ZAKRES AKREDYTACJI LABORATORIUM BADAWCZEGO Nr AB 1465 wydany przez POLSKIE CENTRUM AKREDYTACJI 01-382 Warszawa, ul. Szczotkarska 42 Wydanie nr 3, Data wydania: 17 listopada 2015 r. Nazwa i adres Laboratorium Jakości Sprzętu Diagnostycznego mgr inż. Daniel Stawski ul. 11 Listopada 16/1, 32-590 Libiąż AB 1465 Kod identyfikacji dziedziny/obiektu badań Dziedzina/obiekt badań: N/14 Badania właściwości fizycznych wyposażenia medycznego urządzenia radiologiczne KIEROWNIK DZIAŁU AKREDYTACJI LABORATORIÓW TADEUSZ MATRAS Niniejszy dokument jest załącznikiem do Certyfikatu Akredytacji Nr AB 1465 z dnia 04.10.2013 r. Status akredytacji oraz aktualność zakresu akredytacji można potwierdzić na stronie internetowej PCA www.pca.gov.pl Dział Akredytacji Laboratoriów Wydanie nr 3, 17 listopada 2015 r. str. 1/12
radiografii ogólnej Laboratorium Jakości Sprzętu Diagnostycznego mgr inż. Daniel Stawski ul. 11 Listopada 16/1, 32-590 Libiąż Wysokie napięcie Zakres: (40 150) kv Dokładność ustawienia wysokiego Powtarzalność wartości wysokiego Zmienność wysokiego przy zmianie natężenia prądu Czas ekspozycji Zakres: (0,05-720)s Dokładność ustawienia czasu ekspozycji Dawka pochłonięta w powietrzu Kerma w powietrzu Zakres: 50 µgy 0,5 Gy Warstwa półchłonna HVL Zakres: (1,2 10) mmal Wydajność lampy Powtarzalność wydajności lampy Zmienność wydajność lampy w funkcji natężenia prądu Zmienność wydajności lampy w funkcji obciążenia prądowoczasowego Wielkość ogniska lampy rtg Odchylenie pomiędzy osią wiązki a płaszczyzną rejestratora obrazu od kąta prostego PB 5.4 RO wydanie W 2 z dnia 13.08.2013r. Dział Akredytacji Laboratoriów Wydanie nr 3, 17 listopada 2015 r. str. 2/12
radiografii ogólnej Odległość osi wiązki promieniowania rtg od środka rejestratora obrazu Zakres: (0,00 15,00) cm Pomiar odległości między elementami obrazu rentgenowskiego Odległość środka pola rtg od środka pola świetlnego Zakres: (0,00 15,00) cm Pomiar odległości między elementami obrazu rentgenowskiego Odległość środka pola świetlnego od środka rejestratora w szufladzie Zakres: (0,00 15,00) cm Pomiar odległości między elementami obrazu rentgenowskiego Odległość pomiędzy krawędziami pola promieniowania a polem świetlnym kolimacja ręczna Zakres: (0,00 15,00) cm Pomiar odległości między elementami obrazu rentgenowskiego Odległość pomiędzy krawędziami pola promieniowania a rejestratorem obrazu kolimacja automatyczna Zakres: (0,00 15,00) cm Pomiar odległości między elementami obrazu rentgenowskiego Odległość pomiędzy ogniskiem optycznym lampy a rejestratorem obrazu Zakres: (0,30 2,00) m Pomiar pośredni i bezpośredni Oświetlenie pola symulującego pole promieniowania rentgenowskiego Zakres: (0 500) lux Jednorodność obrazu kratki przeciwrozproszeniowej Zakres: (1,00 2,50) Różnica gęstości optycznych przy zmianie natężenia prądu Zakres: (0,20 4,00) Różnica gęstości optycznych przy zmianie wysokiego Zakres: (0,20 4,00) Różnica gęstości optycznych przy zmianie grubości fantomu Zakres: (0,20 4,00) PB 5.4 RO wydanie W 2 z dnia 13.08.2013 r. Dział Akredytacji Laboratoriów Wydanie nr 3, 17 listopada 2015 r. str. 3/12
radiografii ogólnej Różnica gęstości optycznych - czułości komór AEC Zakres: (0,20 4,00) Gęstość optyczna - wzmocnienie ekranu Zakres: (1,00 2,50) Odchylenie standardowe gęstości optycznej dla kasety kontrolnej Maksymalna różnica gęstości optycznych dla wszystkich kaset Zakres: (1,00 2,50) Różnica gęstości optycznych szczelność ciemni Zakres: (1,00 4,50) Różnica gęstości optycznych - oświetlenie robocze ciemni Zakres: (1,00 4,50) Gęstość minimalna w procesie Zakres: (0,15 0,50) Wskaźnik światłoczułości w procesie Zakres: (0,00 4,50) Wskaźnik kontrastowości w procesie Luminancja negatoskopu Zakres: (0 7000) cd/m 2 Niejednorodność luminancji powierzchni negatoskopu Natężenie oświetlenia zewnętrznego negatoskopu Zakres: (0 500) lux PB 5.4 RO wydanie W 2 z dnia 13.08.2013 r. Dział Akredytacji Laboratoriów Wydanie nr 3, 17 listopada 2015 r. str. 4/12
zdjęć panoramicznych oraz cefalometrii Wysokie napięcie Zakres: (60 100) kv Dokładność ustawienia wysokiego Powtarzalność wartości wysokiego Zmienność wysokiego przy zmianie natężenia prądu Czas ekspozycji Zakres: (0,05-20)s Dokładność ustawienia czasu ekspozycji Dawka pochłonięta w powietrzu Kerma w powietrzu Zakres: 50 µgy 0,5 Gy Moc dawki Zakres: (1 25) mgy/s Warstwa półchłonna HVL Zakres: (1,2 10) mmal Wydajność lampy Powtarzalność wydajności lampy Zmienność wydajność lampy w funkcji natężenia prądu Zmienność wydajności lampy w funkcji obciążenia prądowoczasowego Odległość pomiędzy ogniskiem optycznym lampy a rejestratorem obrazu Zakres: (0,30 2,00) m PB 5.4 PC wydanie W 2 z dnia 13.08.2013 r. Dział Akredytacji Laboratoriów Wydanie nr 3, 17 listopada 2015 r. str. 5/12
zdjęć panoramicznych oraz cefalometrii Gęstość optyczna - wzmocnienie ekranu Zakres: (1,00 2,50) Odchylenie standardowe gęstości optycznej dla kasety kontrolnej Maksymalna różnica gęstości optycznych dla wszystkich kaset Zakres: (1,00 2,50) Różnica gęstości optycznych szczelność ciemni Zakres: (1,00 4,50) Różnica gęstości optycznych - oświetlenie robocze ciemni Zakres: (1,00 4,50) Gęstość minimalna w procesie Zakres: (0,15 0,50) Wskaźnik światłoczułości w procesie Zakres: (0,00 4,50) Wskaźnik kontrastowości w procesie Luminancja negatoskopu Zakres: (0 7000) cd/m 2 Niejednorodność luminancji powierzchni negatoskopu Natężenie oświetlenia zewnętrznego negatoskopu Zakres: (0 500) lux PB 5.4 PC wydanie W 2 z dnia 13.08.2013 r. Dział Akredytacji Laboratoriów Wydanie nr 3, 17 listopada 2015 r. str. 6/12
zdjęć wewnątrzustnych Wysokie napięcie Zakres: (50 80) kv Dokładność ustawienia wysokiego Powtarzalność wartości wysokiego Czas ekspozycji Zakres: (0,01 2) s Dokładność ustawienia czasu ekspozycji Powtarzalność czasu ekspozycji (zegar) Dawka pochłonięta w powietrzu Zakres: 50 µgy 10 mgy Warstwa półchłonna HVL Zakres: (1,2 10) mmal Wydajność lampy Powtarzalność wydajności lampy Zmienność wydajność lampy w funkcji natężenia prądu Zmienność wydajności lampy w funkcji obciążenia prądowoczasowego Wielkość ogniska lampy rtg Z obliczeń Odchylenie pomiędzy osią wiązki a płaszczyzną rejestratora obrazu od kąta prostego Odległość: ognisko lampy powierzchnia czołowa tubusa Zakres: (0,08 0,50) m PB 5.4 ST wydanie W 2 z dnia 13.08.2013 r. Dział Akredytacji Laboratoriów Wydanie nr 3, 17 listopada 2015 r. str. 7/12
fluoroskopii Wysokie napięcie Zakres: (40 150) kv Dokładność ustawienia wysokiego Powtarzalność wartości wysokiego Zmienność wysokiego przy zmianie natężenia prądu Moc dawki Zakres: 1mGy/s 25mGy/s Warstwa półchłonna HVL Zakres: (1,2 10) mmal Wydajność lampy Powtarzalność wydajności lampy Zmienność wydajność lampy w funkcji natężenia prądu Zmienność wydajności lampy w funkcji obciążenia prądowoczasowego Czas ekspozycji Zakres: (0,001 9999) s Stosunek pola promieniowania X do pola widzenia wzmacniacza PB 5.4 F wydanie W 2 z dnia 13.08.2013 r. Dział Akredytacji Laboratoriów Wydanie nr 3, 17 listopada 2015 r. str. 8/12
mammografii Wielkość ogniska lampy rtg Odległość ognisko rejestrator obrazu Zakres: (0,40 0,80) m Pomiar pośredni i bezpośredni Odległość pomiędzy krawędziami promieniowania X a krawędziami rejestratora obrazu Zakres: (0,00 2,00) cm Odległość pomiędzy krawędzią kratki przeciwrozproszeniowej a rejestratorem obrazu Zakres: (0,00 1,00) cm Dawka pochłonięta w powietrzu Kerma w powietrzu Zakres: (0,1 50) mgy Wydajność lampy Moc dawki Wysokie napięcie Zakres: (22 38) kv Dokładność ustawienia wysokiego Powtarzalność wartości wysokiego Czas ekspozycji Zakres: (0,01 3) s Warstwa półchłonna HVL Zakres: (0,2 0,6) mmal Gęstość optyczna w punkcie referencyjnym Zakres: (0,90 2,50) Różnica gęstości optycznych dla różnych poziomów zaczernienia Maksymalna różnica gęstości optycznych dla wszystkich dostępnych poziomów zaczernienia Powtarzalność dawki PB 5.4 MM wydanie W 3 z dnia 20.08.2015 r. Dział Akredytacji Laboratoriów Wydanie nr 3, 17 listopada 2015 r. str. 9/12
mammografii Różnica gęstości optycznych przy zmianie grubości fantomu i wartości wysokiego Dawka wejściowa Siła kompresji piersi Zakres pomiaru masy: (0 25) kg Stałość siły kompresji Zakres pomiaru masy: (0 25) kg Zmiana położenia płytki uciskowej dla symetrycznego podparcia płytki uciskowej Zmiana położenia płytki uciskowej dla niesymetrycznego podparcia płytki uciskowej Współczynnik pochłaniania kratki przeciwrozproszeniowej Różnica gęstości optycznych - wzmocnienie ekranu Różnica gęstości optycznych szczelność ciemni Różnica gęstości optycznych - oświetlenie robocze ciemni Różnica gęstości optycznych - przepust ciemni Zakres: (1,0 4,50) Gęstość minimalna w procesie Zakres: (1,0 4,50) Wskaźnik światłoczułości w procesie Wskaźnik kontrastowości w procesie PB 5.4 MM wydanie W 3 z dnia 20.08.2015 r. Dział Akredytacji Laboratoriów Wydanie nr 3, 17 listopada 2015 r. str. 10/12
mammografii Luminancja negatoskopu Zakres: (0 7000)cd/m 2 Jednorodność luminancji powierzchni negatoskopu Natężenie oświetlenia zewnętrznego Zakres: (0-500) lux PB 5.4 MM wydanie W 3 z dnia 20.08.2015 r. Dział Akredytacji Laboratoriów Wydanie nr 3, 17 listopada 2015 r. str. 11/12
Wykaz zmian Zakresu Akredytacji Nr AB 1465 Status zmian: wersja pierwotna - A Zatwierdzam status zmian KIEROWNIK DZIAŁU AKREDYTACJI LABORATORIÓW TADEUSZ MATRAS dnia: 17.11.2015 r. Dział Akredytacji Laboratoriów Wydanie nr 3, 17 listopada 2015 r. str. 12/12