERZCHNIOWYCH NA PARAMETRY UŻYTKOWE KRZEMOWEGO OGNIWA SŁONECZNEGO Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej im. Aleksandra Krupkowskiego
Bardziej szczegółowoSkalowanie układów scalonych Click to edit Master title style
Skalowanie układów scalonych Charakterystyczne parametry Technologia mikroelektroniczna najmniejszy realizowalny rozmiar (ang. feature size), liczba bramek (układów) na jednej płytce, wydzielana moc, maksymalna
Bardziej szczegółowoDobór materiałów konstrukcyjnych cz.13
Dobór materiałów konstrukcyjnych cz.13 dr inż. Hanna Smoleńska Katedra Inżynierii Materiałowej i Spajania Wydział Mechaniczny, Politechnika Gdańska Materiały edukacyjne ROZSZERZALNOŚĆ CIEPLNA LINIOWA Ashby
Bardziej szczegółowoSensory w systemach wbudowanych
Sensory w systemach wbudowanych Przegląd nowoczesnych przetworników: mikroaktuatory dr inż. Wojciech Maziarz Wydział IET, Katedra Elektroniki C-1, p.301, tel. 12 617 30 39 Kontakt: Wojciech.Maziarz@agh.edu.pl
Bardziej szczegółowoModelowanie mikrosystemów - laboratorium. Ćwiczenie 1. Modelowanie ugięcia membrany krzemowej modelowanie pracy mikromechanicznego czujnika ciśnienia
Modelowanie mikrosystemów - laboratorium Ćwiczenie 1 Modelowanie ugięcia membrany krzemowej modelowanie pracy mikromechanicznego czujnika ciśnienia Zadania i cel ćwiczenia. Celem ćwiczenia jest dobranie
Bardziej szczegółowoMikrosystemy Wprowadzenie. Prezentacja jest współfinansowana przez Unię Europejską w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego w projekcie pt.
Mikrosystemy Wprowadzenie Prezentacja jest współfinansowana przez Unię Europejską w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego w projekcie pt. Innowacyjna dydaktyka bez ograniczeń - zintegrowany rozwój
Bardziej szczegółowoNauka o Materiałach. Wykład XI. Właściwości cieplne. Jerzy Lis
Nauka o Materiałach Wykład XI Właściwości cieplne Jerzy Lis Nauka o Materiałach Treść wykładu: 1. Stabilność termiczna materiałów 2. Pełzanie wysokotemperaturowe 3. Przewodnictwo cieplne 4. Rozszerzalność
Bardziej szczegółowoPiezorezystancyjny czujnik ciśnienia: modelowanie membrany krzemowej podstawowego elementu piezorezystancyjnego czujnika ciśnienia
MIKROSYSTEMY - laboratorium Ćwiczenie 1 Piezorezystancyjny czujnik ciśnienia: modelowanie membrany krzemowej podstawowego elementu piezorezystancyjnego czujnika ciśnienia Zadania i cel ćwiczenia. Celem
Bardziej szczegółowoWpływ defektów punktowych i liniowych na własności węglika krzemu SiC
Wpływ defektów punktowych i liniowych na własności węglika krzemu SiC J. Łażewski, M. Sternik, P.T. Jochym, P. Piekarz politypy węglika krzemu SiC >250 politypów, najbardziej stabilne: 3C, 2H, 4H i 6H
Bardziej szczegółowoCzyszczenie powierzchni podłoży jest jednym z
to jedna z największych w Polsce inwestycji w obszarze badań i rozwoju wysokich technologii (high-tech). W jej wyniku powstała sieć laboratoriów wyposażonych w najnowocześniejszą infrastrukturę techniczną,
Bardziej szczegółowoModelowanie mikrosystemów - laboratorium. Ćwiczenie 1. Modelowanie ugięcia membrany krzemowej modelowanie pracy mikromechanicznego czujnika ciśnienia
Modelowanie mikrosystemów - laboratorium Ćwiczenie 1 Modelowanie ugięcia membrany krzemowej modelowanie pracy mikromechanicznego czujnika ciśnienia Zadania i cel ćwiczenia. Celem ćwiczenia jest dobranie
Bardziej szczegółowoTechnologia elementów optycznych
Technologia elementów optycznych dr inż. Michał Józwik pokój 507a jozwik@mchtr.pw.edu.pl Część 7 Technologia mikrosystemów MEMS/MOEMS Pojęcia podstawowe Wymiary MEMS/MOEMS Elementy technologii mikroelementów
Bardziej szczegółowoSPM Scanning Probe Microscopy Mikroskopia skanującej sondy STM Scanning Tunneling Microscopy Skaningowa mikroskopia tunelowa AFM Atomic Force
SPM Scanning Probe Microscopy Mikroskopia skanującej sondy STM Scanning Tunneling Microscopy Skaningowa mikroskopia tunelowa AFM Atomic Force Microscopy Mikroskopia siły atomowej MFM Magnetic Force Microscopy
Bardziej szczegółowoLeon Murawski, Katedra Fizyki Ciała Stałego Wydział Fizyki Technicznej i Matematyki Stosowanej
Nanomateriałów Leon Murawski, Katedra Fizyki Ciała Stałego Wydział Fizyki Technicznej i Matematyki Stosowanej POLITECHNIKA GDAŃSKA Centrum Zawansowanych Technologii Pomorze ul. Al. Zwycięstwa 27 80-233
Bardziej szczegółowoElementy przełącznikowe
Elementy przełącznikowe Dwie główne grupy: - niesterowane (diody p-n lub Schottky ego), - sterowane (tranzystory lub tyrystory) Idealnie: stan ON zwarcie, stan OFF rozwarcie, przełączanie bez opóźnienia
Bardziej szczegółowoPL B1. INSTYTUT TECHNOLOGII ELEKTRONOWEJ, Warszawa, PL BUP 26/06
PL 212025 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 212025 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 375716 (51) Int.Cl. H01L 27/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:
Bardziej szczegółowoBadania wybranych nanostruktur SnO 2 w aspekcie zastosowań sensorowych
Badania wybranych nanostruktur SnO 2 w aspekcie zastosowań sensorowych Monika KWOKA, Jacek SZUBER Instytut Elektroniki Politechnika Śląska Gliwice PLAN PREZENTACJI 1. Podsumowanie dotychczasowych prac:
Bardziej szczegółowoELEMENTY ELEKTRONICZNE
AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA W KRAKOWIE Wydział Elektrotechniki, Automatyki, Informatyki i Elektroniki Katedra Elektroniki ELEMENTY ELEKTRONICZNE dr inż. Piotr Dziurdzia paw. C-3,
Bardziej szczegółowo3. Materiały stosowane do budowy maszyn elektrycznych
3. Materiały stosowane do budowy maszyn elektrycznych 3.1. Materiały na rdzenie magnetyczne Wymagania w stosunku do materiałów magnetycznych miękkich: - duża indukcja nasycenia, - łatwa magnasowalność
Bardziej szczegółowoDobór materiałów konstrukcyjnych cz. 2
Dobór materiałów konstrukcyjnych cz. 2 dr inż. Hanna Smoleńska Katedra Inżynierii Materiałowej i Spajania Wydział Mechaniczny, Politechnika Gdańska Materiały edukacyjne Własności materiałów brane pod uwagę
Bardziej szczegółowoOdporny na korozję czujnik ciśnienia dla mikroreaktorów chemicznych
MIKROMASZYNY I MIKRONAPĘDY DETEKCJA W MIKRO- I NANOOBJĘTOŚCIACH Laboratorium nr 1 Odporny na korozję czujnik ciśnienia dla mikroreaktorów chemicznych Charakterystyka badanego elementu: Odporny na korozję
Bardziej szczegółowoProcesy technologiczne w elektronice
Procesy technologiczne w elektronice Wytwarzanie monokryształów Si i innych. Domieszkowanie; wytwarzanie złącz. Nanoszenie cienkich warstw. Litografia. Wytwarzanie warstw izolatora. Trawienie. Montowanie
Bardziej szczegółowoTechnologia sprzętu optoelektronicznego. dr inż. Michał Józwik pokój 507a
Technologia sprzętu optoelektronicznego dr inż. Michał Józwik pokój 507a jozwik@mchtr.pw.edu.pl Treść wykładu Specyfika wymagań i technologii elementów optycznych. Ogólna struktura procesów technologicznych.
Bardziej szczegółowoMATERIAŁY STOSOWANE NA POWŁOKI PRZECIWZUŻYCIOWE
MATERIAŁY STOSOWANE NA POWŁOKI PRZECIWZUŻYCIOWE PAWEŁ URBAŃCZYK Streszczenie: W artykule przedstawiono klasyfikację materiałów stosowanych na powłoki przeciwzużyciowe. Przeanalizowano właściwości fizyczne
Bardziej szczegółowoFRIALIT -DEGUSSIT Ceramika Tlenkowa. Materiały, zastosowanie i właściwości
- Ceramika Tlenkowa Materiały, zastosowanie i właściwości Grupy i obszary zastosowania 02 03 Materiały i typowe zastosowania 04 05 Właściwości materiału 06 07 Grupy i obszary zastosowania - Ceramika Tlenkowa
Bardziej szczegółowoĆwiczenie 1: Wyznaczanie warunków odporności, korozji i pasywności metali
Ćwiczenie 1: Wyznaczanie warunków odporności, korozji i pasywności metali Wymagane wiadomości Podstawy korozji elektrochemicznej, wykresy E-pH. Wprowadzenie Główną przyczyną zniszczeń materiałów metalicznych
Bardziej szczegółowoSTALE STOPOWE KONSTRUKCYJNE. Publikacja współfinansowana ze środków Unii Europejskiej w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego
STALE STOPOWE KONSTRUKCYJNE Publikacja współfinansowana ze środków Unii Europejskiej w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego STALE STOPOWE KONSTRUKCYJNE Ważniejsze grupy stali: stale spawalne o podwyższonej
Bardziej szczegółowoI Konferencja. InTechFun
I Konferencja Innowacyjne technologie wielofunkcyjnych materiałów i struktur dla nanoelektroniki, fotoniki, spintroniki i technik sensorowych InTechFun 9 kwietnia 2010 r., Warszawa POIG.01.03.01-00-159/08
Bardziej szczegółowoSzkło kuloodporne: składa się z wielu warstw różnych materiałów, połączonych ze sobą w wysokiej temperaturze. Wzmacnianie szkła
Wzmacnianie szkła Laminowanie szkła. Są dwa sposoby wytwarzania szkła laminowanego: 1. Jak na zdjęciach, czyli umieszczenie polimeru pomiędzy warstwy szkła i sprasowanie całego układu; polimer (PVB ma
Bardziej szczegółowoTECHNOLOGIA WYKONANIA PRZYRZĄDÓW PÓŁPRZEWOD- NIKOWYCH WYK. 16 SMK Na pdstw.: W. Marciniak, WNT 1987: Przyrządy półprzewodnikowe i układy scalone,
TECHNOLOGIA WYKONANIA PRZYRZĄDÓW PÓŁPRZEWOD- NIKOWYCH WYK. 16 SMK Na pdstw.: W. Marciniak, WNT 1987: Przyrządy półprzewodnikowe i układy scalone, 1. Technologia wykonania złącza p-n W rzeczywistych złączach
Bardziej szczegółowo(zwane również sensorami)
Czujniki (zwane również sensorami) Ryszard J. Barczyński, 2016 Politechnika Gdańska, Wydział FTiMS, Katedra Fizyki Ciała Stałego Materiały dydaktyczne do użytku wewnętrznego Czujniki Czujniki służą do
Bardziej szczegółowoZASADY KONSTRUKCJI APARATURY ELEKTRONICZNEJ
Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Politechniki Wrocławskiej ZASADY KONSTRUKCJI APARATURY ELEKTRONICZNEJ Dr hab. inż. JAN FELBA Profesor nadzwyczajny PWr 1 PROGRAM WYKŁADU Cele i bariery Ogólne
Bardziej szczegółowoPROJEKTOWANIE UKŁADÓW VLSI
prof. dr hab. inż. Andrzej Kos Tel. 34.35, email: kos@uci.agh.edu.pl Pawilon C3, pokój 505 PROJEKTOWANIE UKŁADÓW VLSI Forma zaliczenia: egzamin Układy VLSI wczoraj i dzisiaj Pierwszy układ scalony -
Bardziej szczegółowoRZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 174002 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 300055 (22) Data zgłoszenia: 12.08.1993 (5 1) IntCl6: H01L21/76 (54)
Bardziej szczegółowoNADPRZEWODNIKI WYSOKOTEMPERATUROWE (NWT) W roku 1986 Alex Muller i Georg Bednorz odkryli. miedziowo-lantanowym, w którym niektóre atomy lantanu były
FIZYKA I TECHNIKA NISKICH TEMPERATUR NADPRZEWODNICTWO NADPRZEWODNIKI WYSOKOTEMPERATUROWE (NWT) W roku 1986 Alex Muller i Georg Bednorz odkryli nadprzewodnictwo w złożonym tlenku La 2 CuO 4 (tlenku miedziowo-lantanowym,
Bardziej szczegółowoLASEROWA OBRÓBKA MATERIAŁÓW
LASEROWA OBRÓBKA MATERIAŁÓW Promieniowanie laserowe umożliwia wykonanie wielu dokładnych operacji technologicznych na różnych materiałach: o trudno obrabialnych takich jak diamenty, metale twarde, o miękkie
Bardziej szczegółowoWPŁYW RODZAJU MASY OSŁANIAJĄCEJ NA STRUKTURĘ, WŁAŚCIWOŚCI MECHANICZNE I ODLEWNICZE STOPU Remanium CSe
WYśSZA SZKOŁA INśYNIERII DENTYSTYCZNEJ im. prof. Meissnera w Ustroniu WYDZIAŁ INśYNIERII DENTYSTYCZNEJ WPŁYW RODZAJU MASY OSŁANIAJĄCEJ NA STRUKTURĘ, WŁAŚCIWOŚCI MECHANICZNE I ODLEWNICZE STOPU Remanium
Bardziej szczegółowoFRIATEC AG. Ceramics Division FRIDURIT FRIALIT-DEGUSSIT
FRIATEC AG Ceramics Division FRIDURIT FRIALIT-DEGUSSIT FRIALIT-DEGUSSIT Ceramika tlenkowa Budowa dla klienta konkretnego rozwiązania osiąga się poprzez zespół doświadczonych inżynierów i techników w Zakładzie
Bardziej szczegółowoDiody elektroluminescencyjne na bazie GaN z powierzchniowymi kryształami fotonicznymi
Diody elektroluminescencyjne na bazie z powierzchniowymi kryształami fotonicznymi Krystyna Gołaszewska Renata Kruszka Marcin Myśliwiec Marek Ekielski Wojciech Jung Tadeusz Piotrowski Marcin Juchniewicz
Bardziej szczegółowoMETALE LEKKIE W KONSTRUKCJACH SPRZĘTU SPECJALNEGO - STOPY MAGNEZU
METALE LEKKIE W KONSTRUKCJACH SPRZĘTU SPECJALNEGO - STOPY MAGNEZU 1 Gliwice, 2016-03-10 Dlaczego stopy magnezu? 12 10 Gęstość, g/cm 3 8 6 4 2 0 Zalety stopów magnezu: Niska gęstość właściwa stopów; Wysokie
Bardziej szczegółowoWŁAŚCIWOŚCI MECHANICZNE PLASTYCZNOŚĆ. Zmiany makroskopowe. Zmiany makroskopowe
WŁAŚCIWOŚCI MECHANICZNE PLASTYCZNOŚĆ Zmiany makroskopowe Zmiany makroskopowe R e = R 0.2 - umowna granica plastyczności (0.2% odkształcenia trwałego); R m - wytrzymałość na rozciąganie (plastyczne); 1
Bardziej szczegółowoTechnologia elementów optycznych
Technologia elementów optycznych dr inż. Michał Józwik pokój 507a jozwik@mchtr.pw.edu.pl Część 1 Treść wykładu Specyfika wymagań i technologii elementów optycznych. Ogólna struktura procesów technologicznych.
Bardziej szczegółowoLASEROWA OBRÓBKA MATERIAŁÓW
LASEROWA OBRÓBKA MATERIAŁÓW Cechy laserowych operacji technologicznych Promieniowanie laserowe umożliwia wykonanie wielu dokładnych operacji technologicznych Na różnych materiałach: o Trudno obrabialnych
Bardziej szczegółowoMateriały Reaktorowe. Właściwości mechaniczne
Materiały Reaktorowe Właściwości mechaniczne Naprężenie i odkształcenie F A 0 l i l 0 l 0 l l 0 a. naprężenie rozciągające b. naprężenie ściskające c. naprężenie ścinające d. Naprężenie torsyjne Naprężenie
Bardziej szczegółowoPłyny newtonowskie (1.1.1) RYS. 1.1
Miniskrypt: Płyny newtonowskie Analizujemy cienką warstwę płynu zawartą pomiędzy dwoma równoległymi płaszczyznami, które są odległe o siebie o Y (rys. 1.1). W warunkach ustalonych następuje ścinanie w
Bardziej szczegółowoPiezorezystancyjny czujnik ciśnienia: pomiar i wyznaczenie parametrów metrologicznych czujnika i przetwornika ciśnienia
MIKROSYSTEMY - laboratorium Ćwiczenie 3 Piezorezystancyjny czujnik ciśnienia: pomiar i wyznaczenie parametrów metrologicznych czujnika i przetwornika ciśnienia Zadania i cel ćwiczenia. W ćwiczeniu zostaną
Bardziej szczegółowoZjawiska zachodzące w półprzewodnikach Przewodniki samoistne i niesamoistne
Zjawiska zachodzące w półprzewodnikach Przewodniki samoistne i niesamoistne Materiały dydaktyczne dla kierunku Technik Optyk (W12) Kwalifikacyjnego kursu zawodowego. Zadania elektroniki: Urządzenia elektroniczne
Bardziej szczegółowoStatyka Cieczy i Gazów. Temat : Podstawy teorii kinetyczno-molekularnej budowy ciał
Statyka Cieczy i Gazów Temat : Podstawy teorii kinetyczno-molekularnej budowy ciał 1. Podstawowe założenia teorii kinetyczno-molekularnej budowy ciał: Ciała zbudowane są z cząsteczek. Pomiędzy cząsteczkami
Bardziej szczegółowoBadanie przenikalności elektrycznej i tangensa kąta stratności metodami mikrofalowymi
Przyrządy unipolarne i struktury tranzystorowe na potrzeby elektroniki wysokotemperaturowej Kierownik projektu: prof. dr hab. inż. Jan Szmidt Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki, Politechnika Warszawska
Bardziej szczegółowoiglidur M250 Solidny i wytrzymały
Solidny i wytrzymały Asortyment Samosmarujące łożyska ślizgowe wykonane z są definiowane przez ich odporność na uderzenia, tłumienie drgań i odporność na zużycie. Są doskonałe w zastosowaniach, gdzie konieczne
Bardziej szczegółowoWYBRANE MASYWNE AMORFICZNE I NANOKRYSTALICZNE STOPY NA BAZIE ŻELAZA - WYTWARZANIE, WŁAŚCIWOŚCI I ZASTOSOWANIE
WYBRANE MASYWNE AMORFICZNE I NANOKRYSTALICZNE STOPY NA BAZIE ŻELAZA - WYTWARZANIE, WŁAŚCIWOŚCI I ZASTOSOWANIE mgr inż. Marzena Tkaczyk Promotorzy: dr hab. inż. Jerzy Kaleta, prof. nadzw. PWr dr hab. Wanda
Bardziej szczegółowoMateriałoznawstwo optyczne CERAMIKA OPTYCZNA
Materiałoznawstwo optyczne CERAMIKA OPTYCZNA Szkło optyczne i fotoniczne, A. Szwedowski, R. Romaniuk, WNT, 2009 POLIKRYSZTAŁY - ciała stałe o drobnoziarnistej strukturze, które są złożone z wielkiej liczby
Bardziej szczegółowoTechnologie Materiałowe II Wykład 2 Technologia wyżarzania stali
KATEDRA INŻYNIERII MATERIAŁOWEJ I SPAJANIA ZAKŁAD INŻYNIERII SPAJANIA Technologie Materiałowe II Wykład 2 Technologia wyżarzania stali dr hab. inż. Jerzy Łabanowski, prof.nadzw. PG Kierunek studiów: Inżynieria
Bardziej szczegółowoBADANIA PÓL NAPRĘśEŃ W IMPLANTACH TYTANOWYCH METODAMI EBSD/SEM. Klaudia Radomska
WyŜsza Szkoła InŜynierii Dentystycznej im. prof. Meissnera w Ustroniu Wydział InŜynierii Dentystycznej BADANIA PÓL NAPRĘśEŃ W IMPLANTACH TYTANOWYCH METODAMI EBSD/SEM Klaudia Radomska Praca dyplomowa napisana
Bardziej szczegółowoMechatronika i inteligentne systemy produkcyjne. Sensory (czujniki)
Mechatronika i inteligentne systemy produkcyjne Sensory (czujniki) 1 Zestawienie najważniejszych wielkości pomiarowych w układach mechatronicznych Położenie (pozycja), przemieszczenie Prędkość liniowa,
Bardziej szczegółowoProfile aluminiowe serii LB 1
Profile aluminiowe serii LB PARAMETRY TECHNICZNE WG DIN EN 2020- Stop AL Mg Si 0,5 F25 Materiał numer Nr 3.3206.72 Właściwości mechaniczne: Wytrzymałość na rozciąganie Rm; min. 2 N/mm 2 Granica plastyczności
Bardziej szczegółowoTechnologia w elektronice
Technologia w elektronice Procesy technologiczne 1. Wytwarzanie Si 2. Domieszkowanie 3. Wytwarzanie i usuwanie warstw izolatora. Cienkie warstwy. 4. Litografia. 5. Montowanie kontaktów. 1 Litografia Fotolitografia
Bardziej szczegółowoWyŜsza Szkoła InŜynierii Dentystycznej im. prof. Meissnera
WyŜsza Szkoła InŜynierii Dentystycznej im. prof. Meissnera ANALIZA POŁĄCZENIA WARSTW CERAMICZNYCH Z PODBUDOWĄ METALOWĄ Promotor: Prof. zw. dr hab. n. tech. MACIEJ HAJDUGA Tadeusz Zdziech CEL PRACY Celem
Bardziej szczegółowo2012-03-21. Charakterystyka składników - ŻELAZO Duże rozpowszechnienie w przyrodzie ok. 5% w skorupie ziemskiej. Rudy żelaza:
WYKRES RÓWNOWAGI FAZOWEJ STOPÓW Fe -C Zakres tematyczny 1 Charakterystyka składników - ŻELAZO Duże rozpowszechnienie w przyrodzie ok. 5% w skorupie ziemskiej Rudy żelaza: MAGNETYT - Fe 3 O 4 (ok. 72% mas.
Bardziej szczegółowoStruktura CMOS PMOS NMOS. metal I. metal II. warstwy izolacyjne (CVD) kontakt PWELL NWELL. tlenek polowy (utlenianie podłoża) podłoże P
Struktura CMOS NMOS metal II metal I PMOS przelotka (VIA) warstwy izolacyjne (CVD) kontakt tlenek polowy (utlenianie podłoża) PWELL podłoże P NWELL obszary słabo domieszkowanego drenu i źródła Physical
Bardziej szczegółowoBadania właściwości zmęczeniowych bimetalu stal S355J2- tytan Grade 1
Badania właściwości zmęczeniowych bimetalu stal S355J2- tytan Grade 1 ALEKSANDER KAROLCZUK a) MATEUSZ KOWALSKI a) a) Wydział Mechaniczny Politechniki Opolskiej, Opole 1 I. Wprowadzenie 1. Technologia zgrzewania
Bardziej szczegółowoiglidur G Ekonomiczny i wszechstronny
Ekonomiczny i wszechstronny Asortyment Łożyska pokrywją największy zakres różnych wymagań są po prostu wszechstronne. Polecane są w zastosowaniach ze średnimi lub ciężkimi obciążeniami, średnimi prędkościami
Bardziej szczegółowoNauka o Materiałach. Wykład VI. Odkształcenie materiałów właściwości sprężyste i plastyczne. Jerzy Lis
Nauka o Materiałach Wykład VI Odkształcenie materiałów właściwości sprężyste i plastyczne Jerzy Lis Nauka o Materiałach Treść wykładu: 1. Właściwości materiałów -wprowadzenie 2. Statyczna próba rozciągania.
Bardziej szczegółowoRozdział 3. Rezystancyjne czujniki gazów na podłożu mikromechanicznym
Rozdział 3. Rezystancyjne czujniki gazów na podłożu mikromechanicznym Połączenie własności mechanicznych krzemu z mikroelektroniką przyczyniło się do powstania pod koniec lat 80 zintegrowanych mikrosystemów
Bardziej szczegółowoiglidur W300 Długodystansowy
Długodystansowy Asortyment Materiał charakteryzuje duża odporność na zużycie, nawet w niesprzyjających warunkach i z chropowatymi wałami. Ze wszystkich materiałów iglidur, ten jest najbardziej odporny
Bardziej szczegółowoZachodniopomorski Uniwersytet Technologiczny INSTYTUT INŻYNIERII MATERIAŁOWEJ ZAKŁAD METALOZNAWSTWA I ODLEWNICTWA
Zachodniopomorski Uniwersytet Technologiczny INSTYTUT INŻYNIERII MATERIAŁOWEJ ZAKŁAD METALOZNAWSTWA I ODLEWNICTWA PRZEDMIOT: INŻYNIERIA WARSTWY WIERZCHNIEJ Temat ćwiczenia: Badanie prędkości zużycia materiałów
Bardziej szczegółowoPRZETWORNIKI CIŚNIENIA. ( )
PRZETWORNIKI CIŚNIENIA. 1. Wprowadzenie Pomiary ciśnień należą do najczęściej wykonywanych pomiarów wraz z pomiarami temperatury zarówno w przemyśle wytwórczym jak i w badaniach laboratoryjnych. Pomiary
Bardziej szczegółowoSymulacja Analiza_stopa_plast
Symulacja Analiza_stopa_plast Data: 31 maja 2016 Projektant: Nazwa badania: Analiza statyczna 1 Typ analizy: Analiza statyczna Opis Brak danych Spis treści Opis... 1 Założenia... 2 Informacje o modelu...
Bardziej szczegółowoSpektrometr ICP-AES 2000
Spektrometr ICP-AES 2000 ICP-2000 to spektrometr optyczny (ICP-OES) ze wzbudzeniem w indukcyjnie sprzężonej plazmie (ICP). Wykorztystuje zjawisko emisji atomowej (ICP-AES). Umożliwia wykrywanie ok. 70
Bardziej szczegółowoRozszczepienie poziomów atomowych
Rozszczepienie poziomów atomowych Poziomy energetyczne w pojedynczym atomie Gdy zbliżamy atomy chmury elektronowe nachodzą na siebie (inaczej: funkcje falowe elektronów zaczynają się przekrywać) Na skutek
Bardziej szczegółowoFotolitografia. xlab.me..me.berkeley.
Fotolitografia http://xlab xlab.me..me.berkeley.edu/ http://nanopatentsandinnovations.blogspot.com/2010/03/flyingplasmonic-lens-at-near-field-for.html Fotolitografia Przygotowanie powierzchni Nałożenie
Bardziej szczegółowoSymulacja procesu wtrysku - Obudowa miernika
I.J PALIGA Spółka jawna Ul.Długa 52 42-233 Wierzchowisko Tel. +48 34 328 71 03 Symulacja procesu wtrysku - Obudowa miernika Data: Projektant: Janusz Paliga Analiza: Model bryły/pełnej bryły Wprowadzenie
Bardziej szczegółowoTechnika sensorowa. Czujniki wielkości mechanicznych. dr inż. Wojciech Maziarz Katedra Elektroniki C-1, p.301, tel
Technika sensorowa Czujniki wielkości mechanicznych dr inż. Wojciech Maziarz Katedra Elektroniki C-1, p.301, tel. 1 617 30 39 Wojciech.Maziarz@agh.edu.pl 1 Czujniki wielkości mechanicznych Wielkości mechaniczne
Bardziej szczegółowoWytwarzanie niskowymiarowych struktur półprzewodnikowych
Większość struktur niskowymiarowych wytwarzanych jest za pomocą technik epitaksjalnych. Najczęściej wykorzystywane metody wzrostu: - epitaksja z wiązki molekularnej (MBE Molecular Beam Epitaxy) - epitaksja
Bardziej szczegółowoiglidur X Technologie zaawansowane
Technologie zaawansowane Asortyment Materiał najlepiej charakteryzuje kombinacja wysokiej odporności temperaturowej z wytrzymałością na ściskanie, jak również wysoka odporność chemiczna. jest przeznaczony
Bardziej szczegółowoPolisilany. R 1, R 2... CH 3, C 2 H 5, C 6 H 5, C 6 H 11 i inne
Polisilany R 1, R 2... CH 3, C 2 H 5, C 6 H 5, C 6 H 11 i inne Mechanizm otrzymywania polisilanów Struktura trójwymiarowego polisilanu Typy przestrzennego uporządkowania polisilanów a.) polisilan liniowy
Bardziej szczegółowoSymulacja Analiza_belka_skladan a
Symulacja Analiza_belka_skladan a Data: 6 czerwca 2016 Projektant: Nazwa badania: Analiza statyczna 1 Typ analizy: Analiza statyczna Opis Brak danych Spis treści Opis... 1 Założenia... 2 Informacje o modelu...
Bardziej szczegółowoELEMENTY ELEKTRONICZNE
AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA W KRAKOWIE Wydział Informatyki, Elektroniki i Telekomunikacji Katedra Elektroniki ELEMENTY ELEKTRONICZNE dr inż. Piotr Dziurdzia aw. C-3, okój 413; tel.
Bardziej szczegółowo(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 185228
RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 185228 (21) Numer zgłoszenia: 331212 ( 13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 04.07.1997 (86) Data i numer zgłoszenia
Bardziej szczegółowoPodstawy Konstrukcji Maszyn
Podstawy Konstrukcji Maszyn Wykład 1 Ogólne informacje o konstruowaniu maszyn Dr inŝ. Jacek Czarnigowski Pojęcia podstawowe Maszyna mechanizm lub grupa mechanizmów wykorzystywana podczas procesu pracy
Bardziej szczegółowo!!!DEL są źródłami światła niespójnego.
Dioda elektroluminescencyjna DEL Element czynny DEL to złącze p-n. Gdy zostanie ono spolaryzowane w kierunku przewodzenia, to w obszarze typu p, w warstwie o grubości rzędu 1µm, wytwarza się stan inwersji
Bardziej szczegółowoUniwersalny miernik XA1000
Uniwersalny miernik XA1000 Precyzyjny i uniwersalny przenośny miernik z pamięcią oraz dotykowym wyświetlaczem TFT. Wszechstronny dla profesjonalistów - łatwy i niezawodny w obsłudze. Umożliwia monitoring
Bardziej szczegółowoMATERIAŁ ELWOM 25. Mikrostruktura kompozytu W-Cu25: ciemne obszary miedzi na tle jasnego szkieletu wolframowego; pow. 250x.
MATERIAŁ ELWOM 25.! ELWOM 25 jest dwufazowym materiałem kompozytowym wolfram-miedź, przeznaczonym do obróbki elektroerozyjnej węglików spiekanych. Kompozyt ten jest wykonany z drobnoziarnistego proszku
Bardziej szczegółowoRyszard J. Barczyński, 2012 Politechnika Gdańska, Wydział FTiMS, Katedra Fizyki Ciała Stałego Materiały dydaktyczne do użytku wewnętrznego
Półprzewodniki i elementy z półprzewodników homogenicznych Ryszard J. Barczyński, 2012 Politechnika Gdańska, Wydział FTiMS, Katedra Fizyki Ciała Stałego Materiały dydaktyczne do użytku wewnętrznego Publikacja
Bardziej szczegółowoKONSTRUKCJE DREWNIANE 1. NORMY i LITERATURA
1 KONSTRUKCJE DREWNIANE 1. NORMY i LITERATURA NORMA WYCOFANA 2 3 4 5 6 7 OKREŚLENIA 8 9 10 2. BUDOWA DRZEWA i DREWNA BUDOWA DRZEWA 11 CZĘŚCI DRZEWA I ICH FUNKCJE FIZJOLOGICZNE 12 BUDOWA DREWNA 13 14 PIEŃ
Bardziej szczegółowoLABORATORIUM PODSTAW METROLOGII M-T Ćwiczenie nr 5 BADANIE CZUJNIKÓW CIŚNIENIA.
1. Wprowadzenie LABORATORIUM PODSTAW METROLOGII M-T Ćwiczenie nr 5 BADANIE CZUJNIKÓW CIŚNIENIA. W przemyśle (także w praktyce laboratoryjnej) pomiary ciśnienia oprócz pomiarów temperatury należą do najczęściej
Bardziej szczegółowoStruktura CMOS Click to edit Master title style
Struktura CMOS Click to edit Master text styles warstwy izolacyjne (CVD) Second Level kontakt tlenek polowy (utlenianie podłoża) NMOS metal II metal I PWELL podłoże P PMOS NWELL przelotka (VIA) obszary
Bardziej szczegółowoPolitechnika Wrocławska Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Politechnika Wrocławska Wydział Podstawowych Problemów Techniki specjalność FOTONIKA 3,5-letnie studia stacjonarne I stopnia (studia inżynierskie) FIZYKA TECHNICZNA Charakterystyka wykształcenia: - dobre
Bardziej szczegółowo