Zastosowanie warstw (Cd, Hg) Te do konstrukcji mozaik detektorów fotoprzewodzących

Podobne dokumenty
Rekapitulacja. Detekcja światła. Rekapitulacja. Rekapitulacja

Wykład 5 Fotodetektory, ogniwa słoneczne

Wykład 5 Fotodetektory, ogniwa słoneczne

!!!DEL są źródłami światła niespójnego.

Przejścia promieniste

Wytwarzanie niskowymiarowych struktur półprzewodnikowych

Teoretyczna analiza właściwości heterozłącza pp + w temperaturze pokojowej za pomocą zaawansowanej symulacji komputerowej

Pomiary wydajności studni przy próbnych pompowaniach.

Spektroskopia modulacyjna

IM21 SPEKTROSKOPIA ODBICIOWA ŚWIATŁA BIAŁEGO

Wzrost pseudomorficzny. Optyka nanostruktur. Mody wzrostu. Ekscyton. Sebastian Maćkowski

Uniwersytet Warszawski Wydział Fizyki. Badanie efektu Faraday a w kryształach CdTe i CdMnTe

BADANIE CHARAKTERYSTYK FOTOELEMENTU

ZADANIE 28. Wyznaczanie przewodnictwa cieplnego miedzi

Laboratorium techniki laserowej. Ćwiczenie 5. Modulator PLZT

III. METODY OTRZYMYWANIA MATERIAŁÓW PÓŁPRZEWODNIKOWYCH Janusz Adamowski

( ) u( λ) w( f) Sygnał detektora

ĆWICZENIE 15 BADANIE WZMACNIACZY MOCY MAŁEJ CZĘSTOTLIWOŚCI

Pomiar tłumienności światłowodów włóknistych

Fotoelementy. Symbole graficzne półprzewodnikowych elementów optoelektronicznych: a) fotoogniwo b) fotorezystor

Przejścia optyczne w strukturach niskowymiarowych

Laboratorium techniki światłowodowej. Ćwiczenie 3. Światłowodowy, odbiciowy sensor przesunięcia

CHARAKTERYSTYKA WIĄZKI GENEROWANEJ PRZEZ LASER

Załącznik nr 8. do sprawozdania merytorycznego z realizacji projektu badawczego

POMIARY TŁUMIENIA I ABSORBCJI FAL ELEKTROMAGNETYCZNYCH

... Definicja procesu spawania łukowego ręcznego elektrodą otuloną (MMA):... Definicja - spawalniczy łuk elektryczny:...

Schemat układu zasilania diod LED pokazano na Rys.1. Na jednej płytce połączone są różne diody LED, które przełącza się przestawiając zworkę.

NORMA ZAKŁADOWA. 2.2 Grubość szkła szlifowanego oraz jego wymiary

Charakteryzacja właściwości elektronowych i optycznych struktur AlGaN GaN Dagmara Pundyk

Wprowadzenie do struktur niskowymiarowych

BADANIE INTERFEROMETRU YOUNGA

Technologie wytwarzania metali. Odlewanie Metalurgia proszków Otrzymywanie monokryształów Otrzymywanie materiałów superczystych Techniki próżniowe

Technologie wytwarzania metali. Odlewanie Metalurgia proszków Otrzymywanie monokryształów Otrzymywanie materiałów superczystych Techniki próżniowe

Repeta z wykładu nr 10. Detekcja światła. Kondensator MOS. Plan na dzisiaj. fotopowielacz, część 2 MCP (detektor wielokanałowy) streak camera

ZAMRAŻANIE PODSTAWY CZ.2

GWIEZDNE INTERFEROMETRY MICHELSONA I ANDERSONA

Źródła i detektory IV. ZJAWISKO FOTOELEKTRYCZNE WEWNĘTRZNE W PÓŁPRZEWODNIKACH.

LASERY I ICH ZASTOSOWANIE

RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1

Katedra Elektrotechniki Teoretycznej i Informatyki

UMO-2011/01/B/ST7/06234

LABORATORIUM ELEKTRONIKI ĆWICZENIE 4 POLITECHNIKA ŁÓDZKA KATEDRA PRZYRZĄDÓW PÓŁPRZEWODNIKOWYCH I OPTOELEKTRONICZNYCH

Repeta z wykładu nr 5. Detekcja światła. Plan na dzisiaj. Złącze p-n. złącze p-n

CISADOR. Izolacja drgań i dźwięków materiałowych Elastyczne podparcie budynków i urządzeń

Pomiar energii wiązania deuteronu. Celem ćwiczenia jest wyznaczenie energii wiązania deuteronu

TEORIA PASMOWA CIAŁ STAŁYCH

Repeta z wykładu nr 4. Detekcja światła. Dygresja. Plan na dzisiaj

Właściwości optyczne. Oddziaływanie światła z materiałem. Widmo światła widzialnego MATERIAŁ

WYZNACZANIE STAŁEJ PLANCKA Z POMIARU CHARAKTERYSTYK PRĄDOWO-NAPIĘCIOWYCH DIOD ELEKTROLUMINESCENCYJNYCH. Irena Jankowska-Sumara, Magdalena Krupska

Informacje wstępne. Witamy serdecznie wszystkich uczestników na pierwszym etapie konkursu.

Analiza porównawcza dwóch metod wyznaczania wskaźnika wytrzymałości na przebicie kulką dla dzianin

Wykład: ENERGETYKA SŁONECZNA - FOTOWOLTAIKA

Parametry częstotliwościowe przetworników prądowych wykonanych w technologii PCB 1 HDI 2

i elementy z półprzewodników homogenicznych część II

LABORATORIUM SPEKTRALNEJ ANALIZY CHEMICZNEJ (L-6)

Zadanie 106 a, c WYZNACZANIE PRZEWODNICTWA WŁAŚCIWEGO I STAŁEJ HALLA DLA PÓŁPRZEWODNIKÓW. WYZNACZANIE RUCHLIWOŚCI I KONCENTRACJI NOŚNIKÓW.

Fizyka i technologia złącza PN. Adam Drózd r.

Źródła i 1detektory IV. ZJAWISKO FOTOELEKTRYCZNE WEWNĘTRZNE W PÓŁPRZEWODNIKACH.

Ćwiczenie 1. Parametry statyczne diod LED

szkło klejone laminowane szkło klejone z użyciem folii na całej powierzchni.

UMO-2011/01/B/ST7/06234

półprzewodniki Plan na dzisiaj Optyka nanostruktur Struktura krystaliczna Dygresja Sebastian Maćkowski

ĆW. 11. TECHNOLOGIA I WŁAŚCIWOŚCI POLIMEROWYCH REZYSTORÓW

Metody wytwarzania elementów półprzewodnikowych

Ćwiczenie nr 123: Dioda półprzewodnikowa

(54) Sposób określania koncentracji tlenu międzywęzłowego w materiale półprzewodnikowym

Wpływ ilości modyfikatora na współczynnik retencji w technice wysokosprawnej chromatografii cieczowej

Przewaga klasycznego spektrometru Ramana czyli siatkowego, dyspersyjnego nad przystawką ramanowską FT-Raman

7. Wyznaczanie poziomu ekspozycji

WYTWARZANIE MECHANIZMÓW METODĄ FDM

Laboratorium techniki laserowej Ćwiczenie 2. Badanie profilu wiązki laserowej

ĆWICZENIE Nr 4 LABORATORIUM FIZYKI KRYSZTAŁÓW STAŁYCH. Badanie krawędzi absorpcji podstawowej w kryształach półprzewodników POLITECHNIKA ŁÓDZKA

Do najbardziej rozpowszechnionych metod dynamicznych należą:

Funkcja rozkładu Fermiego-Diraca w różnych temperaturach

Automatyczne sterowanie gotowaniem cukrzycy z zastosowaniem pomiaru masy kryształów metodą spektrometrii w bliskiej podczerwieni

Analiza aktywacyjna składu chemicznego na przykładzie zawartości Mn w stali.

Stanowisko do badania zjawiska tłumienia światła w ośrodkach materialnych

Teoria pasmowa ciał stałych

Cel ćwiczenia: Wyznaczenie szerokości przerwy energetycznej przez pomiar zależności oporności elektrycznej monokryształu germanu od temperatury.

TECHNOLOGIA WYKONANIA PRZYRZĄDÓW PÓŁPRZEWOD- NIKOWYCH WYK. 16 SMK Na pdstw.: W. Marciniak, WNT 1987: Przyrządy półprzewodnikowe i układy scalone,

Piroelektryki. Siarczan trójglicyny

Czujniki. Czujniki służą do przetwarzania interesującej nas wielkości fizycznej na wielkość elektryczną łatwą do pomiaru. Najczęściej spotykane są

Badanie niejednorodności w bezdyslokacyjnych monokryształach krzemu. po transmutacji neutronowej

Ćwiczenie 4. Parametry statyczne tranzystorów polowych JFET i MOSFET

Co to jest kropka kwantowa? Kropki kwantowe - część I otrzymywanie. Co to jest ekscyton? Co to jest ekscyton? e πε. E = n. Sebastian Maćkowski

LABORATORIUM METROLOGII

Aparatura do osadzania warstw metodami:

Marek Lipiński WPŁYW WŁAŚCIWOŚCI FIZYCZNYCH WARSTW I OBSZARÓW PRZYPOWIERZCHNIOWYCH NA PARAMETRY UŻYTKOWE KRZEMOWEGO OGNIWA SŁONECZNEGO

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11)

Ćwiczenie 1 LABORATORIUM ELEKTRONIKI POLITECHNIKA ŁÓDZKA KATEDRA PRZYRZĄDÓW PÓŁPRZEWODNIKOWYCH I OPTOELEKTRONICZNYCH

... Definicja procesu spawania gazowego:... Definicja procesu napawania:... C D

IM-4 BADANIE ABSORPCJI ŚWIATŁA W MATERIAŁACH PÓŁPRZEWODNIKOWYCH

Rys.2. Schemat działania fotoogniwa.

Ćwiczenie nr 2. Pomiar energii promieniowania gamma metodą absorpcji

Wysokowydajne falowodowe źródło skorelowanych par fotonów

Technologie wytwarzania. Opracował Dr inż. Stanisław Rymkiewicz KIM WM PG

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) (13) B1

Ćwiczenie 2 LABORATORIUM ELEKTRONIKI POLITECHNIKA ŁÓDZKA KATEDRA PRZYRZĄDÓW PÓŁPRZEWODNIKOWYCH I OPTOELEKTRONICZNYCH

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Zjawisko Halla Referujący: Tomasz Winiarski

Transkrypt:

Józef PIOTROWSKI, Henryk POLAKOWSKI WAT Zastosowanie warstw (Cd, Hg) Te do konstrukcji mozaik detektorów fotoprzewodzących WSTfP Tellurek kad mowo-rtęciowy jest jednym z najważniejszych materiałów stosowanych do konstrukcji półprzewodnikowych detektorów podczerwieni różnych typów. Pierwotnie detektory na /Cd, Hg/Te, podobnie jak i na innych materiałach, wykonywano jedynie w postaci dyskretnych pojedynczych elementów fotoczułych. Nowe możliwości stwarza wykorzystanie detektorów wieloelementowych zwanych mozaikami. Mozaiki detektorów umożliwiają dokonywanie równoczesnej analizy rozkładu przestrzennego mocy promieniowania, a także innych jego charakterystyk. Zapotrzebowanie na mozaiki znocznie wzrosło wraz z pojawieniem się urządzeń zobrazowujących /zobrazowanie termalne, wizualizacja promieniowań/. Analiza przestrzennego rozkładu mocy promieniowania może być wprawdzie wykonana przy użyciu detektora pojedynczego i mechanicznego przeszukiwania, jednakże rozwiązanie to wymaga stosowania skomplikowanych konstrukcyjnie urządzeń. Przy zastosowaniu dwuwymiarowej mozaiki pełna analiza obrazu może być wykonana bez przeszukiwania mechanicznego. W tym przypadku łatwo jest otrzymać dużą szybkosć analizy, zmniejszone są wymagania stawiane detektorom i układowi elektronicznemu. W celu otrzymania dobrej rozdzielczości przestrzennej rozwiązanie to wymaga stosowania bardzo dużej ilości elementów i torów wzmacniających. Kompromisowym i w wielu wypadkach optymalnym - rozwiązaniem jest stosowanie układu hybrydowego wykorzystującego mozaikę liniową i jednokierunkowe przeszukiwanie mechaniczne. Rozwiązanie to wymaga jedynie użycia stosunkowo p-^ostego układu mechanicznego i elektronicznego. Mozaiki mogą być wykorzystane przez składanie z uprzednio wytworzonych elementów dyskretnych lub bezpośrednie wytworzenie zintegrowanej struktury mozaikowej. Zaletą pierwszej metody jest możliwość wstępnej selekcji i użycie jedynie elementów o wysokiej jakości, wadą - wysokie koszty wytwarzania i trudności otrzymania mozaik składających się z elementów o małych wymiarach. Druga z kolei metoda jest znacznie tańsza, umożliwia otrzymywanie struktur składających się z dużej liczby małych elementów, wymaga jednak stosowania zaawansowanych metod technologicznych. Niemożliwość selekcji elementów powoduje duży procent braków. Do otrzymywania mozaik - szczególnie w przypadku metody drugiej - konieczny jest materiał półprzewodnikowy o odpowiednich własnościach i dużej jednorodności /w kie- 14

runku równoległym do powierzchni/. Wymagana jest wysoka jednorodność wartości przerwy energetycznej, domieszkowania, czasu życia. Parametry te decydują o podstawowych własnościach elementów fotoczułych mozaiki -kształcie charakterystyki widmowej, czułości i wykrywalności znormalizowanej. Tellurek kad mowo-rtęciowy w dotychczasowym stadium rozwoju technologii - jest materiałem trudnym do otrzymywania. Otrzymuje się go zwykle przez krystalizację z fazy ciekłej. Duży współczynnik segregacji w układzie CdTe - HgTe powodował, że otrzymywano materiał o dużych gradientach składu w każdym kierunku. Nawet po zastosowaniu specjalnych metod ujednorodnienia składu, gradienty składu wynoszą zwy- -3-1 r kle około 3-10 mm [1. W materiale tym obserwuje się także występowanie dużych niejednorodności domieszkowania i czasu życia. Wszystko to powodowało, że dotychczas otrzymano mozaiki z/cd,hg/te zwykle metodą składania z niewielkiej liczby elementów dyskretnych. W detektorach mozaikowych najczęściej wykorzystuje się zjawisko fotoprzewodnictwa. W tym zastosowaniu moteriał półprzewodnikowy powinien mieć kształt cienkiej 2 płytki o grubości ok.lojrm i dużej powierzchni/kilkaset mm /. Materiał w takiej postaci najłatwiej wykonać techniką cienkowarstwową. Najczęściej stosowane metody otrzymywania cienkich warstw zawodzą w przypadku /Cd,Hg/Te; otrzymuje się warstwy o złych własnościach fotoelektrycznych. W latach 1962-1976 rozwinięto metodę izotermicznego osadzania HgTe na krystaliczny CdTe [2-4]. Metodę tę dostosowano do konstrukcji detektorów fotoprzewodzących [4-6]. Powstała także nowa metoda otrzymywania warstw jednorodnych /Cd,Hg/Te [4,7j. Celem pracy jest określenie przydatności tych metod do konstrukcji mozaikowych detektorów fotoprzewodzących. 2. METODY DOŚWIADCZALNE I POMIAROWE Struktury z gradientem składu /Cd,Hg/Te i jednorodne warstwy na heteropodłożach otrzymywano przez izotermiczne osadzenie HgTe na litym krystalicznym tellurku kadmowym lub uprzednio naparowanych termicznie cienkich warstwach CdTe. Metody te zostały szczegółowo opisane w pracach [4-7], Do pomiarów jednorodności wykorzystano głównie materiał przygotowany do konstrukcji nie chłodzonych detektorów zakresu 3 t 5,5 pm. Warunki osadzania w obydwu metodach były następujące: temperatura -823 K, czas -24 h, ciśnienie par rtęci -9,8-10'^ Nm'^. Całkowita grubość struktury z gradientem składu /po częściowym strawieniu powierzchni/ wynosi około 30 ^m. Podłożem warstw jednorodnych była najczęściej mika, a grubości warstw - około 10 Jim. Zarówno struktury z gradientem składu, jak i jednorodne warstwy/cd,hg/te, poddowano obróbce termicznej w parach rtęci w celu otrzymania niskiej koncentracji nośników. Otrzymane w ten sposób próbki poddawano pomiarom. Pomiary absorpcji 2 -r20 jjm wykonywano przy użyciu spektrofotometrów UR-10 i SPECORD-IR. Do pomiarów wykorzystywano struktury z gradientem składu w postaci okrągłych płytek / 0=10 mm/ i prostokątne warstwy jednorodne /lo x 40 mm^/ osadzane na mice. Próbki sondowano plamką świetlną o średnicy 3 mm. 15

vm hs) 0 Rys.1. Schenroł układu do pomiaru przewodnictwa elektrycznego i fotoprzewodnictwa Rysunek 1 pokazuje schemat układu do pomiarów przewodnictwa elektrycznego i fotoprzewodnictwa. W tych pomiarach wykorzystano próbki w postaci wydłużonych prostokątów o stosunku długości do szerokości - powyżej 4. Zastosowanie ruchomych ostrzowych kontaktów umożliwia pomiar rozkładu przewodnictwa elektrycznego wzdłuż próbki. Podobnie zastosowanie ruchomej plamki świetlnej umożliwia pomiar rozkładu fotoprzewodnictwa. Pomiary charakterystyk fotoprzewodnictwa stacjonarnego pozwalają na określenie wartości efektywnego czasu życia. Wyliczenia wartości czasu życia wykonywano według metodyki opisanej w procy [8]. W wyliczeniach przyjęto wartość wydajności kwantowej równą 0,7. 3. WYNIKI BADAN 3.1. Jednorodność składu Rysunek 2 przedstawia wyniki badań rozkładu krowędzi absorpcji dla jednorodnej warstwy/cd,hg/te. Za krawędź absorpcji przy jęto długość fali, przy której transmisja warstwy osiąga połowę wartości maksymalnej. Jak wykazuje rysunek, warstwo charakteryzuje się wysoką jednorodnością krawędzi absorpcji. Maksymalna i minimalna wartość wynoszą odpowiednio: 5,64 i 5,75 um na płytce o wymiarach 10 x 40 mm. W przeliczeniu na gradient składu według zależności -4-1 z pracy [9], odpowiada to gradientowi składu około 10 mm. Jest to wartość znacznie mniejsza od najlepszych wyników otrzymywanych przy użyciu litych kryształów /Cd,Hg/Te. Tak wysoka jednorodność składu jest osiągana mimo asymetrycznej konfiguracji układu źródło - podłoże [7], w czasie procesu osadzania warstwy. Jest to wynikiem termodynamicznych charakterystyk procesu osodzania w warunkach izotermicznych prowadzących do pełnego wyrównania składu. Równocześnie skład warstwy z dobrą dokładnością/a x < 0,005/ odpowiada założonej wartości. Nieco większe gradienty składu występowały jedynie w przypadku niepełnego osadzania HgTe. Stwierdzono także, że wyniki pomiarów krawędzi fotoprzewodnictwa 16

Rys.2. Rozkład krawędzi absorpcji wzdłuż warstwy/cd,hg/te dobrze odpowiadają wynikom pomiarów optycznych. W przypadku stmktur z gradientem składu stwierdzono występowanie zwykle niewielkich gradientów składu wzdłuż powierzchni próbek. Na płytkach o Średnicy około 10 mm skład zmieniał się np. w zakresie 0,273 j-0,281. Wzdłużne gradienty składu rosły wraz ze zwiększeniem zawartości CdTe i zmniejszeniem grubości struktury. Te gradienty składu są spowodowane prawdopodobnie asymetrią układu źródło - podłoże w czasie osadzania. Nieco większa wartość gradientu składu spowodowana jest faktem, że przy otrzymywaniu struktur z grodientem składu proces osadzania jest przerywany przed osiągnięciem równowagi termodynamicznej układu. Tym niemniej wzdłużne gradienty składu decydujące o rozrzucie krawędzi fotoczułości detektorów w mozaice, są w przypadku struktur z gradientem składu niższe niż osiągane zwykle w litych kryształach /Cd,Hg/Te. Struktury z gradientem składu strawia się od strony bogatej w HgTe, celem korekty krawędzi fotoczułości. Stwierdzono, że trawienie to prowadzi do powstania znacznych wzdłużnych gradientów składu, co jest wynikiem nierównomiemości trawienia. Brzegi struktur są szybciej trawione. Sposób trawienia decydująco wpływa na wzdłużne gradienty składu. Dobre wyniki daje stosowanie obróbki mechaniczno^hemicznej przez polerowanie na tkaninach nasyconych roztworem bromu w metanolu. 3.2. Jednorodność domieszkowania i czasu życia Rysunek 3 pokazuje zmiany rezystywności powierzchniowej wzdłuż warstwy/cd, Hg/Te. Obserwuje się zmiany rezystywności rzędu 30% na odległości 40 mm. Pomioty wykonano przy użyciu próbek o gnjbosci około 20 pm, zawartości CdTe około C,28 i średniej 21-3 koncentracji nośników około 5-10 m.w niektórych próbkach obserwowano jednak występowanie większych gradientów domieszkowania. Równocze nie pomiary przeprowadzone w niskich temperaturach wykazały możliwość otrzymania warstw o koncentracji aktywnych elektrycznie domieszek poniżej m. Stosunkowo znaczny rozrzut rezystywności materiału jest wynikiem wprowadzania domieszek na różnych etapach procesów technologicznych [4,7,8]. Pomiary przeprowadzone na strukturach z gradientem składu wskazały na istnienie gradientów domieszkowania, podobnych jak w przypadku warstw jednorodnych. W części struktur z gradientem składu otrzymano jednak mniejsze wartości koncentracji domie- 20 3 szek /n = 2«10 m w temperaturze 77 K przy zawartości CdTe około 0,26/. Na rysunku 3 pokazano także rozkład wartości czasu życia. Pomiary dokonano na jedno- 17

10 20 30 l(ntm)40 Rys.3, Rozkłady rezystywności powierzchniowej, czułosci napięciowe} i czasu życia wzdłuż próbki rodnych warstwach/cd,hg/te o grubości 20pm, zawartości CdTe około 0,28 i średnim czasie życia około l,8 js. Jak wskazuje rys.3, obserwuje się zmiany czasu życia do około 50% wartości maksymalnej. Przytoczone rezultaty dotyczą materiałów przeznaczonych do konstrukcji niechłodzonych detektorów okna 3,5 f-5,5>i m, jednakże nasze pomiary, wykonane na dyskretnych detektorach, wykazały także możliwość otrzymywania dobrych materiałów na inne zakresy widmowe. W szczególności otrzymywaliśmy także warstwy jednorodne i struktury z gradientem składu na ważny zakres okna 8 Otrzymano w tym przypadku w detektorach z = 10,6 jjm pracujących w temperaturze ciekłego azotu, czasu życia około 3 i 1 jjs, odpowiednio dla struktur z gradientem składu i warstw jednorodnych. PODSUMOWANIE Metody izotermicznego osadzania HgTe no krystalicznych płytkach lub cienkich warstwach CdTe pozwalają na otrzymywanie struktur warstwowych o dużych powierzchniach i wysokiej jednorodności składu wzdłuż powierzchni. Jednorodność składu /zwłaszcza w przypadku warstw jednorodnych w głąb/ jest znacznie wyższa niż w/cd,hg/te otrzymywanym jakąkolwiek inną metodą. Pomiary fotoelektryczne równocześnie wykazały możliwość otrzymania materiałów o stosunkowo wysokich wartościach czasu życia. Umożliwia to ich wykorzystanie do konstrukcji wieloelementowych detektorów mozaikowych. Wskazane jest jednak przeprowadzenie dalszych prac technologicznych nad poprawą jednorodności parametrów domieszkowych/koncentracji nośników i czasu życia/. 18

Literatura 1. Long D., Schmit J.L.: Semiconductors ond Semimetals ł.5 $. 183, 1970 2. Bollly F.: Compt. Rend 257, 103, 1970 3. TufteO.N., Stelzer E.L.: J.Apll. Phyi40, 4559, 1968 4. Piotrowski J.: Proca doktorakc, Worszowo, WAT 1973 5. Igras E., Piotrowd<i J., Persok T., Nowak Z.: Proc. 6-th, Int.Symp. IMEKO on Photon Detectore, Siofok 221, 1974 6. Galus W., Persak T., Piotrowski J.: Biuletyn WAT, ^2^ 93, 1975 7. Piotrowski J.: Elektron Technology, 5, 87, 1972 8. Piotrowski J.: Zastosowania/Cd, Hg/Te do konstnjkcji detektorów promieniowania elektromagnetycznego. Biuletyn WAT, Warszawa /w przygotowaniu/ 9. Schmit J.L., Stelzer E.L.: J.Appl. Phys 40, 4865, 1969 19