PRÓBA MODYFIKACJI POWIERZCHNI CZYNNEJ OGNIWA FOTOWOLTAICZNEGO POPRZEZ ZMIANĘ PARAMETRÓW PODŁOŻA

Podobne dokumenty
PRÓBA MODYFIKACJI WŁASNOŚCI WARSTW OTRZYMYWANYCH W PROCESIE SPUTTERINGU MAGNETRONOWEGO Z WYKORZYSTANIEM ELEMENTÓW STEROWANYCH ZEWNĘTRZNIE

CHARAKTERYSTYKA AFM CIENKICH WARSTW SnO 2 UZYSKANYCH PODCZAS SPUTTERINGU MAGNETRONOWEGO PRZY WYBRANYCH WARUNKACH PROCESU

WPŁYW TRAWIENIA PLAZMĄ NA WYBRANE PARAMETRY CIENKICH WARSTW CdTe i SnO 2 DLA ZASTOSOWAŃ FOTOWOLTAICZNYCH

Słowa kluczowe: napylanie, cienkie warstwy, fotowoltaika, ogniwa fotowoltaiczne

BADANIA NAD TECHNOLOGIĄ OTRZYMYWANIA CIENKICH WARSTW EMITERA METODĄ ROZPYLANIA MAGNETRONOWEGO DLA ZASTOSOWAŃ W OGNIWACH CIGS

Wpływ temperatury podłoża na właściwości powłok DLC osadzanych metodą rozpylania katod grafitowych łukiem impulsowym

Aparatura do osadzania warstw metodami:

INSPECTION METHODS FOR QUALITY CONTROL OF FIBRE METAL LAMINATES IN AEROSPACE COMPONENTS

WPŁYW PROCESU TARCIA NA ZMIANĘ MIKROTWARDOŚCI WARSTWY WIERZCHNIEJ MATERIAŁÓW POLIMEROWYCH

Badania starzeniowe kompozytowych materiałów ekranujących pole EM wytworzonych metodą dwuźródłowego rozpylania magnetronowego

BADANIA MODELOWE OGNIW PALIWOWYCH TYPU PEM

MICRON3D skaner do zastosowań specjalnych. MICRON3D scanner for special applications

BADANIA MODELOWE OGNIW SŁONECZNYCH

POMIAR CHARAKTERYSTYKI PRĄDOWO- NAPIĘCIOWEJ OGNIWA FOTOWOLTAICZNEGO METODĄ POJEMNOŚCIOWĄ W WARUNKACH OŚWIETLENIA SZTUCZNEGO

Badanie procesu wydajnego impulsowego rozpylania magnetronowego w atmosferze gazów reaktywnych

Promotor: prof. nadzw. dr hab. Jerzy Ratajski. Jarosław Rochowicz. Wydział Mechaniczny Politechnika Koszalińska

ZNACZENIE POWŁOKI W INŻYNIERII POWIERZCHNI

Ekspansja plazmy i wpływ atmosfery reaktywnej na osadzanie cienkich warstw hydroksyapatytu. Marcin Jedyński

DOŚWIADCZENIA EKSPLOATACYJNE INSTALACJI Z OGNIWAMI PV

Fotowoltaika i sensory w proekologicznym rozwoju Małopolski

Wpływ promieniowania na wybrane właściwości folii biodegradowalnych

NAPRĘŻENIA ŚCISKAJĄCE PRZY 10% ODKSZTAŁCENIU WZGLĘDNYM PRÓBEK NORMOWYCH POBRANYCH Z PŁYT EPS O RÓŻNEJ GRUBOŚCI

SYMULACJA TŁOCZENIA ZAKRYWEK KORONKOWYCH SIMULATION OF CROWN CLOSURES FORMING

Grafen materiał XXI wieku!?

Skaningowy Mikroskop Elektronowy. Rembisz Grażyna Drab Bartosz

PL B1. POLITECHNIKA ŁÓDZKA, Łódź, PL

WYSOKOWYTRZYMAŁ Y SILUMIN CYNKOWO-MIEDZIOWY

BADANIA POKRYWANIA RYS W PODŁOŻU BETONOWYM PRZEZ POWŁOKI POLIMEROWE

Technologie plazmowe. Paweł Strzyżewski. Instytut Problemów Jądrowych im. Andrzeja Sołtana Zakład PV Fizyki i Technologii Plazmy Otwock-Świerk

METODYKA BADAŃ MAŁYCH SIŁOWNI WIATROWYCH

OTRZYMYWANIE WARSTW SiCN METODĄ RF SPUTTERINGU

REJESTRACJA PROCESÓW KRYSTALIZACJI METODĄ ATD-AED I ICH ANALIZA METALOGRAFICZNA

MODYFIKACJA BRĄZU SPIŻOWEGO CuSn4Zn7Pb6

ZASTOSOWANIE OCHŁADZALNIKA W CELU ROZDROBNIENIA STRUKTURY W ODLEWIE BIMETALICZNYM

WŁAŚCIWOŚCI TRIBOLOGICZNE POWŁOK ELEKTROLITYCZNYCH ZE STOPÓW NIKLU PO OBRÓBCE CIEPLNEJ

ANALIZA ZDOLNOŚCI PROCESU O ZALEŻNYCH CHARAKTERYSTYKACH

Technika jonowego rozpylenia

XII International PhD Workshop OWD 2010, October Metodyka pozyskiwania i analizy wyników badań symulacyjnych ścieżek klinicznych

WARSTWY KATALITYCZNE W OGNIWACH TYPU DSSC CATALYTIC LAYER IN DSSC SOLAR CELLS

Ćwiczenie LP2. Jacek Grela, Łukasz Marciniak 25 października 2009

WYZNACZANIE WARTOŚCI WYPRACOWANEJ W INWESTYCJACH REALIZOWANYCH PRZEZ PODWYKONAWCÓW

WPŁYW CHROPOWATOŚCI POWIERZCHNI MATERIAŁU NA GRUBOŚĆ POWŁOKI PO ALFINOWANIU

WPŁYW TECHNICZNEGO UZBROJENIA PROCESU PRACY NA NADWYŻKĘ BEZPOŚREDNIĄ W GOSPODARSTWACH RODZINNYCH

Conception of reuse of the waste from onshore and offshore in the aspect of

WYKORZYSTANIE FAL TERMICZNYCH DO BADANIA WARSTW SUPERTWARDYCH

WPŁYW ODKSZTAŁCENIA WZGLĘDNEGO NA WSKAŹNIK ZMNIEJSZENIA CHROPOWATOŚCI I STOPIEŃ UMOCNIENIA WARSTWY POWIERZCHNIOWEJ PO OBRÓBCE NAGNIATANEM

Dr inż. Wiesław Madej Katedra Systemów Cyfrowego Przetwarzania Sygnałów Wydział Elektroniki i Informatyki Politechniki.

ELEKTROFOREZA. Wykonanie ćwiczenia 8. ELEKTROFOREZA BARWNIKÓW W ŻELU AGAROZOWYM

PRZECIWZUŻYCIOWE POWŁOKI CERAMICZNO-METALOWE NANOSZONE NA ELEMENT SILNIKÓW SPALINOWYCH

TOPOGRAFIA WSPÓŁPRACUJĄCYCH POWIERZCHNI ŁOŻYSK TOCZNYCH POMIERZONA NA MIKROSKOPIE SIŁ ATOMOWYCH

BADANIE I ANALIZA WYPADKOWEGO ROZKŁADU WIDMOWEGO PROMIENIOWANIA LAMP HALOGENOWYCH I KSENONOWYCH 1. WPROWADZENIE

MODELOWANIE POŁĄCZEŃ TYPU SWORZEŃ OTWÓR ZA POMOCĄ MES BEZ UŻYCIA ANALIZY KONTAKTOWEJ

OBRÓBKA CIEPLNA SILUMINU AK132

Formularz recenzji magazynu. Journal of Corporate Responsibility and Leadership Review Form

Wpływ zanieczyszczenia torowiska na drogę hamowania tramwaju

Badania wybranych nanostruktur SnO 2 w aspekcie zastosowań sensorowych

WPŁYW WYKORZYSTANIA INSTALACJI FOTOWOLTAICZNEJ ZASILAJĄCEJ POMPĘ CIEPŁA W OKRESIE OGRZEWCZYM NA WSKAŹNIK EK I EP CHARAKTERYSTYKI ENERGETYCZNEJ BUDYNKU

Struktury proponowane dla unikalnych rozwiązań architektonicznych.

Politechnika Koszalińska

WARSZAWA LIX Zeszyt 257

Zał. nr 4 do ZW 33/2012 WYDZIAŁ PPT

METODYKA OCENY TOPOGRAFII FOLII ŚCIERNYCH ZE SZCZEGÓLNYM UWZGLĘDNIENIEM ROZMIESZCZENIA ZIAREN ŚCIERNYCH

WPŁYW SZYBKOŚCI STYGNIĘCIA NA WŁASNOŚCI TERMOFIZYCZNE STALIWA W STANIE STAŁYM

PROMIENIOWANIE WIDZIALNE ŁUKU SPAWALNICZEGO METODY TIG

POLITECHNIKA ŚLĄSKA Gliwice, ul. Krzywoustego 2, tel (032) ,

OCENA PORÓWNAWCZA WYNIKÓW OBLICZEŃ I BADAŃ WSPÓŁCZYNNIKA PRZENIKANIA CIEPŁA OKIEN

Tytuł pracy w języku angielskim: Microstructural characterization of Ag/X/Ag (X = Sn, In) joints obtained as the effect of diffusion soledering.

ANALIZA OCENY WSKAŹNIKA SZORSTKOŚCI NAWIERZCHNI DROGOWEJ WAHADŁEM ANGIELSKIM NA DRODZE KRAJOWEJ DK-43 W OKRESIE UJEMNEJ I DODATNIEJ TEMPERATURY

POMIARY TŁUMIENIA I ABSORBCJI FAL ELEKTROMAGNETYCZNYCH

Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej Polska Akademia Nauk

INTERAKCJA OBCIĄŻEŃ W UKŁADZIE DWÓCH SZYB O RÓŻNYCH SZTYWNOŚCIACH POŁĄCZONYCH SZCZELNĄ WARSTWĄ GAZOWĄ

WPŁYW POSTĘPU TECHNICZNEGO NA WYDAJNOŚĆ SYSTEMÓW FOTOWOLTAICZNYCH ML SYSTEM S.A.

FOTOELEKTRYCZNA REJESTRACJA ENERGII PROMIENIOWANIA KRZEPNĄCEGO STOPU

OTRZYMYWANIE WARSTW SiCN METODĄ RF SPUTTERINGU

BADANIA WYTRZYMA OŒCI NA ŒCISKANIE PRÓBEK Z TWORZYWA ABS DRUKOWANYCH W TECHNOLOGII FDM

ROZKŁAD TWARDOŚCI I MIKROTWARDOŚCI OSNOWY ŻELIWA CHROMOWEGO ODPORNEGO NA ŚCIERANIE NA PRZEKROJU MODELOWEGO ODLEWU

PROBLEMY EKSPLOATACJI 77

OTRZYMYWANIE KOMPOZYTÓW METALOWO-CERAMICZNYCH METODAMI PLAZMOWYMI

Optymalizacja konstrukcji wymiennika ciepła

Publikacje naukowe Marek Kubica Marek Kubica Marek Kubica Marek Kubica Marek Kubica Marek Kubica Marek Kubica Kubica Marek Marek Kubica Marek Kubica

WPŁYW PARAMETRÓW OBRÓBKI CIEPLNEJ TAŚM ZE STALI X6CR17 NA ICH WŁAŚCIWOŚCI MECHANICZNE I STRUKTURĘ

Zastosowanie spektroskopii EPR do badania wolnych rodników generowanych termicznie w drotawerynie

Domy inaczej pomyślane A different type of housing CEZARY SANKOWSKI

Ćwiczenie LP1. Jacek Grela, Łukasz Marciniak 22 listopada 2009

Wytwarzanie niskowymiarowych struktur półprzewodnikowych

WPŁYW OBRÓBKI TERMICZNEJ ZIEMNIAKÓW NA PRĘDKOŚĆ PROPAGACJI FAL ULTRADŹWIĘKOWYCH

WYKAZ PRÓB / SUMMARY OF TESTS. mgr ing. Janusz Bandel

Laboratorium z Konwersji Energii. Ogniwo Paliwowe PEM

WŁAŚCIWOŚCI FOTOWOLTAICZNE MIESZANIN AZOMETIN Z POLIMERAMI TIOFENOWYMI.

Spektroelektrochemia technecjanów (VII) w środowisku kwasu siarkowego (VI)

Table of Contents. Table of Contents UniTrain-I Kursy UniTrain UniTrain power engineering courses List of articles:

Table of Contents. Table of Contents Energetyka elektryczna Smart Grid inteligentne sieci energetyczne W uzupełnieniu do ESG 1 EUL i ELP

Pomiary elektryczne modeli laboratoryjnych turbiny wiatrowej i ogniwa PV

WIELOKRYTERIALNY DOBÓR ROZTRZĄSACZY OBORNIKA

fotowoltaika Katalog produktów

WPROWADZANIE FeSi DO CIEKŁEGO ŻELIWA METODĄ PNEUMATYCZNĄ

Woltamperometryczne oznaczenie paracetamolu w lekach i ściekach

Quasi-elastyczne mozaikowe taśmy fotowoltaiczne The quasi-flexible mosaic solar cells

Adres do korespondencji: Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej PAN, Kraków, ul. Reymonta 25

ANALIZA MORFOLOGII ELEKTROD STOSOWANYCH W BARWNIKOWYCH OGNIWACH SŁONECZNYCH

Transkrypt:

CZASOPISMO INŻYNIERII LĄDOWEJ, ŚRODOWISKA I ARCHITEKTURY JOURNAL OF CIVIL ENGINEERING, ENVIRONMENT AND ARCHITECTURE JCEEA, t. XXXIII, z. 63 (4/16), październik-grudzień 2016, s. 177-184 Tomasz GRUDNIEWSKI 1 PRÓBA MODYFIKACJI POWIERZCHNI CZYNNEJ OGNIWA FOTOWOLTAICZNEGO POPRZEZ ZMIANĘ PARAMETRÓW PODŁOŻA Sputtering magnetronowy jest techniką napylania warstw cienkich znajdującą coraz większe zastosowanie w procesach wytwarzania elektroniki i ogniw fotowoltaicznych [1,2]. Celem prezentowanych w artykule prac badawczych, jest analiza możliwości zastosowania podłoża alternatywnego do powszechnie stosowanych i tym samym osiągnięcie zmian topografii warstw otrzymywanych w procesie sputteringu magnetronowego. Zaburzenie topografii podłoża może skutkować większym uporządkowaniem struktury warstwy, co oznacza bardziej jednolitą powierzchnię, lub zjawiskiem całkowicie odwrotnym. Oba rezultaty są pożądane z punktu widzenia zastosowań produkcyjnych. Z jednej strony poszukuje się cienkich i jednolitych warstw, a z drugiej warstw o zmodyfikowanej topografii. Według autora, modyfikacja topografii warstw pochłaniających promieniowanie, może doprowadzić do zwiększenia powierzchni czynnej ogniwa fotowoltaicznego a co za tym idzie zwiększyć jego wydajność [3]. W czasie eksperymentów autor używał jako podłoża standardowego szkła laboratoryjnego (float) oraz laminatu (papier z żywicą). Dokonano serii naniesień warstw cienkich, celem otrzymania kompletnego ogniwa. Ogniwa na szkle jak i na laminacie były wykonane w tych samych warunkach i parametrach kolejnych procesów. Kolejne warstwy wchodzące w skład budowy ogniwa były tak nanoszone, by istniała możliwość ich późniejszej analizy (stosowano odpowiednie przesłony). Po wykonaniu ogniw, została sprawdzona ich wydajność kwantowa, którą odniesiono do obserwacji otrzymanych w wyniku skanowania AFM kolejnych warstw. Słowa kluczowe: ogniwa fotowoltaiczne, modyfikacja topografii warstwy, wydajność kwantowa, nanoszenie warstw 1. Wprowadzenie Napylanie z wykorzystaniem sputteringu magnetronowego jest jedną z technik wytwarzania warstw ultracienkich [4]. Do głównych zalet tej metody należą: brak konieczności stosowania wysokich temperatur w czasie procesu, 1 Tomasz Grudniewski, Państwowa Szkoła Wyższa im. Papieża Jana Pawła II w Białej Podlaskiej, Wydział Nauk Ekonomicznych i Technicznych, Zakład Informatyki, ul. Sidorska 95/97, 21-500 Biała Podlaska; tel. 833449908; knt@pswbp.pl

178 T. Grudniewski oraz możliwość użycia substancji nieprzewodzących jako podłoże lub substancję napylaną. Proces sputteringu zachodzi w komorze próżniowej, do której wprowadza się gaz, najczęściej jest to argon wysokiej czystości rzadziej z niewielką domieszką tlenu lub azotu (sputtering reaktywny), następnie do targetu wykonanego z substancji, którą się napyla, podłączane jest stały lub zmienny sygnał sterujący, który doprowadza do jonizacji gazu w komorze [5,6]. Cząsteczki plazmy kierowane przez magnesy znajdujące się pod targetem bombardują jego powierzchnię i doprowadzają do wybijania cząstek, które następnie osadzają się na pierwszej napotkanej powierzchni. Dotychczas autor próbował stosować metody modyfikacji topografii poprzez m.in. przesłony mechaniczne eksperymenty te nie dały jednak zadowalających rezultatów. Celem pracy autora było zbadanie możliwości modyfikacji topografii nanoszonych warstw poprzez wprowadzenia nierównego podłoża, tak by zwiększyć powierzchnię aktywną, co jest pożądane przy badaniach nad ogniwami fotowoltaicznymi. Eksperymenty były przeprowadzane z wykorzystaniem magnetronu pracującego w trybie odgórnym (target znajduje się nad podłożem, na które nanoszone są warstwy). Jako podłoża ogniw wykorzystano szkiełka mikroskopowe typu float oraz płytki pcb (laminat papier utwardzany żywicą). 2. Opis procedury badawczej W eksperymencie do nanoszenia kolejnych warstw ultracienkich ogniw fotowoltaicznych, użyto maszyny firmy Alliance Concept Line 440.Urządzenie to posiada możliwość instalacji czterech źródeł materiałów (targetów), odpowiednie oprogramowanie procesu, przesuwanie próbką (powstającym ogniwem) pod kolejnymi targetami umożliwia budowę zaawansowanych struktur. Urządzenie jest z powodzeniem stosowane w komercyjnej produkcji pojedynczych warstw jak i nawet całych paneli fotowoltaicznych [4]. Schematyczny wygląd ogniw wytwarzanych na potrzeby prezentowanych eksperymentów przedstawia Rys. 1. W Tabeli 1 zawarto parametry procesów, które wykorzystywano przy tworzeniu kolejnych warstw. Jak łatwo zaobserwować użyte w eksperymentach ogniwa są zbudowane odwrotnie z innej strony znajduje się podłoże. Należy tutaj wspomnieć, że podłoże laminatowe było pokryte grubą warstwą miedzi (do zastosowań w mi- Rys. 1. Schemat budowy ogniw przygotowywanych do eksperymentów oraz grubości naniesionych warstw Fig. 1. Scheme of the prepared cells and thickness of the applied layers

Próba modyfikacji powierzchni czynnej ogniwa fotowoltaicznego 179 Tabela 1. Zestawienie parametrów wykonania poszczególnych warstw w analizowanych przetwornikach Table 1. Layers sputtering process parameters Warstwa SnO2 CdS CdTe Cu Parametry procesów nanoszenia moc generatora: 700W/RF; temperatura: 250 o C; gazy Ar/O2: 100/5 sccm; czas 10 min. moc generatora: 1000W/RF; temperatura: 150 o C; gaz Ar: 100 sccm; czas 7,5 min. moc generatora: 800W/RF; temperatura: 150 o C; gaz Ar: 100 sccm; czas 40 min. moc generatora: 600W/DC; temperatura: 25 o C; gaz Ar: 100 sccm; czas 5 min. Rys. 2. Układ pomiarowy służący do powierzchniowego mapowania zmian wydajności ogniw fotowoltaicznych Fig. 2. The measuring setup used for the photovoltaic cells surface efficiency mapping kroelektronice). By usunąć zanieczyszczenia i spowodować uzyskanie jak najcieńszej warstwy, płytki poddano trawieniu (bombardowaniu wysoko energetycznymi cząstkami, celem wybicia atomów miedzi do pożądanej grubości). Grubości warstw określono na podstawie wcześniejszych eksperymentów dotyczących powiązania warunków procesu z pomiarami z wykorzystaniem elipsometru (Horiba Uvisel-2). Pomiarów wydajności i generowanej mocy, wykonanych ogniw dokonano z zastosowaniem dwóch układów symulatorów firmy Oriel. Wykorzystane układy umożliwiały pomiar wydajności kwantowej przetworników w odniesieniu do długości fali oświetlającej (Oriel IQE-200) oraz dla

180 T. Grudniewski światła białego (Oriel Sol 3A). Porównania topografii wybranych próbek dokonano stosując mikroskop sił atomowych (NT-MDT Ntegra Spectra C). Mapowanie wydajności ogniw fotowoltaicznych wykonano stosując zestaw pomiarowy pokazany na Rys. 2. Układ z Rys. 2. posiada oprogramowanie i urządzenia kontrolno-pomiarowe umożliwiające analizę zmian wydajności ogniw w różnych punktach. Wyniki badań z wykorzystaniem zestawu z Rys. 2. mogą posłużyć jako informacja o jakości procesu wykonania lub pokazać zmiany wynikające z fluktuacji topografii kolejnych warstw. 3. Metodyka i wyniki badań Pierwszym zbadanym zagadnieniem był pomiar wydajności kwantowej wybranych (najbardziej reprezentatywnych wg autora) ogniw w zależności od długości fali oświetlającej (Rys. 3). Pomiary wydajności kwantowej wykonano dla określonego pola powierzchni ogniw. Kolejnym parametrem było sprawdzenie mocy generowanej przez ogniwa w odniesieniu do długości fali oświetlającej (Rys. 4). Zebrane dane dotyczą ogniwa fotowoltaicznego wykonanego na szkle jak i na laminacie. Rys. 3. Wydajność kwantowa ogniw (szkło/laminat) Fig. 3. Cells quantum efficiency (glass / fiberglass)

Próba modyfikacji powierzchni czynnej ogniwa fotowoltaicznego 181 Rys. 4. Moc wybranych ogniw w odniesieniu do długości fali oświetlającej Fig. 4. The generated power of the selected cells according to the wavelength of the light Różnice w mocy generowanej przez badane ogniwa, skłoniły autora do wykonania dalszych pomiarów. Istniało przypuszczenie, że zaburzenia przenoszone przez warstwy powinny powodować spadek wydajności ogniw a działo się zupełnie odwrotnie. W celu sprawdzenia zaburzeń w topografii autor wykonał 2 dodatkowe pomiary: a) mapowanie powierzchni pod kątem zmian wydajności (Rys. 5); b) obrazowanie AFM kolejnych powierzchni ogniw. Autor dobrał proces wykonania ogniw tak by po naniesieniu wszystkich warstw istniała możliwość indywidualnej analizy AFM każdej indywidualnie. Ze względów objętościowych w prezentowanym artykule umieszczono tylko obrazy AFM warstwy CdTe dla dwóch powiększeń. Powierzchnie ogniw są takie same i ogniwo na szkle ma większą wydajność kwantową praktycznie w całym zakresie, pomimo tego ogniwo na laminacie generuje większą moc. Na mapie widać że te ogniwo na laminacie jest dużo bardziej jednorodne, ta moc generowana jest praktycznie maksymalnie na całym obszarze, a ogniwo na szkle, pomimo tego że w kilku punktach widocznych na mapie generuję większą moc, pozostała jego część jest prawie nieaktywna. Wymogi objętościowe tego artykułu nie pozwalają autorowi skupić się jedynie na wybranych fragmentach badań i przemyśleń dotyczących analizowanego zagadnienia.

182 T. Grudniewski a) b) c) d) Rys. 5. Mapy wydajności wykonanych ogniw: a i c) podłoże laminat; b i d) podłoże szkło Fig. 5. Mapping of the prepared cells: a, c) the laminate substrate; b, d) glass substrate

Próba modyfikacji powierzchni czynnej ogniwa fotowoltaicznego 183 4. Wnioski 1. Autorowi udało się uzyskać w pełni funkcjonujące ogniwo fotowoltaiczne na podłożu z laminatu papierowo żywicznym, które cechowało się bardzo zadowalającymi parametrami z punktu widzenia użytkowego. 2. Jakość (płaskorównoległość) kolejno nanoszonych warstw jest powieleniem struktury podłoża i może mieć wpływ na efektywność ogniw. 3. Potwierdzono wcześniejsze przypuszczenia (oraz prowadzone przez autora badania), wg. których fluktuacje warstwy absorpcyjnej mogą prowadzić do wzrostu powierzchni czynnej a tym samym zmian w efektywności [7]. 4. Ze względu na obserwowane (Rys. 5) fluktuacje, tematyka wymaga dalszych badań między innymi planuje się zwiększenie grubości kolejnych warstw, zastosowanie innych podłoży. Literatura [1] Sahin A., Kaya H., Thin-Film Solar Cells, 2010. [2] Posadowski W. M.: Pulsed magnetron sputtering of reactive compounds, Thin Solid Films, 1999. [3] Sławomir Gułkowski. Modelowanie charakterystyk I-V ogniw słonecznych w środowisku matlab/simulink. Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury - Journal of Civil Engineering, Environment and Architecture, JCEEA, t. XXXI, z. 61 (3/II/14), 2014, s. 203-208, DOI:10.7862/rb.2014.88. [4] Luhin V., Zarapin V., Zharski I., Zhukowski P.: Sensorowe właściwości cienkich warstw SnO 2 wytwarzanych rozpylaniem magnetronowym, Elektronika. Konstrukcje, technologie, zastosowania 11/2011. [5] Park M. W., Lee W. W,. Lee J. G,. Lee Ch. M, A Comparison of the Mechanical Properties of RF- and DC- Sputter-Deposited Cr Thin Films, Materials Science, 2007. [6] Musil J., Baroch P., Vlcek J., Nam K.H., Han J.G.: Reactive magnetron sputtering of thin films: present and trends, Thin Solid Films, 2005. [7] Krawczak E., Gułkowski S., Olchowik J. M.: Badanie efektywności pracy fotowolticznego systemu off-grid w warunkach zimowo-wiosennych dla Lubelszczyzny. Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury - Journal of Civil Engineering, Environment and Architecture, JCEEA, t. XXXI, z. 61 (3/II/14), 2014, s. 317-328, DOI:10.7862/rb.2014.98. PHOTOVOLTAIC CELL ACTIVE SURFACE CHANGE USING SUBSTRATES WITH DIFFERENT TOPOGRAPHY PARAMETERS S u m m a r y Magnetron Sputtering can create thin layers with can be used for electronic elements or photovoltaic cells [1,2]. The objective presented in the article concern the possibility of using photovoltaic cells substrates alternative to the commonly used. The author hypothesizes that the changes

184 T. Grudniewski in the topography of the layers obtained by the sputtering magnetron are the consequence of disorders to the topography of the substrate. This disorder may result in a greater re-arrangement of the layer structure, leading to a more uniform after-surface, a phenomenon completely the opposite of what was thought. Both results are desirable in production applications. On the other hand, the most sought after result is the thin, uniform layers being the other layers of the modified topography. Disturbed layers can increase the active surface of the photovoltaic cell and thus increase its efficiency [3]. During the experiments, the author used as a base standard laboratory glass (float) and the laminate (paper with resin). There have been a series of thin layers of annotations, in order to obtain a complete cell. Cells on glass and the laminate was manufactured under the same conditions and parameters of other processes. Successive layers included in the construction of the cells to be applied so that it is possible subsequent analysis (using the appropriate aperture). After the cells were tested for quantum efficiency, which was related to the observation obtained by scanning successive layers of AFM. Keywords: photovoltaic cells, layer topography modification, quantum efficiency, thin layer creation DOI:10.7862/rb.2016.261 Przesłano do redakcji: 30.06.2016 r. Przyjęto do druku: 20.12.2016 r.