DESTRUKCYJNE ODDZIAŁYWANIE PROMIENIOWANIA UV Z POSZCZEGÓLNYCH PODZAKRESÓW WIDMOWYCH NA MATERIAŁY OPTYCZNE



Podobne dokumenty
Metody badań oddziaływania promieniowania UV na materiały elektroinstalacyjne

Właściwości optyczne. Oddziaływanie światła z materiałem. Widmo światła widzialnego MATERIAŁ

Ocena trwałości powłok malarskich i wypraw tynkarskich elewacyjnych, czyli o prowadzeniu badań starzeniowych w Spektrochemie

Wykład XIV: Właściwości optyczne. JERZY LIS Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki Katedra Technologii Ceramiki i Materiałów Ogniotrwałych

PODSTAWY BARWY, PIGMENTY CERAMICZNE

TRANSCOMP XIV INTERNATIONAL CONFERENCE COMPUTER SYSTEMS AIDED SCIENCE, INDUSTRY AND TRANSPORT

7. Wyznaczanie poziomu ekspozycji

Dzień dobry. Miejsce: IFE - Centrum Kształcenia Międzynarodowego PŁ, ul. Żwirki 36, sala nr 7

Instrukcja dla użytkownika Ver

Kierunek: Elektrotechnika wersja z dn Promieniowanie optyczne Laboratorium

I. PROMIENIOWANIE CIEPLNE

Zagrożenia powodowane przez promieniowanie laserowe

NOWE METODY KSZTAŁTOWANIA CHARAKTERYSTYK CZUŁOŚCI WIDMOWEJ FOTOODBIORNIKÓW KRZEMOWYCH

UNIWERSYTET MARII CURIE-SKŁODOWSKIEJ W LUBLINIE

OZNACZANIE ŻELAZA METODĄ SPEKTROFOTOMETRII UV/VIS

Jan Drzymała ANALIZA INSTRUMENTALNA SPEKTROSKOPIA W ŚWIETLE WIDZIALNYM I PODCZERWONYM

Załącznik nr 1. Wytyczne do konstrukcji fotochromowych dozymetrów promieniowania nadfioletowego

OCENA PRZYDATNOŚCI FARBY PRZEWIDZIANEJ DO POMALOWANIA WNĘTRZA KULI ULBRICHTA

Kierunek: Elektrotechnika wersja z dn Promieniowanie Optyczne Laboratorium

Kierunek: Elektrotechnika wersja z dn Promieniowanie optyczne Laboratorium

ZASADY WYKONYWANIA POMIARÓW PROMIENIOWANIA OPTYCZNEGO NA STANOWISKACH PRACY

OCENA PRZEPUSZCZANIA ŚWIATŁA DLA SZYB STOSOWANYCH W PRZEMYŚLE MOTORYZACYJNYM

Wpływ promieniowania na wybrane właściwości folii biodegradowalnych

ĆWICZENIE Nr 4 LABORATORIUM FIZYKI KRYSZTAŁÓW STAŁYCH. Badanie krawędzi absorpcji podstawowej w kryształach półprzewodników POLITECHNIKA ŁÓDZKA

SKUTECZNOŚĆ IZOLACJI JAK ZMIERZYĆ ILOŚĆ KWASÓW NUKLEINOWYCH PO IZOLACJI? JAK ZMIERZYĆ ILOŚĆ KWASÓW NUKLEINOWYCH PO IZOLACJI?

JAK ZMIERZYĆ ILOŚĆ KWASÓW NUKLEINOWYCH PO IZOLACJI? JAK ZMIERZYĆ ILOŚĆ KWASÓW NUKLEINOWYCH PO IZOLACJI?

Światłolecznictwo. Światłolecznictwo

Rozmycie pasma spektralnego

WPŁYW WARUNKÓW OTOCZENIA NA WYBRANE PARAMETRY ŚWIETLNE PROMIENIOWANIA EMITOWANEGO PRZEZ NISKOCIŚNIENIOWE RTĘCIOWE LAMPY WYŁADOWCZE TYPU T5

Ćwiczenie 363. Polaryzacja światła sprawdzanie prawa Malusa. Początkowa wartość kąta 0..

Moduły kształcenia. Efekty kształcenia dla programu kształcenia (kierunku) MK_06 Krystalochemia. MK_01 Chemia fizyczna i jądrowa

WŁAŚCIWOŚCI SZKIEŁ FOTOCHROMOWYCH Szkła fotochromowe mechanizm działania a zależność od światła i temperatury

1.3. Poziom ekspozycji na promieniowanie nielaserowe wyznacza się zgodnie z wzorami przedstawionymi w tabeli 1, przy uwzględnieniu:

w13 54 Źródła światła Żarówka Żarówka halogenowa Świetlówka Lampa rtęciowa wysokoprężna Lampa sodowa wysokoprężna Lampa sodowa niskoprężna LED

PAR. S' ef ( ) fotosynte zowa fotonowa. bilirubina. V(l) [nm] Grupa: Elektrotechnika, semestr 3 Zastosowanie promieniowania optycznego Laboratorium

Widmo promieniowania

RAPORT Z BADAŃ STARZENIOWYCH KOMPOZYTÓW POLIMEROWO- DRZEWNYCH FIRMY WINDOOR

ANALIZA WIDMOWEGO WSPÓŁCZYNNIKA PRZEPUSZCZANIA SZKŁA O RÓŻNYM SKŁADZIE CHEMICZNYM W ZAKRESIE NM *)

Mikroskopia fluorescencyjna

WYMAGANIA WSTĘPNE W ZAKRESIE WIEDZY, UMIEJĘTNOŚCI I INNYCH KOMPETENCJI

PDF stworzony przez wersję demonstracyjną pdffactory

półprzewodniki Plan na dzisiaj Optyka nanostruktur Struktura krystaliczna Dygresja Sebastian Maćkowski

L E D light emitting diode

17. Który z rysunków błędnie przedstawia bieg jednobarwnego promienia światła przez pryzmat? A. rysunek A, B. rysunek B, C. rysunek C, D. rysunek D.

= e. m λ. Temat: BADANIE PROMIENNIKÓW PODCZERWIENI. 1.Wiadomości podstawowe

SZKŁO LABORATORYJNE. SZKŁO LABORATORYJNE (wg składu chemicznego): Szkło sodowo - wapniowe (laboratoryjne zwykłe)

IM-4 BADANIE ABSORPCJI ŚWIATŁA W MATERIAŁACH PÓŁPRZEWODNIKOWYCH

- 1 - OPTYKA - ĆWICZENIA

Przejścia promieniste

Techniki analityczne. Podział technik analitycznych. Metody spektroskopowe. Spektroskopia elektronowa

n n 1 2 = exp( ε ε ) 1 / kt = exp( hν / kt) (23) 2 to wzór (22) przejdzie w następującą równość: ρ (ν) = B B A / B 2 1 hν exp( ) 1 kt (24)

LASERY I ICH ZASTOSOWANIE

Stałe : h=6, Js h= 4, eVs 1eV= J nie zależy

Promieniowanie X. Jak powstaje promieniowanie rentgenowskie Budowa lampy rentgenowskiej Widmo ciągłe i charakterystyczne promieniowania X

dr inż. Beata Brożek-Pluska SERS La boratorium La serowej

OPTYKA. Leszek Błaszkieiwcz

WYKŁAD 14 PODSTAWY TEORII BARW. Plan wykładu: 1. Wrażenie widzenia barwy. Wrażenie widzenia barwy Modele liczbowe barw

Własności optyczne półprzewodników

Komory do badań starzeniowych z systemem nadeszczania i lampami UV

Ćwiczenie 12 (44) Wyznaczanie długości fali świetlnej przy pomocy siatki dyfrakcyjnej

Pracownia Biofizyczna, Zakład Biofizyki CM UJ ( S ) I. Zagadnienia

pobrano z serwisu Fizyka Dla Każdego zadania z fizyki, wzory fizyczne, fizyka matura

WYZNACZANIE STAŁEJ PLANCKA Z POMIARU CHARAKTERYSTYK PRĄDOWO-NAPIĘCIOWYCH DIOD ELEKTROLUMINESCENCYJNYCH. Irena Jankowska-Sumara, Magdalena Krupska

Materiałoznawstwo optyczne

BADANIA STOPNIA DEGRADACJI POWŁOK LAKIEROWYCH PO NARAŻANIU W KOMORACH KLIMATYCZNYCH O RÓŻNEJ ENERGII NAPROMIENIENIA UV

6. Wyznaczanie wartości MDE

Metody optyczne w medycynie

Kwantowe własności promieniowania, ciało doskonale czarne, zjawisko fotoelektryczne zewnętrzne.

Własności optyczne materii. Jak zachowuje się światło w zetknięciu z materią?

!!!DEL są źródłami światła niespójnego.

2. Metody, których podstawą są widma atomowe 32

ZAKŁADANE EFEKTY KSZTAŁCENIA Kierunek: Inżynieria Materiałowa Studia I stopnia

Promieniowanie rentgenowskie. Podstawowe pojęcia krystalograficzne

SPEKTROSKOPIA IR I SPEKTROSKOPIA RAMANA JAKO METODY KOMPLEMENTARNE

BIAŁOŚĆ WYROBÓW ELEWACYJNYCH - ZASADY POMIARU

Wyznaczanie stopnia krystaliczności wybranych próbek polimerów wykorzystanie programu WAXSFIT

PODSTAWY TEORII BARW

ANALIZA SPEKTRALNA I POMIARY SPEKTROFOTOMETRYCZNE. Instrukcja wykonawcza

Fotometria i kolorymetria

WPŁYW POSTĘPU TECHNICZNEGO NA WYDAJNOŚĆ SYSTEMÓW FOTOWOLTAICZNYCH ML SYSTEM S.A.

Spektrometria w bliskiej podczerwieni - zastosowanie w cukrownictwie. Radosław Gruska Politechnika Łódzka Wydział Biotechnologii i Nauk o Żywności

OPRACOWANIE METODYKI BADAŃ ORAZ KRYTERIÓW OCENY WŁAŚCIWOŚCI BARIEROWYCH DLA UV MATERIAŁÓW WYPOSAŻENIA WNĘTRZ I DO BUDOWNICTWA *)

Nowe zalecenia dotyczące oceny zagrożenia światłem niebieskim emitowanym przez lampy i oprawy LED

Wyznaczanie charakterystyki widmowej kolorów z wykorzystaniem zapisu liczb o dowolnej precyzji

ASPEKTY METROLOGICZNE STOSOWANIA NORMY PN-EN BEZPIECZEŃSTWO FOTOBIOLOGICZNE LAMP I SYSTEMÓW LAMPOWYCH

WYMAGANIA EDUKACYJNE Z FIZYKI

MICRON3D skaner do zastosowań specjalnych. MICRON3D scanner for special applications

Rys 1. Układ do wyznaczania charakterystyko kątowej

wymiana energii ciepła

Wyznaczanie zależności współczynnika załamania światła od długości fali światła

Janusz Ganczarski CIE XYZ

UNIWERSYTET OPOLSKI - KONSORCJANT NR 8. projektu pt.: Nowe przyjazne dla środowiska kompozyty polimerowe z wykorzystaniem surowców odnawialnych

Lasery budowa, rodzaje, zastosowanie. Materiały dydaktyczne dla kierunku Technik Optyk (W12) Kwalifikacyjnego kursu zawodowego.

Stany skupienia materii

BADANIA PORÓWNAWCZE PAROPRZEPUSZCZALNOŚCI POWŁOK POLIMEROWYCH W RAMACH DOSTOSOWANIA METOD BADAŃ DO WYMAGAŃ NORM EN

PRACOWNIA PODSTAW BIOFIZYKI

ŚRODKI OCHRONY INDYWIDUALNEJ DO OCHRONY PRACOWNIKÓW PRZED ZAGROŻENIAMI WYWOŁANYMI NATURALNYM UV

BADANIE INTERFEROMETRU YOUNGA

Serwis internetowy BEZPIECZNIEJ

Transkrypt:

Lucyna HEMKA Lech PIOTROWSKI DESTRUKCYJNE ODDZIAŁYWANIE PROMIENIOWANIA UV Z POSZCZEGÓLNYCH PODZAKRESÓW WIDMOWYCH NA MATERIAŁY OPTYCZNE STRESZCZENIE W artykule przedstawiono wyniki prac eksperymentalnych prowadzonych w celu zbadania procesów destrukcyjnego oddziaływania na materiały optyczne promieniowania UV z poszczególnych podzakresów widmowych (UVA, UVB, UVC). Zbadano i przeanalizowano zmiany w czasie współczynnika przepuszczania oraz parametrów barwowych trzech rodzajów filtrów barwnych Schotta, soczewki, okularów będących elementem wyposażenia kabiny solaryjnej oraz próbki szkła boro-krzemowego. Słowa kluczowe: destruktywne oddziaływanie UV, materiały optyczne, filtry barwne, szkło 1. WSTĘP Pod nazwą promieniowanie ultrafioletowe (UV) tradycyjnie rozumie się promieniowanie elektromagnetyczne z podzakresu 100-400 nm, czyli obszar widmowy o długości fali krótszej niż światło widzialne i dłuższej niż promieniowanie rentgenowskie. dr Lucyna HEMKA e-mail: l.hemka@iel.waw.pl Zakład Techniki Świetlnej i Promieniowania Optycznego, Instytut Elektrotechniki inż. Lech PIOTROWSKI e-mail: l.piotrowski@iel.waw.pl Zespół Laboratoriów Instytutu Elektrotechniki w Warszawie PRACE INSTYTUTU ELEKTROTECHNIKI, zeszyt 256, 2012

38 L. Hemka, L. Piotrowski Ze względów na skutki oddziaływania, promieniowanie ultrafioletowe dzieli się na trzy podzakresy: UVC długość fali 200-280 nm; UVB długość fali 280-315 nm; UVA długość fali 315-400 nm. Powszechnie znanym faktem jest zjawisko inicjowania i w znacznym stopniu przyśpieszania procesu starzenia materiałów, jako wynik długotrwałego oddziaływania na nie promieniowaniem UV. Procesy te są wywoływane reakcją chemiczną zachodzącą wewnątrz materiałów, które prowadzą do zmiany w budowie jego struktury. Przekształcenia wewnętrzne powodują znaczne zmiany parametrów fizykochemicznych i technicznych tworzywa. Staje się ono mniej plastyczne, bardziej kruche, łatwiej pęka, rozrywa się, traci transparentność, zmienia barwę itp. Większość badań naukowych dotyczących zagadnienia oddziaływania promieniowania UV na materiały skupia się jednak na poznaniu i opisaniu destruktywnego oddziaływania promieniowania optycznego na tworzywa sztuczne. Dzięki temu procesy te zostały w znacznym stopniu poznane, a metody ich badań szczegółowo opisane w literaturze. Mniejszym zainteresowaniem cieszą się procesy poznawcze związane z oddziaływaniem promieniowania UV na materiały nieorganiczne. Spowodowane jest to najprawdopodobniej znacznie mniejszym zastosowaniem praktycznym tego typu materiałów w porównaniu z wszechobecnymi polimerami. Tymczasem np. w laboratoriach zajmujących się badaniami promieniowania optycznego pojawia się problem destruktywnego oddziaływania promieniowania UV na elementy optyczne, takie jak: filtry szklane, pryzmaty, soczewki itp. Wstępnym badaniom oddziaływania promieniowania UV z poszczególnych podzakresów widmowych został poświęcony niniejszy artykuł. 2. PROCESY FOTOCHROMIZMU PODSTAWY TEORETYCZNE Szkło to stan skupienia charakteryzujący się własnościami reologicznymi zbliżonymi do ciała krystalicznego, w którym nie występuje uporządkowanie dalekiego zasięgu (zwykle przyjmuje się że uporządkowanie jest dalekiego zasięgu, gdy regularne struktury w materiale występują na odległościach nie mniejszych niż 100-200 nm), a jedynie lokalne zagęszczenia materii zwane domenami lub klastrami, w których aniony krzemo-tlenowe są w jakiś sposób wzajemnie zorientowane. Rozmiary tych obszarów nie przekraczają jednak

Destrukcyjne oddziaływanie promieniowania UV z poszczególnych podzakresów 39 2 nm. Cząsteczki w takich mikroobszarach ułożone są w koordynacji takiej, jak wynika z rzeczywistej budowy komórki elementarnej danego kryształu, jednak odległości pomiędzy molekułami nie zostały zachowane, przez co komórka staje się zdeformowana. Taki stan rzeczy znajduje odzwierciedlenie we właściwościach szkieł. Ponieważ molekuły nie znajdują się na swoich miejscach, nie są w stanie minimum energetycznego. Ponieważ każdy z atomów tworzących szkło nieustannie dąży do minimum, stan szklisty uznawany jest za stan metastabilny. Z punktu widzenia termodynamiki, szkło jest materiałem nietrwałym, ponieważ stan energetyczny sieci amorficznej jest wyższy od jej krystalicznego odpowiednika. Z tego względu każde szkło wykazuje dążność do krystalizacji, ale bez udziału czynników zewnętrznych dochodzi do niej bardzo rzadko z powodu lepkości, której wartość w warunkach normalnych dla każdego ze stanów jest jednakowa. Fotochromizm to odwracalny proces chemiczny indukowany przez promieniowanie elektromagnetyczne, którego efektem jest zmiana pewnych fizycznych właściwości substancji. Występuje w różnych materiałach, zarówno organicznych, jak i nieorganicznych, ciałach stałych (amorficznych i krystalicznych) oraz cieczach. Według fizyki kwantowej, fotochromizm jest odwracalną transformacją między dwoma stanami, indukowaną w jednym lub dwóch kierunkach przez promieniowanie elektromagnetyczne. Termodynamicznie stabilna forma wyjściowa A przechodzi w fotoprodukt P pod wpływem oddziałującego promieniowania. A(λ 1 ) P(λ 2 ) Zwykle fotoprodukt P ma co najmniej jedno pasmo absorpcji w obszarze bardziej długofalowym niż pasmo absorpcji formy A. Zmiany, jakie zachodzą w układzie fotochromowym, to nie tylko zmiany widm absorpcji i emisji form A i P, ale także przenikalności elektrycznej, współczynnika załamania i odbicia oraz innych własności fizycznych. Szczegółowy mechanizm reakcji fotochromowej obejmuje co najmniej jeden stan wzbudzony A, zwykle jest to wzbudzony stan elektronowy A +. Jeżeli proces powstaje jednofotonowo, to forma fotochromowa P powstaje albo ze wzbudzonego stanu singletowego, albo ze wzbudzonego stanu tripletowego, albo z obu jednocześnie. Reakcja odwrotna może zachodzić termicznie (fotochromizm typu T) albo fotochemicznie (fotochromizm typu P). Często dominującej reakcji termicznej towarzyszy reakcja fotochemiczna. Fotochromizm sam w sobie jest zjawiskiem nieniszczącym, ale często reakcji fotochemicznej towarzyszą uboczne reakcje powodujące fotodegradację. Związane jest to z tym, że reakcji fotochemicznej towarzyszy przegrupowanie wiązań chemicznych. Ogranicza to liczbę cykli reakcji fotochromowej. Taka utrata zdolności fotochromowych w czasie nazwana

40 L. Hemka, L. Piotrowski jest zmęczeniem materiału. Jeśli stopień degradacji w ciągu jednego cyklu wynosi x, to ułamek niezdegradowanych cząstek po n cyklach dany jest wzorem: y = (1 x) n Nieorganiczne materiały wykazujące fotochromizm są zwykle izolatorami lub półprzewodnikami. Optyczne wzbudzenie tych materiałów fotonami o energii pasma wzbronionego prowadzi do utworzenia metatrwałych centrów, które pochłaniają światło z zakresu widzialnego, dając w efekcie zmianę barwy. Zjawisko fotochromizmu jest słabo poznane. Istotny postęp w dziedzinie zastosowań układów fotochromowych może nastąpić dopiero po dobrym poznaniu i zrozumieniu całego cyklu fotochromowego i procesów prowadzących do fotodegradacji oraz skutecznych sposobów ich eliminacji. 3. OPIS EKSPERYMENTU W celu poznania wpływu destruktywnego oddziaływania promieniowania UV z poszczególnych podzakresów widmowych, na szklane materiały laboratoryjne przygotowano trzy zestawy próbek materiałów optycznych najczęściej narażanych w praktyce na działanie promieniowania UV. Działaniu promieniowania z zakresu UVA (315-400 nm) poddano trzy rodzaje filtrów barwnych Schotta o grubości 1 mm: UG7, RG5 i BG20, soczewkę z okularów optycznych oraz okulary przeznaczone do ochrony oczu w trakcie seansu w solariach. Działaniu promieniowania z podzakresu UVB (280-315 nm) poddano trzy rodzaje filtrów barwnych Schotta o grubości 1 mm: UG7, RG5 i BG20 oraz próbkę szkła twardego krzemowo-borowego. Natomiast promieniowaniem z podzakresu UVC działano na trzy rodzaje filtrów barwnych Schotta o grubości 1 mm: UG7(grubość 2 mm), RG5 i BG20 oraz próbkę szkła krzemowo- -wapniowego. Jako naświetlacze zastosowano oprawy z odbłyśnikami aluminiowymi, kształtującymi wiązkę promieniowania, wyposażone w promienniki ultrafioletu emitujące UV w poszczególnych podzakresach widmowych. Jako promiennik emitujący promieniowanie UVA zastosowano lampę rtęciową w szkle Wooda o mocy elektrycznej 125 W. Natężenie napromienienia na powierzchni badanych próbek wynosiło: 895,96 μw/cm 2. Jako źródło UVB służyły dwa promienniki 9 W o wartości natężenia napromienienia 310,97 μw/cm 2. Źródłem promieniowania z podzakresu UVC był promiennik 20 W o natężeniu napromienienia na badanej powierzchni 636,25 μw/cm 2. Rozkłady widmowe poszczególnych źródeł promieniowania przedstawiono na rysunku 1.

Destrukcyjne oddziaływanie promieniowania UV z poszczególnych podzakresów 41 Promiennik UVA Promiennik UVB Promiennik UVC Rys. 1. Rozkłady widmowe zastosowanych w próbach odpornościowych źródeł promieniowania UV w poszczególnych podzakresach widmowych

42 L. Hemka, L. Piotrowski Celem eksperymentu było zbadanie zmian pod wpływem promieniowania UV współczynnika transmisji całkowitego i widmowego poszczególnych próbek w obszarze widmowym UV i VIS oraz, w przypadku filtrów barwnych, parametrów barwowych. Założone w eksperymencie parametry badano metodą spektroradiometryczną przed rozpoczęciem prób, po 100 h i po 200 h naświetlania promieniowaniem UV w poszczególnych podzakresach widmowych. W celu sprawdzenia odwracalności reakcji fotochromicznej i wyznaczenia stopnia fotodegradacji, pomiary wykonywano dwukrotnie: bezpośrednio po ustaniu narażania i po 24 h. Wyniki prób przedstawiono w poszczególnych tabelach wyników. TABELA 1 Zmiana całkowitego współczynnika transmisji próbek w czasie pod wpływem promieniowania UVA Promieniowanie z podzakresu widmowego UVA (315-400 nm) Badany materiał Całkowity współczynnik transmisji τ po czasie naświetlania równym 0 h 100 h 200 h Filtr Schotta UG7 0,08 0,03 0,02 Filtr Schotta BG20 0,56 0,43 0,43 Filtr Schotta RG5 0,86 0.72 0,70 Soczewka okularów optycznych Okulary przeznaczone do używania w solarium 0,84 0,83 0,83 0,11 0,11 0,11 TABELA 2 Zmiana całkowitego współczynnika transmisji próbek w czasie pod wpływem promieniowania UVB Promieniowanie z podzakresu widmowego UVB (280-315 nm) Badany materiał Całkowity współczynnik transmisji τ po czasie naświetlania równym 0 h 100 h 200 h Filtr Schotta UG7 0,02 0,02 0,02 Filtr Schotta BG20 0,57 0,44 0,41 Filtr Schotta RG5 0,71 0,68 0,64 Szkło borowo-krzemowe 0,85 0,82 0,79

Destrukcyjne oddziaływanie promieniowania UV z poszczególnych podzakresów 43 TABELA 3 Zmiana całkowitego współczynnika transmisji próbek w czasie pod wpływem promieniowania UVC Promieniowanie z podzakresu widmowego UVC (250-280 nm) Badany materiał Całkowity współczynnik transmisji τ po czasie naświetlania równym 0 h 100 h 200 h Filtr Schotta UG7 0,003 0,003 0,003 Filtr Schotta BG20 0,52 0,48 0,41 Filtr Schotta RG5 0,85 0,72 0,69 4. WPŁYW ODDZIAŁYWANIA PROMIENIOWANIA UV NA PARAMETRY BARWOWE BADANYCH PRÓBEK MATERIAŁÓW Zmianę parametrów barwowych zbadano dla trzech typów filtrów barwnych poddanych procesowi naświetlania ultrafioletem UVA, UVB i UVC. Aby zbadać wpływ naświetlania promieniowaniem UV na zmianę parametrów barwowych badanych próbek, zastosowano kolorymetryczne metody oceny zmiany barwy. W tym celu, opierając się na widmowych rozkładach współczynnika odbicia, wyznaczono składowe i współrzędne trójchromatyczne (X, Y, Z, x, y, z), opisujące przestrzeń barw w układzie nieeuklidesowym. Składowe trójchromatyczne zostały wykorzystane do obliczenia różnic barwy powstałej w wyniku długotrwałego działania UV, natomiast wartości współrzędnych chromatyczności pozwalają na wyznaczenie punktów chromatyczności próbek po różnym okresie naświetlania na trójkącie kolorów. TABELA 4 Zmiana parametrów barwowych filtru barwnego RG5 w czasie, pod wpływem oddziaływania promieniowania UV z poszczególnych podzakresów widmowych Filtr RG5 Zakres promieniowania UVA UVB UVC Czas naświetlania L a b ΔE 0 h 1 159,7 185,8 100 h 1 160,3 186,0 0,59 200 h 1 159,8 185,8 0,08 0 h 1 161,2 186,1 100 h 1 160,09 185,93 1,19 200 h 1 161,49 186,21 0,23 0 h 1 158,21 185,6 100 h 1 158,4 185,6 0,23 200 h 1 178,9 184,9 2,76

44 L. Hemka, L. Piotrowski TABELA 5 Zmiana parametrów barwowych filtru barwnego BG20 w czasie, pod wpływem oddziaływania promieniowania UV z poszczególnych podzakresów widmowych Filtr BG20 Zakres promieniowania UVA UVB UVC Czas naświetlania L a b ΔE 0 h 1 12,57 20,75 100 h 1 13,36 19,13 1,80 200 h 1 12,79 18,95 1,81 0 h 1 10,46 17,66 100 h 1 9,97 19,76 1,16 200 h 1 9,96 18,82 1,27 0 h 1 12,96 18,99 100 h 1 12,54 18,91 0,16 200 h 1 12,8 18,43 0,57 TABELA 6 Zmiana parametrów barwowych filtru barwnego UG7 w czasie, pod wpływem oddziaływania promieniowania UV z poszczególnych podzakresów widmowych Filtr UG7 Zakres promieniowania UVA UVB UVC Czas naświetlania L a b ΔE 0 h 1 131,5 42,55 100 h 1 160,4 47,68 29,34 200 h 1 188,8 26,72 59,52 0 h 1 174,5 43,06 100 h 1 182,0 36,37 10,0 200 h 1 182,2 32,57 13,0 0 h 1 346,1 248,5 100 h 1 384,2 292,8 58,4 200 h 1 314,6 210,2 49,5 5. PODSUMOWANIE W wyniku przeprowadzonych badań stwierdzono, co następuje: promieniowanie UV z różnych podzakresów w różnym stopniu oddziałuje na materiały optyczne; występowanie trwałych, nieodwracalnych zmian fotodegeneracyjnych badanych próbek poddanych procesowi działania promieniowania z podzakresów widmowych UVB i UVC;

Destrukcyjne oddziaływanie promieniowania UV z poszczególnych podzakresów 45 najsilniejszy wpływ na wartość współczynnika transmisji oraz zmiany parametrów kolorymetrycznych wywiera krótkofalowe promieniowanie UVC; oddziaływanie promieniowania z obszaru krótkofalowego (UVC i UVB) powodowało spadek zdolności transmisyjnych badanych materiałów o 25 do 30% oraz zmianę barwy rzędu 20 jednostek CIELAB. Nie stwierdzono znaczącego wpływu promieniowania UVA na badane materiały. Dalsze badania nad procesami fotodegradacji, poza wartościami poznawczymi, mają duże znaczenie w praktyce pomiarowej (eliminacja błędów wynikających z fotodegradacji szklanych elementów głowic pomiarowych) oraz technologii wytwarzania wyładowczych źródeł światła. LITERATURA 1. Fischer R.M.: SAE Technikal Paper Series, No 84 1022 (1984). 2. Katalog firmy Ultra Light UV Radiation-Sensor UVS1000: Selective Spectral Sensors for Optimal Monitoring and Control of your Curing Process. 3. Mielicki J.: Zarys wiadomości o barwie, Fundacja Polskiej Kolorystyki, Łódź, 1997. 4. Norma DIN 5031 Teil 10: Strahlungphysik im Optichen Bereich und Lichttechnik. 5. PN-91/E-04042/01 Pomiary promieniowania optycznego. Pomiary kolorymetryczne. Postanowienia ogólne. 6. PN-91/E-04042/03 Pomiary promieniowania optycznego. Pomiary kolorymetryczne. Metody wyznaczania charakterystyk widmowych i kolorymetrycznych źródeł światła. 7. PN-91/E-04042/02 Pomiary promieniowania optycznego. Pomiary kolorymetryczne. Iluminanty i źródła normalne. 8. Polska Norma PN79/T-06588 Promieniowanie nadfioletowe. Nazwy, określenia, jednostki. 9. PN-EN ISO 4892-2 Tworzywa sztuczne. Metody ekspozycji na laboratoryjne źródła światła, cz. 2, Źródła ksenonowe o wyładowaniu łukowym. 10. PN-EN ISO 4892 Tworzywa sztuczne. Metody ekspozycji na laboratoryjne źródła światła. Ark. 1-3. 11. PN-EN ISO 179-1 Tworzywa sztuczne. Oznaczenie odporności metodą Charpiego. 12. PrPN-ISO 11507 Farby i lakiery. Ekspozycja powłok lakierowych na sztuczne działanie atmosferyczne. Ekspozycja na promieniowanie fluorescencyjne UV i wodę. 13. Publikacja CIE 15.2 1986 Colorimetry. Rękopis dostarczono dnia 16.04.2012 r.

46 L. Hemka, L. Piotrowski THE DESTRUCTIVE EFFECTS OF UV RADIATION WITH DIFFERENT SPECTRAL SUB-BANDS IN OPTICAL MATERIALS Lucyna HEMKA Lech PIOTROWSKI ABSTRACT The paper presents results of experimental work carried out to investigate the impact of destructive processes in UV optical materials from each sub-spectrum (UVA, UVB and UVC). Examined and analyzed the changes in time and the transmission factor of three types of parameters Kelvin Schott color filters, lenses, glasses that are part of indoor tanning equipment and samples cabs boro-silicateglass. Keywords: destructive effects of UV, optical materials, color filters, glass