WYKŁAD 4 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni

Wielkość: px
Rozpocząć pokaz od strony:

Download "WYKŁAD 4 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni"

Transkrypt

1 Mikrosystemy ceramiczne WYKŁAD 4 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni

2 Plan wykładu - Podstawy technologii LTCC (Low Temperature Cofired Ceramics, niskotemperaturowa współwypalana ceramika) Wykonywanie elementów biernych LTCC Montaż dyskretnych elementów elektronicznych Kontrola skurczu ceramiki LTCC

3 Przekrój przez wielowarstwowy moduł LTCC ścieżki przewodzące elementy elektroniczne (R, L, C) czujniki i przetworniki kanały (gaz, ciecz) elementy optoelektroniczne układy grzejne, chłodzące

4 LTCC etapy wytwarzania

5 Projekt modułu LTCC Terminologia przekrój

6 Projekt modułu LTCC Terminologia widok z góry Przed wypaleniem Po wypaleniu metalizacja Wpływ nierównomiernego naniesienia metalizacji

7 Plan wykładu - Podstawy technologii LTCC (Low Temperature Cofired Ceramics, niskotemperaturowa współwypalana ceramika) Wykonywanie elementów biernych LTCC Montaż dyskretnych elementów elektronicznych Kontrola skurczu ceramiki LTCC

8 Wykonywanie elementów biernych Rezystory Element planarny powierzchniowy Elektrody Element planarny zagrzebany Element trójwymiarowy Element trójwymiarowy powierzchniowy zagrzebany Elektrody Rezystory planarne (2D) powierzchniowe i zagrzebane Rezystory objętościowe (3D) powierzchniowe i zagrzebane J. Kita, rozprawa dr Typowe kształty rezystorów

9 Sposoby korekcji rezystorów LTCC: a) typowa korekcja laserowa, b) korekcja przez jedną warstwę ceramiki, c) korekcja przez otwór wycięty w górnej warstwie, d) korekcja za pomocą impulsów wysokonapięciowych. J. Kita, rozprawa dr Wykonywanie elementów biernych Rezystory (korekcja)

10 Wykonywanie elementów biernych Rezystory (korekcja) Rezystory powierzchniowe (z lewej) i zagrzebane (z prawej) wykonane techniką LTCC po korekcji laserowej. J. Kita, rozprawa dr

11 Wykonywanie elementów biernych Mikrorezystory Elektrody mikrorezystora wykonane przez nacięcie warstwy przewodzącej laserem oraz mikrorezystor z elektrodami J. Kita, rozprawa dr

12 Wykonywanie elementów biernych Rezystory Typ Zalety Wady Naniesiony na wypalone podłoże LTCC (postfired) - Właściwości takie same jak klasycznych rezystorów grubowarstwowych - Możliwość korekcji - Możliwość wykonania tylko na powierzchni podłoża Współwypalany (powierzchniowy) - Możliwość korekcji - Wpływ procesu współwypalania na właściwości - Problemy z kompatybilnością z innymi wspówypalanymi warstwami Współwypalany (zagrzebany) - Oszczędność powierzchni (dla elementów aktywnych) - Wpływ procesu współwypalania na właściwości - Specjalne pasty - Problemy z korekcją

13 Wykonywanie elementów biernych Kondensatory elektroda Ag Ag conductor paste LTCC LTCC Tape Typowe kształty kondensatorów powierzchniowych E. Miś, rozprawa dr Kondensatory zagrzebane wykonane techniką LTCC a) Nadruk warstwy dielektrycznej b) Folia LTCC o dużej przenikalności elektrycznej c) Fragment foli o dużej przenikalności elektrycznej umieszczony w otworze wyciętym w typowej foli LTCC d) Otwory przelotowe wypełnione pastą/folią o dużej przenikalności elektrycznej J. Kita, rozprawa dr

14 Wykonywanie elementów biernych Cewki Cewki przestrzenne (3D) powierzchniowe i zagrzebane Cewka wielowarstwowa J. Kita, rozprawa dr Cewki planarne (2D) powierzchniowe i zagrzebane

15 Wykonywanie elementów biernych Cewki (zastosowanie lasera) Sitodruk Suszenie Wycinanie laserem Laminacja Wypalanie J. Kita, rozprawa dr

16 Wykonywanie elementów biernych Rezystory, cewki, kondensatory (LTCC) R Rezystory rezystancja powierzchniowa powierzchniowe 10 / do 1 M / (tolerancja 1% do 2%) zagrzebane 10 / to 100 k / (tolerancja 10% do 20%) L Cewki - indukcyjność 5 nh do 200 nh C Kondensatory pojemność 20 pf/cm 2 przy zastosowaniu standardowej folii LTCC (dokładność 10%-20%) do 25 nf/cm 2 przy zastosowaniu specjalnych past/foli dielektryczncyh

17 Wykonywanie elementów biernych Rezystory, cewki, kondensatory (LTCC) - zastosowania Filtr pasmowoprzepustowy Oscylator Podłoże PCB Podłoże LTCC Zagrzebane elementy RLC tworzące filtr pasmowoprzepustowy Ścieżki przewodzące Elementy bierne Ścieżki przewodzące Masa Kondensator Cewka Symetryzator Filtr LC

18 Wykonywanie elementów biernych Rezystory, cewki, kondensatory (LTCC) - zastosowania Filtr pasmowoprzepustowy Oscylator Podłoże PCB Podłoże LTCC Zagrzebane elementy RLC tworzące filtr pasmowoprzepustowy Ścieżki przewodzące Elementy bierne Ścieżki przewodzące Masa Kondensator Cewka Symetryzator Filtr LC

19 Plan wykładu - Podstawy technologii LTCC (Low Temperature Cofired Ceramics, niskotemperaturowa współwypalana ceramika) Wykonywanie elementów biernych LTCC Montaż dyskretnych elementów elektronicznych Kontrola skurczu ceramiki LTCC

20 Montaż Montaż

21 Wire Bonding Step 1: Melting a ball Step 4: Lift and wire tear off Step 2: 1st bond (ball) Chip Step 3: Loop and 2nd bond (wedge)

22 Flip chip

23 Montaż

24 Montaż Z. Drozd

25 Plan wykładu - Podstawy technologii LTCC (Low Temperature Cofired Ceramics, niskotemperaturowa współwypalana ceramika) Wykonywanie elementów biernych LTCC Montaż dyskretnych elementów elektronicznych Kontrola skurczu ceramiki LTCC

26 LTCC etapy wytwarzania

27 Proces wypalania

28 Skurcz ceramiki LTCC ~15% ± 0,5% T. Rabe, Int. J. Appl. Cer. Techn., 2005

29 Skurcz ceramiki LTCC skurcz tylko w osi z (grubość) T. Rabe, Int. J. Appl. Cer. Techn., 2005

30 Kontrolowany skurcz ceramiki LTCC Constrained sintering ( Ograniczony skurcz) Surowa ceramika LTCC Surowa ceramika LTCC Sztywne podłoże Metoda tape on substrate Surowa ceramika LTCC Sztywne podłoże Skurcz x,y: 0,2% Skurcz z: 30% Powtarzalność x,y : ± 0,05% Metoda sacrificial tape T. Rabe, Int. J. Appl. Cer. Techn., 2005 Warstwa pomocnicza Surowe folie LTCC Warstwa pomocnicza Warstwa pomocnicza Wypalony moduł LTCC Warstwa pomocnicza

31 T. Rabe, Int. J. Appl. Cer. Techn., 2005 Kontrolowany skurcz ceramiki LTCC Pressure-assisted sintering (PAS, Wypalanie wspomagane ciśnieniem) Płyta z materiału porowatego Warstwa pomocnicza Surowe folie LTCC Warstwa pomocnicza Płyta z materiału porowatego - Połączenie pieca z prasą jednoosiową Skurcz x,y: 0,2% Skurcz z: 30% Powtarzalność x,y : ± 0,008% komora pieca próbka z folią ograniczającą pręty dociskające materiał porowaty

32 Kontrolowany skurcz ceramiki LTCC Self-constrained sintering (ceramika bez skurczowa) Stosowane materiały: - ceramika (Al 2 O 3, ) - szkło (CaO-B 2 O 3 -SiO 2, ) - lepiszcze organiczne (PVB, ) -... T. Rabe, Int. J. Appl. Cer. Techn., 2005 Wytwarzanie folii LTCC (tape casting) M. Gongora-Rubio et al., SNA, 2001

33 Kontrolowany skurcz ceramiki LTCC Self-constrained sintering (ceramika bezskurczowa) Szkło o niskiej temperaturze zeszklenia, krystality Ceramika i środek zwilżający do szkła Szkło o niskiej temperaturze zeszklenia, krystality Skurcz x,y: 0,2% Skurcz z: 32% Powtarzalność x,y : ± 0,04% Przekrój przez moduł LTCC wykonany z ceramiki bez skurczowej T. Rabe, Int. J. Appl. Cer. Techn., 2005

34 Kontrolowany skurcz ceramiki LTCC Self-constrained sintering (laminowanie różnych ceramik LTCC) LTCC B: 75/25% vol. szkło/ceramika LTCC A: 55/45% vol. Szkło/ceramika Skurcz x,y: 0,5% Skurcz z: 35% Powtarzalność x,y :? T. Rabe, Int. J. Appl. Cer. Techn., 2005

35 Kontrolowany skurcz ceramiki LTCC Porównanie metod Metoda Zalety Wady Ograniczony skurcz (klasyczny) Ograniczony skurcz (warstwy pomocnicze) Laminacja wspomagana ciśnieniem (PAS) Ceramika bezskurczowa Laminowanie różnych typów ceramik LTCC Łatwa implementacja Stosunkowo łatwa implementacja Minimalny skurcz w osi x, y (0,2%) Dostateczna powtarzalność (± 0,05%) Minimalny skurcz w osi x, y (0,2%) Najlepsza powtarzalność (± 0,008%) Kompatybilna ze standardowym procesem LTCC Minimalny skurcz w osi x, y (0,2%) B. dobra powtarzalność (± 0,02%) j.w. Wynikiem jest trapezoidalne podłoże Gorsza powtarzalność Dodatkowe materiały (warstwy pomocnicze) Dodatkowe kroki technologiczne (nakładanie i usuwanie warstw pomocniczych) Możliwe uszkodzenie warstw na powierzchni modułu LTCC j.w. Koszt (specjalny piec) Droższa od standardowej ceramiki LTCC Gorsze właściwości mechaniczne wypalonego modułu LTCC Wrażliwa na warunki procesu Dobór ceramik LTCC o odpowiednim składzie może być problematyczne Brak informacji o powtarzalności

36 Plan wykładu - Podstawy technologii LTCC (Low Temperature Cofired Ceramics, niskotemperaturowa współwypalana ceramika) Wykonywanie elementów biernych LTCC Montaż dyskretnych elementów elektronicznych Kontrola skurczu ceramiki LTCC

WYKŁAD 3 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni

WYKŁAD 3 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Mikrosystemy ceramiczne WYKŁAD 3 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Plan wykładu - Podstawy technologii LTCC (Low Temperature Cofired Ceramics, niskotemperaturowa współwypalana ceramika) Etapy wytwarzania

Bardziej szczegółowo

LTCC. Low Temperature Cofired Ceramics

LTCC. Low Temperature Cofired Ceramics LTCC Low Temperature Cofired Ceramics Surowa ceramika - green tape Folia LTCC: 100-200µm, mieszanina ceramiki, szkła i nośnika ceramicznego Technika sitodruku: warstwy (ścieŝki przewodzące, rezystory,

Bardziej szczegółowo

Technologie mikro- nano-

Technologie mikro- nano- Technologie mikro- nano- część Prof. Golonki 1. Układy wysokotemperaturowe mogą być nanoszone na następujące podłoże ceramiczne: a) Al2O3 b) BeO c) AlN 2. Typowe grubości ścieżek w układach grubowarstwowych:

Bardziej szczegółowo

WYKŁAD 7 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni

WYKŁAD 7 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Mikrosystemy ceramiczne WYKŁAD 7 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Wykład 7 Wytwarzanie struktur 3D Łączenie LTCC z innymi materiałami Integracja przeźroczystego szkła z modułem LTCC Łączenie PDMS

Bardziej szczegółowo

WYKŁAD 6 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni

WYKŁAD 6 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Mikrosystemy ceramiczne WYKŁAD 6 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Wykład 6 Wykonywanie struktur przestrzennych Laminacja wysoko i niskociśnieniowa (przypomnienie) Laminacja wieloetapowa Laminacja

Bardziej szczegółowo

WYKŁAD 5 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni

WYKŁAD 5 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Mikrosystemy ceramiczne WYKŁAD 5 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Plan wykładu - Materiały i procesy wykorzystywane do wytwarzania mikrosystemów mikroobróbka surowej folii LTCC cd. - wytłaczanie

Bardziej szczegółowo

WYKŁAD 2 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni

WYKŁAD 2 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Mikrosystemy ceramiczne WYKŁAD 2 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Plan wykładu - Podstawy technologii grubowarstwowej - Materiały i procesy TECHNOLOGIA GRUBOWARSTWOWA Układy grubowarstwowe wytwarza

Bardziej szczegółowo

Mikrosystemy ceramiczne

Mikrosystemy ceramiczne Mikrosystemy ceramiczne WYKŁAD 1 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni (M11 p. 144 ul. Długa) Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Egzamin: 28 styczeń 2019, poniedziałek Wykłady dostępne na

Bardziej szczegółowo

METODYKA PROJEKTOWANIA I TECHNIKA REALIZACJI. Wykład piąty Materiały elektroniczne płyty z obwodami drukowanymi PCB (Printed Circuit Board)

METODYKA PROJEKTOWANIA I TECHNIKA REALIZACJI. Wykład piąty Materiały elektroniczne płyty z obwodami drukowanymi PCB (Printed Circuit Board) METODYKA PROJEKTOWANIA I TECHNIKA REALIZACJI Wykład piąty Materiały elektroniczne płyty z obwodami drukowanymi PCB (Printed Circuit Board) Co to jest płyta z obwodem drukowanym? Obwód drukowany (ang. Printed

Bardziej szczegółowo

RoHS Laminaty Obwód drukowany PCB

RoHS Laminaty Obwód drukowany PCB Mini słownik RoHS Restriction of Hazardous Substances - unijna dyrektywa (2002/95/EC), z 27.01.2003. Nowy sprzęt elektroniczny wprowadzany do obiegu na terenie Unii Europejskiej począwszy od 1 lipca 2006

Bardziej szczegółowo

PL B1. POLITECHNIKA WROCŁAWSKA, Wrocław, PL BUP 05/18

PL B1. POLITECHNIKA WROCŁAWSKA, Wrocław, PL BUP 05/18 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 230200 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 422004 (22) Data zgłoszenia: 26.06.2017 (51) Int.Cl. H05B 6/64 (2006.01)

Bardziej szczegółowo

Zintegrowane czujniki piezoelektryczne wykonane z materiałów ceramicznych

Zintegrowane czujniki piezoelektryczne wykonane z materiałów ceramicznych Politechnika Wrocławska Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Autoreferat rozprawy doktorskiej Zintegrowane czujniki piezoelektryczne wykonane z materiałów ceramicznych Autor: Arkadiusz Dąbrowski

Bardziej szczegółowo

INSTYTUT TELE- I RADIOTECHNICZNY

INSTYTUT TELE- I RADIOTECHNICZNY INSTYTUT TELE- I RADIOTECHNICZNY Technologia doświadczalna wbudowywania elementów rezystywnych i pojemnościowych wewnątrz płytki drukowanej POIG.01.03.01-00-031/08 OPIS PRZEPROWADZONYCH PRAC B+R W PROJEKCIE

Bardziej szczegółowo

PL B BUP 23/17. KONSTANTY MARSZAŁEK, Kraków, PL ARTUR RYDOSZ, Olszanica, PL WUP 08/18. rzecz. pat.

PL B BUP 23/17. KONSTANTY MARSZAŁEK, Kraków, PL ARTUR RYDOSZ, Olszanica, PL WUP 08/18. rzecz. pat. RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 229704 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 417038 (51) Int.Cl. G01N 27/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 29.04.2016

Bardziej szczegółowo

Rozdział 2. Rezystancyjne czujniki gazów na podłożu ceramicznym

Rozdział 2. Rezystancyjne czujniki gazów na podłożu ceramicznym Rozdział 2. Rezystancyjne czujniki gazów na podłożu ceramicznym Przy projektowaniu sensorów istotny jest wybór materiału gazoczułego, podłoża, technika wytwarzania warstw (grubowarstwowa lub cienkowarstwowa),

Bardziej szczegółowo

ĆW. 11. TECHNOLOGIA I WŁAŚCIWOŚCI POLIMEROWYCH REZYSTORÓW

ĆW. 11. TECHNOLOGIA I WŁAŚCIWOŚCI POLIMEROWYCH REZYSTORÓW ĆW.. TECHNOLOGIA I WŁAŚCIWOŚCI POLIMEROWYCH REZYSTORÓW CEL ĆWICZENIA. Zapoznanie się z technologią polimerowych warstw grubych na przykładzie elementów rezystywnych. Określenie wpływu rodzaju i zawartości

Bardziej szczegółowo

Montaż w elektronice_cz.03_elementy elektroniczne w obudowach BGA i CSP.ppt. Plan wykładu

Montaż w elektronice_cz.03_elementy elektroniczne w obudowach BGA i CSP.ppt. Plan wykładu Plan wykładu Wprowadzenie Elementy elektroniczne w obudowach SO, CC i QFP Elementy elektroniczne w obudowach BGA i CSP Montaż drutowy i flip-chip struktur nie obudowanych Tworzywa sztuczne i lepkospręż

Bardziej szczegółowo

Wprowadzenie Elementy elektroniczne w obudowach SO, CC i QFP Elementy elektroniczne w obudowach BGA i CSP

Wprowadzenie Elementy elektroniczne w obudowach SO, CC i QFP Elementy elektroniczne w obudowach BGA i CSP Plan wykładu Wprowadzenie Elementy elektroniczne w obudowach SO, CC i QFP Elementy elektroniczne w obudowach BGA i CSP Montaż drutowy i flip-chip struktur nie obudowanych Tworzywa sztuczne i lepkospręż

Bardziej szczegółowo

WYKŁAD 13 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni

WYKŁAD 13 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Mikrosystemy ceramiczne WYKŁAD 13 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Wykład 13 Mikrosystemy ceramiczne Generatory zimnej plazmy - wprowadzenie - generatory z wyładowaniem barierowym - generatory

Bardziej szczegółowo

Warsztaty Technologia doświadczalna wbudowywania elementów rezystywnych i pojemnościowych wewnątrz płytki drukowanej POIG

Warsztaty Technologia doświadczalna wbudowywania elementów rezystywnych i pojemnościowych wewnątrz płytki drukowanej POIG INSTYTUT TELE- I RADIOTECHNICZNY Centrum Zaawansowanych Technologii Warsztaty Technologia doświadczalna wbudowywania elementów rezystywnych i pojemnościowych wewnątrz płytki drukowanej POIG.01.03.01-00-031/08

Bardziej szczegółowo

WYKŁAD 9 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni

WYKŁAD 9 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Mikrosystemy ceramiczne WYKŁAD 9 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni WYKŁAD 9 LTCC - czujniki, mikrosystemy Układy grzejne Układy chłodzące Ogniwa paliwowe WYKŁAD 9 LTCC - czujniki, mikrosystemy

Bardziej szczegółowo

WYBRANE ASPEKTY WYTWARZANIA ELEMENTÓW MIKROFALOWYCH W UKŁADACH CERAMICZNYCH LTCC

WYBRANE ASPEKTY WYTWARZANIA ELEMENTÓW MIKROFALOWYCH W UKŁADACH CERAMICZNYCH LTCC Maszyny Elektryczne - Zeszyty Problemowe Nr 2/2018 (118) 199 Laura Jasińska, Karol Malecha Politechnika Wrocławska, Wrocław WYBRANE ASPEKTY WYTWARZANIA ELEMENTÓW MIKROFALOWYCH W UKŁADACH CERAMICZNYCH LTCC

Bardziej szczegółowo

Układy scalone. wstęp układy hybrydowe

Układy scalone. wstęp układy hybrydowe Układy scalone wstęp układy hybrydowe Ryszard J. Barczyński, 2012 Politechnika Gdańska, Wydział FTiMS, Katedra Fizyki Ciała Stałego Materiały dydaktyczne do użytku wewnętrznego Publikacja współfinansowana

Bardziej szczegółowo

Rezystory bezindukcyjne RD3x50W

Rezystory bezindukcyjne RD3x50W Rezystory bezindukcyjne RD3x50W 1 1. ZASTOSOWANIE Przekładniki prądowe jak i napięciowe gwarantują poprawne warunki pracy przy obciążeniu w przedziale 25 100 % mocy znamionowej. W przypadku przekładników

Bardziej szczegółowo

Kondensatory. Konstrukcja i właściwości

Kondensatory. Konstrukcja i właściwości Kondensatory Konstrukcja i właściwości Zbigniew Usarek, 2018 Politechnika Gdańska, Wydział FTiMS, Katedra Fizyki Ciała Stałego Materiały dydaktyczne do użytku wewnętrznego Podstawowe techniczne parametry

Bardziej szczegółowo

Montaż w elektronice

Montaż w elektronice Montaż w elektronice Prof. dr hab. inż.. Kazimierz FRIEDEL Plan wykładu Wprowadzenie Elementy elektroniczne w obudowach SO, CC i QFP Elementy elektroniczne w obudowach BGA i CSP Montaż drutowy i flip-chip

Bardziej szczegółowo

Miernictwo I INF Wykład 13 dr Adam Polak

Miernictwo I INF Wykład 13 dr Adam Polak Miernictwo I INF Wykład 13 dr Adam Polak ~ 1 ~ I. Właściwości elementów biernych A. Charakterystyki elementów biernych 1. Rezystor idealny (brak przesunięcia fazowego między napięciem a prądem) brak części

Bardziej szczegółowo

PL B1. INSTYTUT TECHNOLOGII ELEKTRONOWEJ, Warszawa, PL BUP 26/06

PL B1. INSTYTUT TECHNOLOGII ELEKTRONOWEJ, Warszawa, PL BUP 26/06 PL 212025 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 212025 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 375716 (51) Int.Cl. H01L 27/00 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:

Bardziej szczegółowo

Karta danych produktu

Karta danych produktu KDP-1 Zmiany techniczne zastrzeżone v: 2.0.0 Data: 01.04.2014 Strona 1 z 10 KDP-2 Spis treści 1. Informacje ogólne 3 1.1. Cechy konstrukcyjne 4 1.2. Tabela wymiarów 4 2. Plandeka górna 5 2.1. Standard

Bardziej szczegółowo

ZASADY KONSTRUKCJI APARATURY ELEKTRONICZNEJ

ZASADY KONSTRUKCJI APARATURY ELEKTRONICZNEJ Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Politechniki Wrocławskiej ZASADY KONSTRUKCJI APARATURY ELEKTRONICZNEJ Dr hab. inż. JAN FELBA Profesor nadzwyczajny PWr 1 PROGRAM WYKŁADU Cele i bariery Ogólne

Bardziej szczegółowo

Ćwiczenie 6 BADANIE STABILNOŚCI TEMPERATUROWEJ KONDENSATORÓW I CEWEK. Laboratorium Inżynierii Materiałowej

Ćwiczenie 6 BADANIE STABILNOŚCI TEMPERATUROWEJ KONDENSATORÓW I CEWEK. Laboratorium Inżynierii Materiałowej Ćwiczenie 6 BADANIE STABILNOŚCI TEMPERATUROWEJ KONDENSATORÓW I CEWEK Laboratorium Inżynierii Materiałowej 1. CEL ĆWICZENIA Celem ćwiczenia jest zbadanie stabilności cieplnej indukcyjnych oraz doświadczalne

Bardziej szczegółowo

Montaż w elektronice_cz.17_wady lutowania, ocena jakości lutowania, zasady projektowania POD.ppt. Plan wykładu

Montaż w elektronice_cz.17_wady lutowania, ocena jakości lutowania, zasady projektowania POD.ppt. Plan wykładu Plan wykładu Wprowadzenie Elementy elektroniczne w obudowach SO, CC i QFP Elementy elektroniczne w obudowach BGA i CSP Montaż drutowy i flip-chip struktur nie obudowanych Tworzywa sztuczne i lepkospręż

Bardziej szczegółowo

Szkło kuloodporne: składa się z wielu warstw różnych materiałów, połączonych ze sobą w wysokiej temperaturze. Wzmacnianie szkła

Szkło kuloodporne: składa się z wielu warstw różnych materiałów, połączonych ze sobą w wysokiej temperaturze. Wzmacnianie szkła Wzmacnianie szkła Laminowanie szkła. Są dwa sposoby wytwarzania szkła laminowanego: 1. Jak na zdjęciach, czyli umieszczenie polimeru pomiędzy warstwy szkła i sprasowanie całego układu; polimer (PVB ma

Bardziej szczegółowo

Spektrometr XRF THICK 800A

Spektrometr XRF THICK 800A Spektrometr XRF THICK 800A DO POMIARU GRUBOŚCI POWŁOK GALWANIZNYCH THICK 800A spektrometr XRF do szybkich, nieniszczących pomiarów grubości powłok i ich składu. Zaprojektowany do pomiaru grubości warstw

Bardziej szczegółowo

Podstawy mechatroniki 5. Sensory II

Podstawy mechatroniki 5. Sensory II Podstawy mechatroniki 5. Sensory Politechnika Poznańska Katedra Podstaw Konstrukcji Maszyn Poznań, 20 grudnia 2015 Budowa w odróżnieniu od czujników indukcyjnych mogą, oprócz obiektów metalowych wykrywać,

Bardziej szczegółowo

THICK 800A DO POMIARU GRUBOŚCI POWŁOK. THICK 800A spektrometr XRF do szybkich, nieniszczących pomiarów grubości powłok i ich składu.

THICK 800A DO POMIARU GRUBOŚCI POWŁOK. THICK 800A spektrometr XRF do szybkich, nieniszczących pomiarów grubości powłok i ich składu. THICK 800A DO POMIARU GRUBOŚCI POWŁOK THICK 800A spektrometr XRF do szybkich, nieniszczących pomiarów grubości powłok i ich składu. Zoptymalizowany do pomiaru grubości warstw Detektor Si-PIN o rozdzielczości

Bardziej szczegółowo

Wysokotemperaturowe właściwości elementów, struktur i układów LTCC

Wysokotemperaturowe właściwości elementów, struktur i układów LTCC Politechnika Wrocławska Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Rozprawa doktorska Wysokotemperaturowe właściwości elementów, struktur i układów LTCC Damian Nowak Promotor: prof. dr hab. inż. Andrzej

Bardziej szczegółowo

Instytut Technologii Elektronowej Oddział w Krakowie

Instytut Technologii Elektronowej Oddział w Krakowie Instytut Technologii Elektronowej Oddział w Krakowie Bezprzewodowe sieci sensorowe dla diagnostyki biomedycznej oraz zrównoważonego i czystego środowiska Autonomiczne instalacje pozyskującej energię ze

Bardziej szczegółowo

Instrukcja "Jak stosować preparat CerMark?"

Instrukcja Jak stosować preparat CerMark? Instrukcja "Jak stosować preparat CerMark?" Co to jest CerMark? Produkt, który umożliwia znakowanie metali w technologii laserowej CO 2. Znakowanie uzyskane w technologii CerMark charakteryzuje idealna

Bardziej szczegółowo

(62) Numer zgłoszenia, z którego nastąpiło wydzielenie:

(62) Numer zgłoszenia, z którego nastąpiło wydzielenie: PL 223874 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 223874 (21) Numer zgłoszenia: 413547 (22) Data zgłoszenia: 10.05.2013 (62) Numer zgłoszenia,

Bardziej szczegółowo

PL B1. AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA W KRAKOWIE, Kraków, PL BUP 20/14

PL B1. AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA W KRAKOWIE, Kraków, PL BUP 20/14 PL 221805 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 221805 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 403264 (22) Data zgłoszenia: 22.03.2013 (51) Int.Cl.

Bardziej szczegółowo

Technologia ogniw paliwowych w IEn

Technologia ogniw paliwowych w IEn Technologia ogniw paliwowych w IEn Mariusz Krauz 1 Wstęp Opracowanie technologii ES-SOFC 3 Opracowanie technologii AS-SOFC 4 Podsumowanie i wnioski 1 Wstęp Rodzaje ogniw paliwowych Temperatura pracy Temperatura

Bardziej szczegółowo

GRUPA A Zagadnienia na egzamin dyplomowy 2015 Mechatronika KRK W10 Kierunkowe

GRUPA A Zagadnienia na egzamin dyplomowy 2015 Mechatronika KRK W10 Kierunkowe GRUPA A Zagadnienia na egzamin dyplomowy 2015 Mechatronika KRK W10 Kierunkowe 1. Omówić zasady tworzenia i zastosowanie rzutów (widoki, przekroje) w rysunku technicznym 2. Istota i funkcje zarządzania

Bardziej szczegółowo

KWDI. Wykład 6/2016. Literatura do zagadnień montażu: J. Felba, Montaż w elektronice, Wrocław, O/W PWr, 2010

KWDI. Wykład 6/2016. Literatura do zagadnień montażu: J. Felba, Montaż w elektronice, Wrocław, O/W PWr, 2010 KWDI Wykład 6/2016 Literatura do zagadnień montażu: J. Felba, Montaż w elektronice, Wrocław, O/W PWr, 2010 Ścieżki Ścieżki można podzielić na -Sygnałowe mogą być wąskie, nawet kilka mils (np. 8 mils),

Bardziej szczegółowo

NAGRZEWANIE ELEKTRODOWE

NAGRZEWANIE ELEKTRODOWE INSTYTUT INFORMATYKI STOSOWANEJ POLITECHNIKI ŁÓDZKIEJ Ćwiczenia Nr 7 NAGRZEWANIE ELEKTRODOWE 1.WPROWADZENIE. Nagrzewanie elektrodowe jest to nagrzewanie elektryczne oparte na wydzielaniu, ciepła przy przepływie

Bardziej szczegółowo

WPROWADZENIE. TWR = dr / (R * dt)

WPROWADZENIE. TWR = dr / (R * dt) WPROWADZENIE Temperaturowy współczynnik rezystancji TCR (TWR) określa zmiany rezystancji pod wpływem temperatury. Im mniejsza wartość TCR tym bardziej stabilny rezystor. Temperaturowy współczynnik rezystancji

Bardziej szczegółowo

Karta danych produktu

Karta danych produktu KDP-1 Zmiany techniczne zastrzeżone v: 2.0.0 Data: 01.04.2014 Strona 1 z 12 KDP-2 Spis treści 1. Informacje ogólne 3 1.1. Cechy konstrukcyjne 4 1.2. Tabela wymiarów 4 2. Plandeka górna 5 2.1. Standard

Bardziej szczegółowo

TECHNOLOGIA SEI LASER DODA WIELKĄ WARTOŚĆ DO TWOJEJ FOLII TERMOPLASTYCZNEJ

TECHNOLOGIA SEI LASER DODA WIELKĄ WARTOŚĆ DO TWOJEJ FOLII TERMOPLASTYCZNEJ TECHNOLOGIA SEI LASER DODA WIELKĄ WARTOŚĆ DO TWOJEJ FOLII TERMOPLASTYCZNEJ Sei Laser S.p.A. Włoska technologia laserowa na świecie. Badania, Projektowanie, Produkcja i marketing przemysłowych systemów

Bardziej szczegółowo

Innowacyjne produkty Innowacyjne technologie

Innowacyjne produkty Innowacyjne technologie Innowacyjne produkty Innowacyjne technologie Paweł Puchalski e-mail: ppuchalski@semicon.com.pl SEMICON Sp. z o.o. Historia: 1987 założenie firmy SEMICON Sp. z o.o. 1993 pierwsza umowa dystrybucyjna z firmą:

Bardziej szczegółowo

Technologia elementów optycznych

Technologia elementów optycznych Technologia elementów optycznych dr inż. Michał Józwik pokój 507a jozwik@mchtr.pw.edu.pl Część 1 Treść wykładu Specyfika wymagań i technologii elementów optycznych. Ogólna struktura procesów technologicznych.

Bardziej szczegółowo

X L = jωl. Impedancja Z cewki przy danej częstotliwości jest wartością zespoloną

X L = jωl. Impedancja Z cewki przy danej częstotliwości jest wartością zespoloną Cewki Wstęp. Urządzenie elektryczne charakteryzujące się indukcyjnością własną i służące do uzyskiwania silnych pól magnetycznych. Szybkość zmian prądu płynącego przez cewkę indukcyjną zależy od panującego

Bardziej szczegółowo

PL B1. POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL

PL B1. POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL PL 226367 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 226367 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 413877 (51) Int.Cl. A61L 2/14 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej

Bardziej szczegółowo

Opis efektów kształcenia dla modułu zajęć

Opis efektów kształcenia dla modułu zajęć Nazwa modułu: Wzornictwo Ceramiki i Szkła Rok akademicki: 2013/2014 Kod: CCE-2-201-WC-s Punkty ECTS: 9 Wydział: Inżynierii Materiałowej i Ceramiki Kierunek: Ceramika Specjalność: Wzornictwo ceramiki i

Bardziej szczegółowo

Karta danych produktu

Karta danych produktu KDP-1 Zmiany techniczne zastrzeżone v: 2.0.0 Data: 01.04.2014 Strona 1 z 13 KDP-2 Spis treści 1. Informacje ogólne 3 1.1. Cechy konstrukcyjne 4 1.2. Tabela wymiarów 5 2. Plandeka górna 6 2.1. Standard

Bardziej szczegółowo

PRZETWORNIKI POMIAROWE

PRZETWORNIKI POMIAROWE PRZETWORNIKI POMIAROWE PRZETWORNIK POMIAROWY element systemu pomiarowego, który dokonuje fizycznego przetworzenia z określoną dokładnością i według określonego prawa mierzonej wielkości na inną wielkość

Bardziej szczegółowo

WAT - WYDZIAŁ ELEKTRONIKI INSTYTUT SYSTEMÓW ELEKTRONICZNYCH ZAKŁAD EKSPLOATACJI SYSTEMÓW ELEKTRONICZNYCH

WAT - WYDZIAŁ ELEKTRONIKI INSTYTUT SYSTEMÓW ELEKTRONICZNYCH ZAKŁAD EKSPLOATACJI SYSTEMÓW ELEKTRONICZNYCH WAT - WYDZIAŁ ELEKTRONIKI INSTYTUT SYSTEMÓW ELEKTRONICZNYCH ZAKŁAD EKSPLOATACJI SYSTEMÓW ELEKTRONICZNYCH Przedmiot: Konstrukcja Urządzeń Elektronicznych Ćwiczenie nr 2 INSTRUKCJA LABORATORYJNA Temat: PROJEKTOWANIE

Bardziej szczegółowo

Pomiar indukcyjności.

Pomiar indukcyjności. Pomiar indukcyjności.. Cel ćwiczenia: Celem ćwiczenia jest zapoznanie się z metodami pomiaru indukcyjności, ich wadami i zaletami, wynikającymi z nich błędami pomiarowymi, oraz umiejętnością ich właściwego

Bardziej szczegółowo

CERAMIKI PRZEZROCZYSTE

CERAMIKI PRZEZROCZYSTE prof. ICiMB dr hab. inż. Adam Witek CERAMIKI PRZEZROCZYSTE Projekt współfinansowany z Europejskiego Funduszu Społecznego i Budżetu Państwa PO CO NAM PRZEZROCZYSTE CERAMIKI? Pręty laserowe dla laserów ciała

Bardziej szczegółowo

Wytwarzanie niskowymiarowych struktur półprzewodnikowych

Wytwarzanie niskowymiarowych struktur półprzewodnikowych Większość struktur niskowymiarowych wytwarzanych jest za pomocą technik epitaksjalnych. Najczęściej wykorzystywane metody wzrostu: - epitaksja z wiązki molekularnej (MBE Molecular Beam Epitaxy) - epitaksja

Bardziej szczegółowo

Kryształy, półprzewodniki, nanotechnologie. Dr inż. KAROL STRZAŁKOWSKI Instytut Fizyki UMK w Toruniu skaroll@fizyka.umk.pl

Kryształy, półprzewodniki, nanotechnologie. Dr inż. KAROL STRZAŁKOWSKI Instytut Fizyki UMK w Toruniu skaroll@fizyka.umk.pl Kryształy, półprzewodniki, nanotechnologie. Dr inż. KAROL STRZAŁKOWSKI Instytut Fizyki UMK w Toruniu skaroll@fizyka.umk.pl Plan ogólny Kryształy, półprzewodniki, nanotechnologie, czyli czym będziemy się

Bardziej szczegółowo

Układy scalone. wstęp

Układy scalone. wstęp Układy scalone wstęp Ryszard J. Barczyński, 2016 Politechnika Gdańska, Wydział FTiMS, Katedra Fizyki Ciała Stałego Materiały dydaktyczne do użytku wewnętrznego Układy scalone Układ scalony (ang. intergrated

Bardziej szczegółowo

Rozprawa doktorska. Politechnika Wrocławska Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

Rozprawa doktorska. Politechnika Wrocławska Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Politechnika Wrocławska Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Rozprawa doktorska Wytwarzanie i właściwości strukturalne, elektryczne oraz stabilność miniaturowych elementów biernych na potrzeby

Bardziej szczegółowo

SPeDO. SPeDO. folie SPeDO wyróŝnij swoją elektronikę. 20 lat doświadczenia w personalizowaniu rozwiązań dla elektroniki. SPeDO

SPeDO. SPeDO. folie SPeDO wyróŝnij swoją elektronikę. 20 lat doświadczenia w personalizowaniu rozwiązań dla elektroniki. SPeDO folie wyróŝnij swoją elektronikę folie technologia oparta na: - cyfrowym druku offsetowym HP Indigo - wycinaniu laserowym umoŝliwia wykonanie najwyŝszej jakości folii opisowych w oparciu o oryginalne pliki

Bardziej szczegółowo

GŁOWICE WYTŁACZARSKIE DO PROFILI MGR INŻ. SZYMON ZIĘBA

GŁOWICE WYTŁACZARSKIE DO PROFILI MGR INŻ. SZYMON ZIĘBA GŁOWICE WYTŁACZARSKIE DO PROFILI MGR INŻ. SZYMON ZIĘBA KONSTRUKCJA GŁOWIC DO PROFILI Konstrukcja profili: profile rurowe stała grubość ścianki i stały promień, profile komorowe, profile komorowe z otwartymi

Bardziej szczegółowo

OPORNIKI POŁĄCZONE SZEREGOWO: W połączeniu szeregowym rezystancja zastępcza jest sumą poszczególnych wartości:

OPORNIKI POŁĄCZONE SZEREGOWO: W połączeniu szeregowym rezystancja zastępcza jest sumą poszczególnych wartości: REZYSTOR Opornik (rezystor) najprostszy, rezystancyjny element bierny obwodu elektrycznego. Jest elementem liniowym: spadek napięcia jest wprost proporcjonalny do prądu płynącego przez opornik. Przy przepływie

Bardziej szczegółowo

Elektrolity polimerowe. 1. Modele transportu jonów 2. Rodzaje elektrolitów polimerowych 3. Zastosowania elektrolitów polimerowych

Elektrolity polimerowe. 1. Modele transportu jonów 2. Rodzaje elektrolitów polimerowych 3. Zastosowania elektrolitów polimerowych Elektrolity polimerowe 1. Modele transportu jonów 2. Rodzaje elektrolitów polimerowych 3. Zastosowania elektrolitów polimerowych Zalety - Giętkie, otrzymywane w postaci folii - Lekkie (wysoka gęstość energii/kg)

Bardziej szczegółowo

Techniki wytwarzania - odlewnictwo

Techniki wytwarzania - odlewnictwo Techniki wytwarzania - odlewnictwo Główne elementy układu wlewowego Układy wlewowe Struga metalu Przekrój minimalny Produkcja odlewów na świecie Odbieranie ciepła od odlewów przez formę Krystalizacja Schematyczne

Bardziej szczegółowo

Przyrządy półprzewodnikowe część 4

Przyrządy półprzewodnikowe część 4 Przyrządy półprzewodnikowe część 4 Prof. Zbigniew Lisik Katedra Przyrządów Półprzewodnikowych i Optoelektronicznych pokój: 110 e-mail: zbigniew.lisik@p.lodz.pl wykład 30 godz. laboratorium 30 godz WEEIiA

Bardziej szczegółowo

Zagadnienia na egzamin dyplomowy do kursów realizowanych na kierunku MTR, studia I stopnia przez W-5.

Zagadnienia na egzamin dyplomowy do kursów realizowanych na kierunku MTR, studia I stopnia przez W-5. Wydział Elektryczny MTR, studia I stopnia przez W-5. 1. Właściwości metrologiczne analogowych i cyfrowych przyrządów pomiarowych. 2. Pomiary napięcia i natężenia prądu stałego i zmiennego. 3. Pomiary rezystancji

Bardziej szczegółowo

MontaŜ w elektronice Zagadnienia

MontaŜ w elektronice Zagadnienia MontaŜ w elektronice Zagadnienia 1. POZIOMY I TECHNOLOGIE MONTAśU; Jaki jest cel montaŝu elektronicznego 2. POZIOMY I TECHNOLOGIE MONTAśU; Jakie zadani musi spełniać montaŝ elektroniczny 3. POZIOMY I TECHNOLOGIE

Bardziej szczegółowo

MIKRO- I NANO-SYSTEMY W CHEMII I DIAGNOSTYCE BIOMEDYCZNEJ MNS-DIAG

MIKRO- I NANO-SYSTEMY W CHEMII I DIAGNOSTYCE BIOMEDYCZNEJ MNS-DIAG MIKRO- I NANO-SYSTEMY W CHEMII I DIAGNOSTYCE BIOMEDYCZNEJ MNS-DIAG PROJEKT KLUCZOWY WSPÓŁFINANSOWANY PRZEZ UNIĘ EUROPEJSKĄ Z EUROPEJSKIEGO FUNDUSZU ROZWOJU REGIONALNEGO; UMOWA Nr. POIG.0.0.0-00-04/08-00

Bardziej szczegółowo

Ogrzewanie i chłodzenie ścienne KAN-therm

Ogrzewanie i chłodzenie ścienne KAN-therm Ogrzewanie i chłodzenie ścienne KAN-therm Kompletne, wyposażone w nowoczesną automatykę ogrzewanie i chłodzenie ścienne KAN-therm spełni oczekiwania wszystkich użytkowników, zapewniając im odpowiedni komfort

Bardziej szczegółowo

Leszek Golonka ZASTOSOWANIE CERAMIKI LTCC W MIKROELEKTRONICE

Leszek Golonka ZASTOSOWANIE CERAMIKI LTCC W MIKROELEKTRONICE Leszek Golonka ZASTOSOWANIE CERAMIKI LTCC W MIKROELEKTRONICE Wroc³aw 2001 SPIS TREŒCI Akronimy.............................................................. 4 1. WSTÊP..............................................................

Bardziej szczegółowo

ĆWICZENIE nr 5. Pomiary rezystancji, pojemności, indukcyjności, impedancji

ĆWICZENIE nr 5. Pomiary rezystancji, pojemności, indukcyjności, impedancji Politechnika Łódzka Katedra Przyrządów Półprzewodnikowych i Optoelektronicznych WWW.DSOD.PL LABORATORIUM METROLOGII ELEKTRONICZNEJ ĆWICZENIE nr 5 Pomiary rezystancji, pojemności, indukcyjności, impedancji

Bardziej szczegółowo

BADANIE ELEMENTÓW RLC

BADANIE ELEMENTÓW RLC KATEDRA ELEKTRONIKI AGH L A B O R A T O R I U M ELEMENTY ELEKTRONICZNE BADANIE ELEMENTÓW RLC REV. 1.0 1. CEL ĆWICZENIA - zapoznanie się z systemem laboratoryjnym NI ELVIS II, - zapoznanie się z podstawowymi

Bardziej szczegółowo

LABORATORIUM INŻYNIERII MATERIAŁOWEJ

LABORATORIUM INŻYNIERII MATERIAŁOWEJ Politechnika Lubelska Wydział Elektrotechniki i Informatyki Katedra Urządzeń Elektrycznych i TWN 20-618 Lublin, ul. Nadbystrzycka 38A www.kueitwn.pollub.pl LABORATORIUM INŻYNIERII MATERIAŁOWEJ Protokół

Bardziej szczegółowo

Materiałoznawstwo optyczne CERAMIKA OPTYCZNA

Materiałoznawstwo optyczne CERAMIKA OPTYCZNA Materiałoznawstwo optyczne CERAMIKA OPTYCZNA Szkło optyczne i fotoniczne, A. Szwedowski, R. Romaniuk, WNT, 2009 POLIKRYSZTAŁY - ciała stałe o drobnoziarnistej strukturze, które są złożone z wielkiej liczby

Bardziej szczegółowo

POMIARY WIELKOŚCI NIEELEKTRYCZNYCH

POMIARY WIELKOŚCI NIEELEKTRYCZNYCH POMIARY WIELKOŚCI NIEELEKTRYCZNYCH Dr inż. Eligiusz PAWŁOWSKI Politechnika Lubelska Wydział Elektrotechniki i Informatyki Prezentacja do wykładu dla EMNS Semestr zimowy studia niestacjonarne Wykład nr

Bardziej szczegółowo

(11) PL B1 (12) OPIS PATENTOWY (19)PL (13)B1. Fig.3 B60R 11/02 H01Q 1/32. (54) Zespół sprzęgający anteny samochodowej

(11) PL B1 (12) OPIS PATENTOWY (19)PL (13)B1. Fig.3 B60R 11/02 H01Q 1/32. (54) Zespół sprzęgający anteny samochodowej RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19)PL (11)166714 (13)B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 290469 (22) Data zgłoszenia: 29.05.1991 (51) IntCl6: B60R 11/02 H01Q

Bardziej szczegółowo

Dielektryki i Magnetyki

Dielektryki i Magnetyki Dielektryki i Magnetyki Zbiór zdań rachunkowych dr inż. Tomasz Piasecki tomasz.piasecki@pwr.edu.pl Wydanie 2 - poprawione ponownie 1 marca 2018 Spis treści 1 Zadania 3 1 Elektrotechnika....................................

Bardziej szczegółowo

PL B1. POLITECHNIKA ŚWIĘTOKRZYSKA, Kielce, PL BUP 17/16. MAGDALENA PIASECKA, Kielce, PL WUP 04/17

PL B1. POLITECHNIKA ŚWIĘTOKRZYSKA, Kielce, PL BUP 17/16. MAGDALENA PIASECKA, Kielce, PL WUP 04/17 PL 225512 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 225512 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 415204 (51) Int.Cl. C23C 10/28 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia:

Bardziej szczegółowo

Technologia sprzętu optoelektronicznego. dr inż. Michał Józwik pokój 507a

Technologia sprzętu optoelektronicznego. dr inż. Michał Józwik pokój 507a Technologia sprzętu optoelektronicznego dr inż. Michał Józwik pokój 507a jozwik@mchtr.pw.edu.pl Treść wykładu Specyfika wymagań i technologii elementów optycznych. Ogólna struktura procesów technologicznych.

Bardziej szczegółowo

PL B1. POLITECHNIKA WARSZAWSKA, Warszawa, PL BUP 06/14

PL B1. POLITECHNIKA WARSZAWSKA, Warszawa, PL BUP 06/14 PL 221721 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 221721 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 400657 (51) Int.Cl. G01N 30/96 (2006.01) G01N 27/07 (2006.01) Urząd Patentowy Rzeczypospolitej

Bardziej szczegółowo

WYKŁAD 8 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni

WYKŁAD 8 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Mikrosystemy ceramiczne WYKŁAD 8 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Czujnik pomiarowy definicje Czujniki temperatury Termopary RTD (Resistive Temperature Sensor) Termistory Przykłady zastosowań

Bardziej szczegółowo

Badania właściwości zmęczeniowych bimetalu stal S355J2- tytan Grade 1

Badania właściwości zmęczeniowych bimetalu stal S355J2- tytan Grade 1 Badania właściwości zmęczeniowych bimetalu stal S355J2- tytan Grade 1 ALEKSANDER KAROLCZUK a) MATEUSZ KOWALSKI a) a) Wydział Mechaniczny Politechniki Opolskiej, Opole 1 I. Wprowadzenie 1. Technologia zgrzewania

Bardziej szczegółowo

PRACA DYPLOMOWA W BUDOWIE WKŁADEK FORMUJĄCYCH. Tomasz Kamiński. Temat: ŻYWICE EPOKSYDOWE. dr inż. Leszek Nakonieczny

PRACA DYPLOMOWA W BUDOWIE WKŁADEK FORMUJĄCYCH. Tomasz Kamiński. Temat: ŻYWICE EPOKSYDOWE. dr inż. Leszek Nakonieczny Politechnika Wrocławska - Wydział Mechaniczny Instytut Technologii Maszyn i Automatyzacji PRACA DYPLOMOWA Tomasz Kamiński Temat: ŻYWICE EPOKSYDOWE W BUDOWIE WKŁADEK FORMUJĄCYCH Promotor: dr inż. Leszek

Bardziej szczegółowo

MODUŁ 3. WYMAGANIA EGZAMINACYJNE Z PRZYKŁADAMI ZADAŃ

MODUŁ 3. WYMAGANIA EGZAMINACYJNE Z PRZYKŁADAMI ZADAŃ MODUŁ 3. WYMAGANIA EGZAMINACYJNE Z PRZYKŁADAMI ZADAŃ Kwalifikacja K3 A.51. Organizacja i prowadzenie procesów wytwarzania wyrobów ceramicznych 1. Przykłady zadań do części pisemnej egzaminu dla wybranych

Bardziej szczegółowo

PL B1. RESZKE EDWARD, Wrocław, PL BUP 02/15. KRZYSZTOF JANKOWSKI, Warszawa, PL EDWARD RESZKE, Wrocław, PL

PL B1. RESZKE EDWARD, Wrocław, PL BUP 02/15. KRZYSZTOF JANKOWSKI, Warszawa, PL EDWARD RESZKE, Wrocław, PL PL 223646 B1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 223646 (13) B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: 404725 (22) Data zgłoszenia: 16.07.2013 (51) Int.Cl.

Bardziej szczegółowo

POMIARY WIELKOŚCI NIEELEKTRYCZNYCH

POMIARY WIELKOŚCI NIEELEKTRYCZNYCH POMIARY WIELKOŚCI NIEELEKTRYCZNYCH Dr inż. Eligiusz PAWŁOWSKI Politechnika Lubelska Wydział Elektrotechniki i Informatyki Prezentacja do wykładu dla EMST Semestr letni Wykład nr 3 Prawo autorskie Niniejsze

Bardziej szczegółowo

Rysunek Techniczny. Podstawowe definicje

Rysunek Techniczny. Podstawowe definicje Rysunek techniczny jest to informacja techniczna podana na nośniku informacji, przedstawiona graficznie zgodnie z przyjętymi zasadami i zwykle w podziałce. Rysunek Techniczny Podstawowe definicje Szkic

Bardziej szczegółowo

FRIATEC AG. Ceramics Division FRIDURIT FRIALIT-DEGUSSIT

FRIATEC AG. Ceramics Division FRIDURIT FRIALIT-DEGUSSIT FRIATEC AG Ceramics Division FRIDURIT FRIALIT-DEGUSSIT FRIALIT-DEGUSSIT Ceramika tlenkowa Budowa dla klienta konkretnego rozwiązania osiąga się poprzez zespół doświadczonych inżynierów i techników w Zakładzie

Bardziej szczegółowo

Peter Schramm pracuje w dziale technicznym FRIATEC AG, oddział ceramiki technicznej.

Peter Schramm pracuje w dziale technicznym FRIATEC AG, oddział ceramiki technicznej. FRIALIT -DEGUSSIT ZAAWANSOWANA CERAMIKA TECHNICZNA NIEWYCZERPANY POTENCJAŁ Peter Schramm pracuje w dziale technicznym FRIATEC AG, oddział ceramiki technicznej. Jak produkuje się zaawansowaną ceramikę techniczną?

Bardziej szczegółowo

29 PRĄD PRZEMIENNY. CZĘŚĆ 2

29 PRĄD PRZEMIENNY. CZĘŚĆ 2 Włodzimierz Wolczyński 29 PRĄD PRZEMIENNY. CZĘŚĆ 2 Opory bierne Indukcyjny L - indukcyjność = Szeregowy obwód RLC Pojemnościowy C pojemność = = ( + ) = = = = Z X L Impedancja (zawada) = + ( ) φ R X C =

Bardziej szczegółowo

WYKŁAD 11 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni

WYKŁAD 11 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Mikrosystemy ceramiczne WYKŁAD 11 Dr hab. inż. Karol Malecha, prof. Uczelni Mikrofluidyka - idea 1971 obecnie P. Garstecki, LoC Summer School, 2010 Zalety układów mikroprzepływowych szybkie, łatwe w obsłudze,

Bardziej szczegółowo

(13) B1 PL B1. fig.3. (73) Uprawniony z patentu: Przedsiębiorstwo Automatyki Przemysłowej "M ER A -P N EFA L, Warszawa, PL

(13) B1 PL B1. fig.3. (73) Uprawniony z patentu: Przedsiębiorstwo Automatyki Przemysłowej M ER A -P N EFA L, Warszawa, PL R Z E C Z PO SPO L IT A (12) OPIS PATENTOWY (19) P L(1)156800 PO LSK A (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 274526 U rząd P atentow y (22) Data zgłoszenia: 05.09.1988 R zeczypospolitej Polskiej (51) IntCl5:

Bardziej szczegółowo

WZORU UŻYTKOWEGO PL Y1 G01N 27/07 ( ) G01R 27/22 ( ) Instytut Metali Nieżelaznych, Gliwice, PL

WZORU UŻYTKOWEGO PL Y1 G01N 27/07 ( ) G01R 27/22 ( ) Instytut Metali Nieżelaznych, Gliwice, PL RZECZPOSPOLITA POLSKA Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (12) OPIS OCHRONNY WZORU UŻYTKOWEGO (21) Numer zgłoszenia: 115588 (22) Data zgłoszenia: 25.07.2005 (19) PL (11) 63876 (13) Y1 (51) Int.Cl.

Bardziej szczegółowo

Właściwości tranzystora MOSFET jako przyrządu (klucza) mocy

Właściwości tranzystora MOSFET jako przyrządu (klucza) mocy Właściwości tranzystora MOSFET jako przyrządu (klucza) mocy Zalety sterowanie polowe niska moc sterowania wyłącznie nośniki większościowe krótki czas przełączania wysoka maksymalna częstotliwość pracy

Bardziej szczegółowo