DECYZJA. orzeka się: Mazurskiego z dnia r., znak: OŚ-PŚ oraz z dnia r.,

Transkrypt

1 MARSZAŁEK WOJEWÓDZTWA WARMIŃSKO-MAZURSKIEGO Olsztyn, dnia r. DECYZJA Na podstawie art. 215 i art. 378 ust. 2a ustawy z dnia 27 kwietnia 2001 r. Prawo ochrony środowiska (Dz. U. z 2013 r., poz ze zm.) oraz art. 104 i art. 155 ustawy z dnia 14 czerwca 1960 roku - Kodeks postępowania administracyjnego (Dz. U. z 2013 r., poz. 267 ze zm.), po rozpatrzeniu wniosku przedłożonego przez Pana Marka Benedykcińskiego, działającego w imieniu Galwanotechniki Mrągowo Sp. z o.o., ul. Kolejowa 6, Mrągowo, NIP , REGON , o zmianę decyzji Marszałka Województwa Warmińsko-Mazurskiego znak: OŚ.PŚ /09/10 z dnia r., udzielającej Galwanotechnice Mrągowo Sp. z o.o., ul. Kolejowa 6, Mrągowo pozwolenia zintegrowanego na prowadzenie instalacji do powierzchniowej obróbki metali z zastosowaniem procesów chemicznych i elektrolitycznych, gdzie całkowita objętość wanien procesowych przekracza 30 m 3, zlokalizowanej w Mrągowie, ul. Kolejowa 6, Mrągowo, zmienionej decyzjami Marszałka Województwa Warmińsko- Mazurskiego z dnia r., znak: OŚ-PŚ oraz z dnia r., znak: OŚ-PŚ orzeka się: zmienić, za zgodą Strony, decyzję Marszałka Województwa Warmińsko-Mazurskiego znak: OŚ.PŚ /09/10 z dnia r., udzielającą Galwanotechnice Mrągowo Sp. z o.o., ul. Kolejowa 6, Mrągowo pozwolenia zintegrowanego na prowadzenie instalacji do powierzchniowej obróbki metali z zastosowaniem procesów chemicznych i elektrolitycznych, gdzie całkowita objętość wanien procesowych przekracza 30 m 3, zlokalizowanej w Mrągowie, ul. Kolejowa 6, Mrągowo, zmienionej decyzjami Marszałka Województwa Warmińsko- Mazurskiego z dnia r., znak: OŚ-PŚ oraz z dnia r., znak: OŚ-PŚ w następujący sposób: 1. Rozdział I decyzji otrzymuje brzmienie: 1. Charakterystyka instalacji, zastosowanych urządzeń i technologii. Przedmiotowa instalacja zlokalizowana jest w Mrągowie, przy ul. Kolejowej 6, Mrągowo. Zakład położony jest na działkach 19/12 oraz 19/7 dzierżawionych przez Galwanotechnikę Mrągowo Sp. z o.o. od HLS Stalbud Konstrukcje i Urządzenia Galwaniczne Sp. z o.o. Galwanotechnika Mrągowo Sp. z o.o. prowadzi działalność w zakresie obróbki chemicznej i elektrolitycznej metali w procesie cynkowania, niklowania, fosforanowania, chromowania dekoracyjnego i srebrzenia. Całkowita objętość wanien procesowych wynosi ok. 332,4 m 3. Obróbka mechaniczna obejmuje kształtowanie detali (pierścieni, tulei, walców) ze stalowej taśmy zimnowalcowej i odbywa się na szeregu pras (4 prasy, w tym dwie automatyczne i dwie ręczne). Pozostałe urządzenia wykorzystywane na etapie obróbki mechanicznej to urządzenie do obróbki wibrościernej (służące do polerowania elementów) oraz 4 szt. tzw. fazownic, służące do wykonywania fazki na Strona 1 z 41

2 wykonywanych elementach. Technologia nakładania powłok galwanicznych obejmuje: przygotowanie powierzchni podłoża, elektrolityczne i chemiczne nakładanie powłoki, obróbkę wykończeniową. Powłoki galwaniczne wymagają bardzo starannego przygotowania powierzchni metalu do elektrolizy, tj. oczyszczania mechanicznego, odtłuszczania, trawienia oraz dotrawiania, przeprowadzonego bezpośrednio przed nałożeniem powłoki w celu usunięcia warstwy tlenków. Pomiędzy kolejnymi operacjami przygotowania przedmiotu należy stosować płukanie, aby uniknąć przenoszenia składników poszczególnych kąpieli. Przedmioty do pokrywania galwanicznego są całkowicie wykończone pod względem obróbki mechanicznej, a także posiadają odpowiednie wymiary i wymagany stopień gładkości powierzchni oraz krawędzi. Obróbka elektrochemiczna obejmuje procesy cynkowania, niklowania, fosforowania i chromowania dekoracyjnego. CYNKOWANIE ELEKTROLITYCZNE Cynkowanie elektrolityczne stosowane w przedmiotowej instalacji polega na nakładaniu warstwy cynku na powierzchnię, wyrobu stalowego i żeliwnego przy wykorzystaniu procesu elektrolizy, czyli rozpadu roztworu soli metali na jony pod wpływem przepływu prądu stałego. Cynk, jako metal bardziej elektroujemny niż żelazo, tworzy na stali i żeliwie powłoki anodowe. Do cynkowania stosuje się kilka typów kąpieli galwanicznych, zależnie od wymaganych własności i zastosowania powłoki. Są to kąpiele kwaśne, słabokwaśne oraz alkaliczne cyjankowe i bezcyjankowe. Cynkowanie nowej generacji jest oparte na elektrolitach alkalicznych bezcyjankowych. Proces cynkowania zachodzący w opisywanej instalacji można podzielić na następujące etapy: Odtłuszczanie wstępne Odtłuszczanie wykończeniowe Trawienie kwaśne Odtłuszczanie elektrochemiczne Dotrawianie Cynkowanie elektrolityczne Rozjaśnianie Pasywacja niebieska lub żółta Lakierowanie Suszenie Odtłuszczanie wstępne Odtłuszczanie wstępne prowadzone jest w jednej wannie w wodnym roztworze preparatu odtłuszczającego Enprep 238NW w temperaturze 60 C. Czas trwania procesu wynosi 15 minut. Z boku wanny zlokalizowane są kanały wyciągowe. Odtłuszczanie wykończeniowe Strona 2 z 41

3 Proces prowadzony jest w roztworze preparatu Enprep 238NW w temperaturze 60 C. Trwa 10 minut. Po zużyciu kąpieli roztwór jest przepompowywany do wanny odtłuszczania wstępnego. Z boku wanny zlokalizowane są kanały wyciągowe. Odbywa się w czterech wannach (w tym dwie ustawione kaskadowo) wypełnionych wodą. Operacja płukania po obróbce wstępnej jest bardzo istotna. Niewłaściwe lub pominięte płukanie często prowadzi do przenoszenia chemikaliów do dalszego etapu technologicznego. Trawienie kwaśne Proces trawienia ma na celu usunięcie rdzy i zgorzeliny, które powstały na powierzchni materiałów hutniczych podczas walcowania, wyżarzania, składowania. Elementy stalowe przed cynkowaniem muszą być oczyszczone z tlenków żelaza do czystej powierzchni. Proces trawienia żelaza i stali jest procesem elektrochemicznym. Odbywa się w roztworze kwasu solnego (30 % kwas solny i inhibitory - roztwór Actane KSP), w temperaturze 30 C przez około 15 minut. Roztwór kwasu jest wymieniany raz na pół roku. Trawienie kwaśne odbywa się w jednej wannie, która jest wentylowana czterema bocznymi wyciągami. Odbywa się w jednej wannie. Odtłuszczanie elektrochemiczne Proces prowadzony jest w środowisku alkalicznym w wodnym roztworze wodorotlenku sodu i roztworze Enprep OC. Do roztworu podawany jest prąd o natężeniu 8A/dm 3. Z boku wanny znajdują się wyciągi powietrza. Odbywa się w potrójnej płuczce kaskadowej. Dotrawianie Prowadzone jest w jednej wannie w roztworze kwasu solnego 30 %. Odbywa się w jednej płuczce. Po tym etapie część detali jest przewożona do cynkowania, a część wraca do wanien dotrawiających i dopiero po powtórzeniu dotrawiania poddawana jest cynkowaniu. Cynkowanie elektrolityczne Odbywa się w roztworze NaOH i cynku oraz dodatków poprawiających przebieg procesu. Temperatura procesu wynosi 30 C, czas 30 minut. Do wanien procesowych doprowadzony jest prąd o natężeniu 3-4 A/dm 3. Podczas przepływu prądu stałego przez elektrolit jony metalu (cynku) przemieszczają się w kierunku pokrywanego, podłoża (katody) i wydzielają się na nim, tworząc powłokę. Na elektrodach poza procesami podstawowymi wydzielania i rozpuszczania metalu mogą zachodzić niepożądane procesy uboczne, np. wydzielanie gazowego wodoru na katodzie i tlenu na anodzie. Powoduje to zużywanie części prądu, zmniejsza wydajność procesu i wywołuje inne szkodliwe skutki, w tym kruchość wodorową pozyskiwanego metalu. Z tego powodu roztwór wodorotlenku potasu z cynkiem sporządzany jest w oddzielnej wannie pomocniczej i stamtąd przepompowywany do wanien procesowych. Zapobiega to wytwarzaniu wolnego wodoru w wannach procesowych. Wanna pomocnicza jest zamknięta, a wodór usuwany jest systemem wentylacyjnym. Podstawowy proces odbywa się w czterech wannach, z których każda wyposażona jest w 9 bocznych wyciągów. Odbywa się w płuczkach kaskadowych. Rozjaśnianie Polega na przetrzymywaniu detali przez 20 sekund w 0,5% roztworze kwasu azotowego. Odbywa się w jednej wannie. Prowadzone jest w jednej wannie przelewowej. Strona 3 z 41

4 Pasywacja niebieska lub żółta W zależności od pożądanego koloru, na przygotowanych detalach wykonywane są procesy pasywacji niebieskiej lub żółtej. Pasywacja niebieska nadaje detalom kolor biały. Prowadzona jest w jednej wannie w temperaturze 20 C w roztworze Permapass 3006 inhibitorów i wody w czasie sekund. Pasywacja żółta nadaje detalom żółty kolor. Przebiega w temperaturze 26 C w roztworze Enthox 747, inhibitorów i wody w czasie sekund. Odbywa się w dwóch płuczkach kaskadowych. Lakierowanie Polega na zanurzaniu detali w roztworze lakieru i wody. Są dwie wanny tego procesu. Suszenie Odbywa się w trzech suszarkach i jest ostatnim procesem przed przekazaniem gotowego wyrobu do magazynu. Suszenie prowadzone jest gorącym powietrzem o temp C. FOSFORANOWANIE STALI i ALUMINIUM W trakcie tego procesu na powierzchni metali wytwarzana jest chemiczna ochronna powłoka fosforanów, która jest odporna na działanie wysokich temperatur, zmniejsza współczynnik tarcia, stanowi dobry podkład dla farb i lakierów. Proces prowadzony jest w gorących roztworach fosforanów i kwasu fosforowego. Polega na zanurzeniu przeznaczonego do fosforanowania metalu w wodnym roztworze jednopodstawionego fosforanu Me(H2P04)2, zawierającym wolny kwas fosforowy (Me - Fe 2+, Zn 2+, Mn 2+ lub Ca 2+ ). W roztworze takim na granicy faz metal-roztwór zachodzi zjawisko przesunięcia równowagi chemicznej rozpuszczonej soli, co umożliwia otrzymywanie soli dwu- lub trójpodstawionych, nierozpuszczalnych w tym środowisku. Proces fosforanowania aluminium prowadzony jest w podobny sposób jak detali stalowych. Różnica dotyczy jedynie obrabianej powierzchni oraz składu surowców używanych na etapie odtłuszczania i trawienia. Proces fosforanowania zachodzący w opisywanej instalacji można podzielić na następujące etapy: Odtłuszczanie wstępne Odtłuszczanie wykończeniowe (tylko dla stali) kaskadowe Trawienie kaskadowe (tylko dla aluminium) alkaliczne (tylko dla stali) Aktywacja (tylko dla stali) Fosforanowanie (tylko dla stali) kaskadowe (tylko dla stali) Pasywacja Suszenie Fosforanowanie stali Odtłuszczanie wstępne Prowadzone w jednej wannie, zakrytej pokrywą i wyposażonej w dwa boczne wyciągi wentylacyjne. Używane roztwory: P3 Emalan 5668 i P3 Emalan 0469, tworzą skład kąpieli KOH i Na2SiO3. Wnioskodawca przewiduje alternatywne wykorzystanie nowego składu kąpieli do odtłuszczania wstępnego. Proces przebiegać będzie w tej samej wannie z wykorzystaniem Strona 4 z 41

5 preparatów Ridosol 1400 oraz Ridoline Odtłuszczanie to prowadzone będzie w temperaturze 62 o C, kąpiel z wanny wymieniana będzie raz w miesiącu. Odtłuszczanie wykończeniowe Odbywa się w takich samych warunkach jak odtłuszczanie wstępne. Kąpiele z wanien wymieniane są raz na pół roku. Roztwór trafia do odolejacza, w którym odseparowywany jest olej, a oczyszczony roztwór wraca do procesu. Wnioskodawca przewiduje alternatywne wykorzystanie nowego składu kąpieli do odtłuszczania wykończeniowego. Proces przebiegać będzie w tej samej wannie z wykorzystaniem preparatów Ridosol 1400 oraz Ridoline Odtłuszczanie to prowadzone będzie w temperaturze 62 o C, kąpiel z wanny wymieniana będzie raz w miesiącu. Prowadzone w jednej płuczce wypełnionej wodą. Woda po zużyciu przepompowywana jest do procesu odtłuszczania. kaskadowe Prowadzone w jednej wannie. Woda odprowadzana jest do neutralizatora. Trawienie Odbywa się w roztworze kwasu fosforowego w jednej wannie w temperaturze o C. Czas przetrzymywania detali min. Wanna jest zamknięta, wyposażona w wyciąg wentylacyjny. Przy wannie usytuowany jest wymiennik jonowy, wyłapujący jony żelaza powstające w procesie trawienia. Wymiennik jest regenerowany raz na dwa tygodnie kwasem fosforowym. Prowadzone jest w jednej wannie przelewowej. alkaliczne Prowadzone w roztworze o minimalnym stężeniu alkalicznym i o ph 12. alkaliczne prowadzone jest w jednej wannie. Aktywacja Prowadzona jest w jednej wannie, w roztworze soli tytanowej, w celu aktywowania powierzchni stali do przyjmowania fosforanów. Wanna jest otwarta, bez systemu wentylacji. Wymiana kąpieli następuje raz w tygodniu. Fosforanowanie Prowadzone jest w jednej wannie, w roztworze Gardobondu R 2640 E3 i Grano Toneru 130, będącym nośnikiem cynku i manganu. Temperatura roztworu wynosi o C, czas przetrzymywania detali w roztworze 5-10 min. Wanna jest zamknięta i wyposażona w wentylację mechaniczną usuwającą opary znad kąpieli na zewnątrz hali. Roztwór używany do fosforanowania nie jest wymieniany, tylko regenerowany. kaskadowe Prowadzone jest w potrójnej wannie o wymiarach 0,9m x 1,85m x 1,5m. Pasywacja Celem tego procesu jest zamknięcie powłoki uzyskanej w postaci chemicznego fosforanowania, która uzyskuje lepszą przyczepność dla powłok lakierowych. Proces prowadzony jest w jednej wannie, w roztworze Dynasilanu 1151 w temperaturze 45 o C i czasie 2-3 min. Wanna z roztworem jest zamknięta i wyposażona w system wentylacji mechanicznej. Suszenie Odbywa się wymuszonym ruchem powietrza, w zamkniętym i wentylowanym zbiorniku, w temperaturze 120 o C. Fosforanowanie aluminium Odtłuszczanie Strona 5 z 41

6 Prowadzone w jednej wannie, zakrytej pokrywą i wyposażonej w dwa boczne wyciągi wentylacyjne. Używane roztwory: Gardoclean T5374/1 i woda, tworzą skład kąpieli NaCO3. Kąpiel z wanny wymieniana jest raz na 3 miesiące. Prowadzone w jednej płuczce wypełnionej wodą. Woda po zużyciu przepompowywana jest do procesu odtłuszczania. kaskadowe Prowadzone w jednej wannie. Woda odprowadzana jest do neutralizatora. Trawienie Odbywa się w roztworze kwasu siarkowego w jednej wannie i temperaturze 35 o C. Czas przetrzymywania detali min. Wanna jest zamknięta, wyposażona w wyciąg wentylacyjny. kaskadowe Prowadzone jest w podwójnej wannie. Pasywacja Celem tego procesu jest końcowe zabezpieczenie powłoki detali. Proces prowadzony jest w jednej wannie, w roztworze Dynasilanu 1151 w temperaturze 45 o C i czasie 2-3 min. Wanna z roztworem jest zamknięta i wyposażona w system wentylacji mechanicznej. Suszenie Odbywa się wymuszonym ruchem powietrza, w zamkniętym i wentylowanym zbiorniku, w temperaturze 120 o C. NIKLOWANIE Niklowanie wykonuje się w celach antykorozyjnych, dekoracyjnych, a także jako podłoże dla innych powłok galwanicznych. Niklowanie elektrochemiczne polega na wytworzeniu warstwy powierzchniowej z niklu w procesie elektrolizy na powierzchni przewodzącej. W takim procesie podstawowym składnikiem elektrolitu jest sól osadzanego metalu. Przedmiot, na którego powierzchni osadzana jest warstwa niklu, stanowi katodę, zaś anoda wykonana jest z takiego samego metalu jak metal osadzany. Napięcie przyłożone do takiego układu powoduje uporządkowany ruch jonów w elektrolicie i przepływ prądu elektrycznego oraz przebieg reakcji elektrochemicznych na powierzchni elektrod. W polu elektrycznym jony dodatnie (kationy) przemieszczają się w kierunku katody, a jony ujemne (aniony) w kierunku przeciwnym, ku anodzie. Jednocześnie na powierzchni katody zachodzą procesy redukcji jonów metalu z elektrolitu, które polegają na pobieraniu elektronów przez kationy. Powstające w tym procesie atomy metalu osadzane są na powierzchni katody, gdzie wbudowują się w sieć krystaliczną podłoża, tworząc warstwę powierzchniową. Na powierzchni anody zachodzą procesy utleniania atomów metalu anody, które polegają na oddawaniu elektronów i powstawaniu jonów metali. Powstające w procesie anodowym jony metalu przechodzą do roztworu. W wyniku tego procesu następuje rozpuszczanie anod oraz uzupełnianie ubytku stężenia jonów metalu w roztworze, powodowanego procesami katodowymi. Prowadzony w zakładzie proces niklowania można podzielić na następujące etapy: Odtłuszczanie elektrolityczne kaskadowe Trawienie kaskadowe Aktywacja Niklowanie gorące Strona 6 z 41

7 Suszenie. Odtłuszczanie elektrolityczne Prowadzone jest w jednej otwartej wannie, wyposażonej w dwa boczne wyciągi wentylacyjne. Roztwór sporządzany jest z dodatkiem preparatu Fettex ELZ TEIL 1 i Fettex ELZ TEIL 2. Do roztworu doprowadzany jest prąd o natężeniu 4-5 A/dm 3. Roztwór odtłuszczający wymieniany jest raz w roku. kaskadowe Odbywa się w potrójnej wannie. Trawienie Prowadzone jest w roztworze kwasu siarkowego 50%, w jednej otwartej wannie, wyposażonej w dwa boczne wyciągi wentylacyjne. Do roztworu doprowadzony jest prąd o natężeniu 3,5 A/dm 3. Roztwór wymieniany jest raz na 3 miesiące. kaskadowe po trawieniu odbywa się kaskadowo, w potrójnej wannie. Aktywacja Odbywa się w jednej wannie w roztworze NiCl2 i HCl. Niklowanie Przeprowadza się w 5 wannach w roztworze NiSO4 i NiCl. Wanny są wyposażone w wyciągi - każda wanna posiada jeden wywiew. Roztwór po wymianie odprowadzany jest do podczyszczalni ścieków. Odbywa się w jednej podwójnej płuczce kaskadowej. gorące Odbywa się w jednej wannie w temperaturze C. Suszenie Suszenie odbywa się wymuszonym ruchem powietrza, w temperaturze 80 C, w zamkniętym, wentylowanym zbiorniku. CHROMOWANIE DEKORACYJNE Chrom jest metalem o barwie srebrzystej z niebieskawym odcieniem. Ma doskonałe właściwości chemiczne i mechaniczne. Twardość warstwy chromu jest większa od twardości najtrwalszych gatunków stali hartowanych. Powłoka chromowa dekoracyjna nakładana jest na podwarstwie niklu Powłoki ochronnodekoracyjne stosuje się dla przedmiotów codziennego użytku, elementów aparatury, akcesoriów samochodowych. W zakładzie do chromowania dekoracyjnego będzie wykorzystywany zamiennie Cr +3 lub Cr +6. Proces chromowania elektrolitycznego prowadzony będzie na nowej specjalnie na ten cel zainstalowanej linii i będzie każdorazowo poprzedzony przygotowaniem detali. Bez względu na to czy nakładana będzie powłoka chromowa Cr +6 czy Cr +3 proces ten poprzedzony będzie następującymi etapami prowadzonymi na jednej nowej linii do przygotowania detali: Proces chromowania dekoracyjnego podzielić można na następujące etapy: Odtłuszczanie biologiczne, Odtłuszczanie chemiczne,, Trawienie HCl,, Odtłuszczanie elektrolityczne,, Chromowanie dekoracyjne (Cr +6 ), które dzieli się na następujące etapy: Strona 7 z 41

8 o Dotrawianie, o, o Niklowanie (nikiel półbłyszczący), o Niklowanie (nikiel błyszczący), o, o Aktywacja chromu, o Chromowanie dekoracyjne (VI), o, o Redukcja chromu, o, o Suszenie, Chromowanie dekoracyjne (Cr +3 ), które dzieli się na następujące etapy: o Dotrawianie, o, o Niklowanie (nikiel półbłyszczący), o Niklowanie (nikiel błyszczący), o, o Chromowanie dekoracyjne (III), o, o Uszczelnienie CP, o przepływowe, o Uszczelnienie RRP, o przepływowe, o Suszenie. Odtłuszczanie biologiczne Prowadzone będzie w dwóch wannach otwartych. Roztwór wykonany będzie z dodatkiem następujących preparatów: Enprep Bioclean Starter, Enprep Bioclean Tenside, Enprep Bioclean Nutrient, Defoamer SP, kwas fosforowy 15%, NaOH 15%. Proces prowadzony będzie w temperaturze C w czasie ok. 18 min, przy ph 8,8-9,4. Każda z wanien posiada przyporządkowany Bioreactor BR. Odtłuszczanie chemiczne Prowadzone będzie w jednej wannie, wyposażonej w dwa wyciągi boczne. Proces prowadzony będzie przez ok. 8,5 min w roztworze Enprep 223 U, Enprep Liquipur Tenside 3141, Defoamer SP, w temperaturze C. Obok wanny znajduje się zbiornik zapasowy do zbierania szlamu. Prowadzone będzie w trzech wannach, z których dwie połączone są kaskadowo. Trawienie HCl Prowadzone będzie przez ok. 18 min w temperaturze pokojowej, w roztworze kwasu solnego 33% i preparatu Actane BO, w trzech wannach. Wanny wyposażone są łącznie w 4 wyciągi boczne. Prowadzone będzie w trzech wannach, z których dwie połączone są kaskadowo. Odtłuszczanie elektrolityczne Prowadzone będzie w dwóch wannach. Wanny wyposażone są łącznie w 3 wyciągi boczne. Proces prowadzony jest w temperaturze C przez okres ok. 4,5 min, w roztworze Enprep OC i Enprep TTM WA. Do procesu doprowadzany będzie prąd 13 A/dm 3. Prowadzone będzie w dwóch płuczkach połączonych kaskadowo oraz w jednej płuczce natryskowej. Strona 8 z 41

9 Proces chromowania dekoracyjnego (Cr +6 ) można podzielić na następujące etapy: Dotrawianie Prowadzone będzie w roztworze kwasu solnego tech. 33% w jednej wannie. Proces przebiegać będzie w temperaturze pokojowej przez okres ok. 3 min. Prowadzone będzie w jednej płuczce. Niklowanie (nikiel półbłyszczący) Prowadzone będzie w dwóch wannach, w roztworze siarczanu niklu 6- wodnego, chlorku niklu (23/24%), kwasu borowego, Elpelyt SB45 Make Up, Elpelyt SB45 Replenisher A, Elpelyt SB45 Replenisher B oraz Elpelyt Wetting Agent 62A (o zamiennej nazwie Non Pitter 62). Wanny wyposażone są łączenie w 4 wyciągi boczne. Proces prowadzony będzie w temperaturze C przez okres ok. 5,5 min z wykorzystaniem prądu 5,9 A/dm 2. Przy wannach znajduje się zbiornik dodatkowy, wyposażony w filtr. Niklowanie (nikiel błyszczący) Prowadzone będzie w dwóch wannach, w roztworze siarczanu niklu 6- wodnego, chlorku niklu (23/24%), kwasu borowego, Elpelyt GS-7 Carrier X5, Elpelyt GS-7 Carrier H, Elpelyt GS-7 Brightener HL, Elpelyt GS-7 Brightener ST, Elpelyt Wetting Agent 62A. Proces prowadzony będzie w temperaturze C przez okres ok. 5 min. Do procesu doprowadzony będzie prąd 6,5 A/dm 2. Przy wannach znajduje się zbiornik dodatkowy do dozowania chemii, wyposażony w filtr. Prowadzone będzie w trzech wannach, z których dwie połączone są kaskadowo. Aktywacja chromu Prowadzona będzie w jednej wannie w roztworze Ankor NFDS. Proces prowadzony będzie w temperaturze pokojowej, w czasie ok. 1 min. Do procesu doprowadzany będzie prąd 0,05 A/dm 2. Wanna do aktywacji chromu połączona jest za pomocą 4-ech kanałów wyciągowych z dwoma wannami do chromowania. Chromowanie dekoracyjne (VI) Prowadzone będzie w dwóch wannach, w roztworze bezwodniku kwasu chromowego, kwasu siarkowego, Ankor 1120F, Ankor 1120H, Ankor Wetting Agent FF, węglanu baru. Proces prowadzony będzie w temperaturze C przez okres ok. 5 min, z wykorzystaniem prądu 5,5 A/dm 2. Prowadzone będzie w czterech wannach połączonych kaskadowo po dwie. to prowadzone będzie w wodzie dejonizowanej. Redukcja chromu Prowadzona będzie w jednej wannie w roztworze pirosiarczynu sodu. Wanna wyposażona jest w 2 wyciągi boczne. Proces przebiegać będzie w temperaturze pokojowej i ph 1,9-2,5 w czasie ok. 1 min. Prowadzone będzie w dwóch płuczkach. W jednej płuczce prowadzone są dwa płukania w świeżej wodzie, zaś w drugiej jedno płukanie w wodzie dejonizowanej. Suszenie Odbywa się wymuszonym ruchem powietrza, w wentylowanym zbiorniku, w temperaturze 120 o C. Odmetalizowanie zawieszek Prowadzone będzie w jednej wannie w roztworze Enstrip 848 Make-Up, Enstrip 848 Additive 2, Enstrip 848 Additive 1, Enstrip 848 Replenisher oraz kwasu octowego tech. 80%. Po tym procesie gotowe wyroby przekazywane są do magazynu wyrobów gotowych. Strona 9 z 41

10 Proces chromowania dekoracyjnego (Cr +3 ) można podzielić na następujące etapy: Dotrawianie Prowadzone będzie w roztworze kwasu solnego tech. 33% w jednej wannie. Proces przebiegać będzie w temperaturze pokojowej przez okres ok. 3 min. Prowadzone będzie w jednej płuczce stacjonarnej. Niklowanie (nikiel półbłyszczący) Prowadzone będzie w dwóch wannach, w roztworze siarczanu niklu 6- wodnego, chlorku niklu (23/24%), kwasu borowego, Elpelyt SB45 Make Up, Elpelyt SB45 Replenisher A, Elpelyt SB45 Replenisher B oraz Elpelyt Wetting Agent 62A. Wanny wyposażone są łączenie w 4 wyciągi boczne. Proces prowadzony będzie w temperaturze C przez okres ok. 5,5 min z wykorzystaniem prądu 5,9 A/dm 2. Przy wannach znajduje się zbiornik dodatkowy, wyposażony w filtr. Niklowanie (nikiel błyszczący) Prowadzone będzie w dwóch wannach, w roztworze siarczanu niklu 6- wodnego, chlorku niklu (23/24%), kwasu borowego, Elpelyt GS-7 Carrier X5, Elpelyt GS-7 Carrier H, Elpelyt GS-7 Brightener HL, Elpelyt GS-7 Brightener ST, Elpelyt Wetting Agent 62A. Proces prowadzony będzie w temperaturze C przez okres ok. 5 min. Do procesu doprowadzony prąd 6,5 A/dm 2. Przy wannach znajduje się zbiornik dodatkowy do dozowania chemii, wyposażony w filtr. Prowadzone będzie w 3 płuczkach, z których dwie połączone są kaskadowo zaś trzecia jest płuczką stacjonarną. Chromowanie dekoracyjne (III) Prowadzone będzie w jednej wannie w roztworze bezwodniku kwasu chromowego, Trilyte CF Part I, Trilyte CF Make Up, Trilyte CF Replenisher,Trilyte CF Stabilizer. Proces prowadzony będzie w temperaturze C przez okres ok. 5 8 min, z wykorzystaniem prądu 5 12 A/dm 2. Prowadzone będzie w trzech wannach, z których dwie połączone są kaskadowo, zaś trzecia jest płuczką stacjonarną. Uszczelnienie CP Prowadzone będzie w jednej wannie w roztworze Trilyte CP Additive 1, Trilyte CP Additive 1, Trilyte CP Inhibitor 3K, Trilyte CP Inhibitor FE. Proces prowadzony będzie w temperaturze C przez okres ok. 0,5 1,5 min, z wykorzystaniem prądu A/dm 2. przepływowe Prowadzone będzie w jednej płuczce. Uszczelnienie RRP Prowadzone będzie w jednej wannie w roztworze wodorotlenek sodu i Trilyte RRP Additive. Proces prowadzony będzie w temperaturze C przez okres ok. 0,5 1,5 min., z wykorzystaniem prądu A/dm 2. przepływowe Prowadzone będzie w dwóch płuczkach, połączonych kaskadowo. Suszenie Odbywać się będzie wymuszonym ruchem powietrza, w wentylowanym zbiorniku, w temperaturze 120 o C. SREBRZENIE Srebro jest metalem o barwie srebrzystobiałej odznaczającym się bardzo dobrą Strona 10 z 41

11 przewodnością elektryczną i cieplną. Przewodność warstw srebra otrzymywanego elektrolitycznie zależy od ilości i rodzaju wbudowanych przy osadzaniu substancji. Zdolność odbicia świeżo wypolerowanego srebra jest największa spośród wszystkich metali i dla światła widzialnego wynosi ok. 99%. Powłoki srebrne znalazły szerokie zastosowanie, jako powłoki dekoracyjno-ochronne, głównie dla wyrobów jubilerskich i nakryć stołowych oraz jako powłoki ochronne i techniczne w elektrotechnice i elektronice. Dużą zdolność do odbijania promieni świetlnych od powierzchni srebra wykorzystuje się przy produkcji luster i reflektorów, a odporność chemiczną i korozyjną w budowie aparatury chemicznej. Poza tym srebro wykorzystuje się do innych celów technicznych np. do nakładania bardzo grubych powłok na specjalne rodzaje łożysk. Cały proces srebrzenia można podzielić na kilka etapów związanych z przygotowaniem powierzchni oraz na etapy związane z samym srebrzeniem. Pomiędzy kolejnymi etapami następuje proces płukania. Sekwencja procesu srebrzenia w ramach przedmiotowej inwestycji będzie obejmowała następujące etapy: Odtłuszczanie chemiczne alkaliczne 1; poj. wanny 1000 l 30 g/l UniClean st. C 5-10 min Odtłuszczanie chemiczne alkaliczne 2; poj. wanny 1160 l 30 g/l UniClean st. C 5-10 min Odtłuszczanie chemiczne alkaliczne 3; poj. wanny 1200 l 30 g/l UniClean st. C 5-10 min Trawienie alkaliczne; poj. Wanny 700 l 50 g/l UniClean st.c 1-3 min Aktywacja/odtlenianie ("desmut"), ze wspomaganiem ultradźwięków; poj. wanny 600 l 25 g/l UniClean ml/l kwas siarkowy 18 st.c (potrzebne chłodzenie) 1-2 min Cynkanowanie I ; Strona 11 z 41

12 poj. wanny 800 l 300 ml/l Alumseal st. C 0,5-1 min Zdjęcie cynkanu; poj. wanny 800 l 40 g/l UniClean ml/l kwas siarkowy st. C 0,5-1min Cynkanowanie II ; poj. wanny 800 l 300 ml/l Alumseal st. C 0,5-1 min. Zamiedziowanie cyjankaliczne; poj. wanny 1300 l 10 g/l miedź 30 g/l wolne cyjanki (KCN) 30 st. C 1-3 min Miedziowanie cyjankaliczne Ultinal; poj. wanny 3200 l 45 g/l miedź 80 g/l wolne cyjanki (KCN) 1-5 ml/l Ultinal Brightener 1-2 ml/l Wetting Agent st. C Zasrebrzanie cyjankaliczne; poj. wanny 1300 l 1,5 g/l srebro 150 g/l wolne cyjanki (KCN) 20 st. c 1-3 min Srebrzenie cyjankaliczne Ag O-56; poj. wanny 2100 l 30 g/l srebro 150 g/l wolne cyjanki (KCN) 1-4 ml/l Ag O-56 Brightener 1-4 ml/l Ag O-56 Wetting Agent 20 st. C Pasywacja srebra Evabrite WS; poj. wanny 840 l 50ml/l Linia nr I - cynkowanie Strona 12 z 41

13 Proces technologiczny odbywa się w szeregu wanien procesowych o łącznej objętości 153,8 m 3. Tabela nr 1 Cynkowanie - zestawienie wanien procesowych Nr Liczba Wymiary wanien Łączna objętość Proces wanien [m] x [m] x [m] wanien [m 3 ] 1. Odtłuszczanie wstępne 1 3,34 x 3,0 x 1,65 16,5 2. Odtłuszczanie wykończeniowe 1 2,1 x 3,0 x 1,65 10,4 3. Trawienie kwaśne 1 2,85 x 2,95 x 1,65 13,9 4. Odtłuszczanie elektrochemiczne 1 1,6 x 2,96 x 1,65 7,8 5. Dotrawianie 1 0,87 x 2,96 x 1,65 4, ,4 x 2,96 x 1,65 62,4 Cynkowanie elektrolityczne 2 1,7 x 2,96 x1,65 16,6 7. Rozjaśnianie 1 0,87 x 2,96 x 1,65 4,2 8. Pasywacja: -niebieska -żółta 1 1 0,87 x 2,96 x 1,65 0,87 x 2,96 x 1,65 4,2 4,2 9. Lakierowanie 2 0,97 x 2,96 x 1,65 9,4 Rodzaj i ilość związków chemicznych oraz substancji pomocniczych zużywanych w procesie cynkowania: Tabela Nr 2 Lp. Nazwa Jednostka Zużycie na rok 1. kwas azotowy 55% kg ENTHOBRITE DIMENSION A dm ENTHOBRITE DIMENSION B dm ENTHOBRITE DIMENSION C dm ENTHOBRITE CODITONER dm ENPREP OC kg ENPREP 238 NW kg ACTANE KSP dm ENTHOX 747 dm AQUARES 3 OC kg PERMA PASS 3006 dm kwas solny 34% kg wodorotlenek sodu płatki kg wodorotlenek potasu kg kule cynkowe 50 mm kg Linia nr II - fosforanowanie stali i aluminium Proces technologiczny odbywa się w szeregu wanien procesowych o łącznej objętości 33,3 m 3. Tabela Nr 3 Fosforanowanie stali i aluminium - zestawienie wanien procesowych Nr Proce Liczba wanien Wymiary wanien [m] x [m] x [m] Łączna objętość wanien [m 3 ] Fosforanowanie stali 1. Odtłuszczanie wstępne 1 1,1 x 1,85 x 1,5 3,0 2. Odtłuszczanie wykończeniowe 1 1,1 x 1,85 x 1,5 3,0 3. Trawienie 1 1,1 x 1,85 x 1,5 3,0 Strona 13 z 41

14 4. alkaliczne 1 1,1 x 1,85 x 1,5 3,0 5. Aktywacja 1 0,9 x 1,85 x 1,5 2,5 6. Fosforanowanie 1 2,46 x 1,85 x 1,5 6,8 7. Pasywacja 1 1,1 x 1,85 x 1,5 3,0 Fosforanowanie aluminium 1. Odtłuszczanie 1 1,1 x 1,85 x 1, Trawienie 1 1,1 x 1,85 x 1,5 3,0 3. Pasywacja 1 1,1 x 1,85 x 1,5 3,0 Rodzaj i ilość związków chemicznych oraz substancji pomocniczych zużywanych w procesie fosforanowania: Tabela Nr 4 Lp. Nazwa Jednostka Zużycie na rok 1. GARDOCLEAN T 5374/ GARDOLENE V 6522 kg GARDOBONDR 2640 E3 kg GARDOBOND ADDITIVE H 7255 kg DYNASILAN 1151 kg P3-EMALAN 5668 kg P3-EMALAN 0469 kg Bonderite M-AD 130 kg kwas fosforowy 75 % kg kwas siarkowy 50 % kg Bonderite C-AD 1400 dm Bonderite 1574 dm Oxetal ID 104 kg 80 Linia nr III - niklowanie Proces technologiczny odbywa się w szeregu wanien procesowych o łącznej objętości 39,2 m 3. Tabela Nr 5 Niklowanie - zestawienie wanien procesowych Nr Proces Liczba wanien Wymiary wanien [m] x [m] x [m] Łączna objętość wanien [m3] 1. Odtłuszczanie elektrolityczne 1 1,1 x 2,96 x 1,5 4,9 2. Trawienie 1 1,1 x 2,96 x 1,5 4,9 3. Aktywacja 1 1,1 x 2,96 x 1,5 4,9 4. Niklowanie 5 1,1 x 2,96 x 1,5 24,5 Rodzaj i ilość związków chemicznych oraz substancji pomocniczych zużywanych w procesie niklowania: Tabela Nr 6 Lp. Nazwa Jednostka Zużycie na rok 1. kwas siarkowy 50 % kg anody niklowe kg FETTEX ELZ TEIL 1 kg FETTEX ELZ TEIL 2 kg NETZMITTEL dm siarczan niklu 6-wodny kg nikiel w kostce kg chlorek niklu kg kwas solny 33% kg Strona 14 z 41

15 10. kwas borowy kg 300 Linia nr IV chromowanie dekoracyjne (nowo zamontowana linia) Proces technologiczny odbywa się w szeregu wanien procesowych o łącznej objętości 90,6 m 3. Tabela Nr 7 Chromowanie dekoracyjne - zestawienie wanien procesowych Nr Proces Liczba wanien Wymiary wanien [m] x [m] x [m] Łączna objętość wanien [m 3 ] Etap wspólny dla Cr +6 i Cr Odtłuszczanie biologiczne 2 1,1 x 1,85 x 1,5 6,0 2. Odtłuszczanie chemiczne 1 1,1 x 1,85 x 1,5 3,0 3. Trawienie HCl 3 1,1 x 1,85 x 1,5 9,0 4. Odtłuszczanie elektrolityczne Chromowanie Cr ,55 x 1,85 x 1,5 4,3 1 1,1 x 1,85 x 1,5 3,0 5. Dotrawianie 1 0,78 x 1,85 x 1,5 2,2 6. Niklowanie półbłyszczące 2 1,52 x 1,85 x 1,5 8,4 7. Niklowanie błyszczące 2 1,52 x 1,85 x 1,5 8,4 8. Aktywacja chromu 1 1,3 x 1,85 x 1,5 3,6 9. Chromowanie (VI) 1 1,65 x 1,85 x 1,5 4,6 1 1,85 x 1,85 x 1,5 5,1 10. Redukcja chromu 1 1,05 x 1,85 x 1,5 2,9 11. Odmetalizowanie zawieszek 1 0,78 x 1,85 x 1,5 2,2 Chromowanie Cr Dotrawianie 1 0,78 x 1,85 x 1,5 2,2 6. Niklowanie półbłyszczące 2 1,52 x 1,85 x 1,5 8,4 7. Niklowanie błyszczące 2 1,52 x 1,85 x 1,5 8,4 8. Chromowanie (III) 1 1,64 x 1,85 x 1,5 4,5 9. Uszczelnienie cp 1 0,79 x 1,85 x 1,5 2,2 10. Uszczelnienie rrp 1 0,79 x 1,85 x 1,5 2,2 Rodzaj i ilość związków chemicznych oraz substancji pomocniczych zużywanych w procesie chromowanie dekoracyjnego: Tabela Nr 8 Lp. Nazwa Jednostka Zużycie na rok 1. NIKIEL 1x1 cm kostka kg siarczan niklu 6-wodny kg WEGIEL AKTYWY NORIT kg ENPREP BIOCLEAN STARTER - brak danych 5. ENPEP BIOCLEAN NUTRIENT - brak danych 6. ENPREP BIOCLEAN TENSIDE - brak danych 7. DEFOAMER SP - brak danych 8. ENPREP 223 U kg ENPREP OC kg ENPREP-LIQUIPUR TENSIDE 3141 dm ENPREP TTM WA dm ACTANE BO dm ELPELYT SB45 MAKE-UP dm ELPELYT SB45 REPLENISHER A dm ELPELYT SB45 REPLENISHER B dm Strona 15 z 41

16 16. ELPELYT WETTING AGENT 62A lub NON Pitter 62 A dm ELPELYT GS-7 BRIGHTENER HL dm ELPELYT GS-7 BRIGHTENER ST dm ELPELYT GS-7 CARRIER X5 dm ELPELYT GS-7 CARRIER H dm ANKOR NFDS kg ENSTRIP 848 ADDITIVE 1 dm 3 brak danych 23. ENSTRIP 848 ADDITIVE 2 dm 3 brak danych 24. ENSTRIP 848 REPLENISHER dm 3 brak danych 25. ANKOR 1120 F dm ANKOR WETTING AGENT FF dm kwas solny 34% dm pirosiarczyn sodu kg węglan baru kg bezwodnik kwasu chromowego kg kwas borowy kg chlorek niklu kg przekładki filtracyjne papierowe szt przekładki filtracyjne węglowe szt kwas siarkowy 50% kg kwas octowy tech 80% - brak danych 37. ENSTRIP 848 Make-Up - brak danych 38. TRILYTE CF PART I - brak danych 39. TRILYTE CF MAKE UP - brak danych 40. TRILYTE CF REPLENISHER - brak danych 41. TRILYTE CF STABILIZER - brak danych 42. TRILYTE CF WATTER - brak danych 43. TRILYTE CP Additive 1 - brak danych 44. TRILYTE CP Additive 1 - brak danych 45. TRILYTE CP Inhibitor 3K - brak danych 46. TRILYTE CP Inhibitor FE - brak danych 47. TRILYTE RRP Additive - brak danych 48. wodorotlenek sodu - brak danych 49. Ancor Correting Solution l 400 Linia nr V - srebrzenie Zestawienie wanien procesowych Tabela nr 9 Nr Proces Liczba wanien 1. Odtłuszczanie chemiczne alkaliczne 2. Odtłuszczanie chemiczne alkaliczne 1 3. Odtłuszczanie chemiczne alkaliczne 1 Wymiary wanien [m] x [m] x [m] Łączna objętość wanien [m 3 ] 1 0,72 X 1,40 X 1,0 1,00 0,83 X 1,40 X 1,0 0,86X 1,40 X 1,0 4. Trawienie alkaliczne 1 0,5 x 1,40 x 1,0 0,7 5. Aktywacja/odtlenianie ( desmut ) ze wspomaganiem ultradźwięków 1 0,42 x 1,40 x 1,0 0,59 6. Cynkanowanie I 1 0,57 x 1,4 x 1,0 0,8 7. Zdjęcie cynkanu 1 0,57 x 1,4 x 1,0 0,8 8. Cynkanowanie II 1 0,57 x 1,4 x 1,0 0,8 9. Zamiedziowanie cyjankaliczne 1 0,90 x 1,4 x 1,0 1,3 10. Miedziowanie cyjankaliczne 2 2,3x 1,4 x 1,0 3,2 1,16 1,2 Strona 16 z 41

17 Ultinal 11. Zasrebrzanie cyjankaliczne 1 0,75 x 1,4 x1,0 1,0 12. Srebrzenie cyjankaliczne Ag O ,50 x 1,4 x1,0 2,1 13. Pasywacja srebra Evabrite WS 1 0,60 x 1,4 x 1,0 0,84 Rodzaj i ilość związków chemicznych oraz substancji pomocniczych zużywanych w procesie srebrzenia: Tabela nr 10 Lp. Nazwa Jednostka Zużycie Kwas siarkowy L 400 UniClean 151 kg 900 UniClean 1020 kg 500 UniClean 697 kg 560 Alumseal 650 L 9000 Miedź kg 4200 Wolne cyjanki (KCN) kg 2000 Ultinal Brightener kg 400 Ultinal Wetting Agent kg 30 Srebro kg 300 Ag O-56 Brightener kg 100 Ag O-56 Wetting Agent kg 100 Evabrite WS L 200 Węglan potasu kg 100 Wodorotlenek potasu kg 120 Cyjanek srebra kg 50 Kwas azotowy 55% l 7000 Alklean AC-3 l 2000 Pirosiarczyn sodu kg 500 Pozostałe surowce zużywane w zakładzie: Tabela nr 11 Nazwa Jednostka Zużycie na rok Siarczyn sodu kg Strona 17 z 41

18 Ług sodowy 50% kg SEDAC 705 kg 120 Wapno gaszone kg Kwas solny 34% kg Podchloryn sodu kg 8000 Taśma zimnowalcowa do tłoczenia kg Pręt stalowy na wykrojniki Kg Olej smarujący Renoform 96 dm Olej smarujący Avialit OEP dm 3 10 Olej smarujący Avialit 42A dm 3 30 Olej smarujący Aviol N9 dm 3 20 Środek suszący supervelat SV12 kg 600 Płyn procesowy EF29 dm Parametry produkcyjne instalacji: Ilość wytwarzanych produktów: rury niklowe - ok m 2 /rok, elementy fosforanowe - ok m 2 /rok, elementy cynkowane - ok m 2 /rok, elementy chromowane ok m 2 /rok, elementy tłoczone - ok szt./rok, zużycie energii elektrycznej 5450 MWh/rok, zużycie wody ogółem m 3 /rok, w tym: na potrzeby technologiczne m 3 /rok, na potrzeby bytowe 2825 m 3 /rok, zużycie wody w przypadku braku możliwości wykorzystania ścieków ogółem m 3 /rok, w tym: na potrzeby technologiczne m 3 /rok, na potrzeby bytowe m 3 /rok, zużycie gazu ziemnego m 3 /rok. 2. W Rozdziale II decyzji, w pkt 2. Metody ochrony powietrza, pierwszy tiret otrzymuje brzmienie: wszystkie linie (procesy fosforowania, niklowania, cynkowania, chromowania i srebrzenia) posiadają osobne systemy aspiracji, a przed wylotem do powietrza aspirowane pyły i gazy oczyszczane są na skruberach wodnych w celu minimalizacji zanieczyszczeń; ograniczenie emisji do powietrza poprzez właściwe dobranie wentylatorów wyciągowych do warunków procesu, stosowanie krytych wanien procesowych; właściwe zarządzanie transportem redukcja ilościowa transportu surowców i produktów, regulacja czasu pracy transportu. 3. Rozdział III decyzji otrzymuje brzmienie: 1.1. Ustala się dopuszczalną wielkość emisji gazów i pyłów wprowadzanych do powietrza z instalacji w warunkach normalnego funkcjonowania instalacji: Strona 18 z 41

19 Tabela Nr 12 Dopuszczalna wielkość emisji gazów i pyłów wprowadzanych do powietrza z instalacji w warunkach normalnego funkcjonowania instalacji Nr emit ora E1 E2 E3 E4 Źródło powstawania zanieczyszczenia Linia fosforanowania z systemem wentylacji o wydajności m 3 /h Linia cynkowania I z systemem wentylacji o wydajności m 3 /h Linia cynkowania II z systemem wentylacji o wydajności m 3 /h Linia niklowania z systemem wentylacji o wydajności m 3 /h E5 Kocioł NEES o mocy cieplnej 0,3 MWt, do podgrzewania suszarek w procesie fosforanowania i chromowania dekoracyjnego E6 Kocioł nr 2 Veissmann Vitoplex 100 z palnikiem Weishaupt g 5/1-d, moc cieplna 0,575 MWt Rodzaj emitowanego zanieczyszczenia pył ogółem - w tym pył PM10 - w tym pył PM2,5 cynk 1 fluor 2 kwas siarkowy(vi) pył ogółem - w tym pył PM10 - w tym pył PM2,5 cynk 1 chlorowodór kwas octowy pył ogółem - w tym pył PM10 - w tym pył PM2,5 cynk 1 kwas octowy pył ogółem - w tym pył PM10 - w tym pył PM2,5 nikiel 1 chlorowodór pył ogółem - w tym pył PM10 - w tym pył PM2,5 dwutlenek siarki tlenki azotu tlenek węgla pył ogółem - w tym pył PM10 - w tym pył PM2,5 dwutlenek siarki tlenki azotu tlenek węgla Emisja dopuszczalna z pojedynczego emitora maksymalna (kg/h) roczna (Mg/rok) 0, , , , , , , , , , , , , , , , ,0806 0, , , , , , , , , , ,0682 0,0005 0,0005 0, , ,0428 0, , , , , ,0819 0, , , , , , , , , , , , , , , , , ,0009 0,0009 0, , ,0768 0,0216 0, , , , ,2432 0,0684 E7 Kocioł nr 1 Veissmann Vitoplex 100 z palnikiem Weishaupt g 5/1-d, moc cieplna 0,575 MWt pył ogółem - w tym pył PM10 - w tym pył PM2,5 dwutlenek siarki tlenki azotu tlenek węgla 0, , , , ,0819 0, , , , , ,2432 0,0684 Strona 19 z 41

20 E8 E9 Linia niklowania wchodząca w skład linii do chromowania dekoracyjnego, z systemem wentylacji o wydajności m 3 /h Linia chromowania dekoracyjnego z systemem wentylacji o wydajności 8000 m 3 /h pył ogółem - w tym pył PM10 - w tym pył PM2,5 nikiel 1 chlorowodór pył ogółem - w tym pył PM10 - w tym pył PM2,5 chrom VI 1 i chrom III 1 0, , , , ,0624 0, , , , , , , , , , , , ,00878 E10 Linia miedziowania i srebrzenia pył ogółem - w tym pył PM10 - w tym pył PM2,5 cynk 1 miedź E11 Linia odtłuszczania pył ogółem - w tym pył PM10 - w tym pył PM2,5 fluor kwas siarkowy 0,025 0,025 0,025 0,0061 0,003 0,025 0,025 0,025 0, , ,156 0,156 0,156 0,0381 0, ,156 0,156 0,156 0, , jako suma metalu i jego związków w pyle zawieszonym PM10 2 jako suma fluoru i fluorków rozpuszczalnych w wodzie Tabela Nr 13 Roczna emisja zanieczyszczeń z instalacji Emitowana substancja Emisja roczna z instalacji (Mg) pył ogółem 0,6509 pył PM10 0,6509 pył PM2,5 0,6509 dwutlenek siarki 1,127 tlenki azotu 0,587 tlenek węgla 0,0967 fluor 2 0,00296 kwas siarkowy 0,1553 chlorowodór 1,5756 nikiel 1 0,0292 cynk 1 0,3389 chrom VI 1 i chrom III 1 0,00878 kwas octowy 0,0233 miedź 0,02 1 jako suma metalu i jego związków w pyle zawieszonym PM10 2 jako suma fluoru i fluorków rozpuszczalnych w wodzie Tabela Nr 14 Charakterystyka miejsc wprowadzania gazów lub pyłów do powietrza Nr Wysokoś Średnica Prędkość Urządzenie Temperatura Czas Strona 20 z 41

21 emitora E1 odkryty, pionowy E2- odkryty, pionowy E3 odkryty, pionowy E4 odkryty, pionowy E5 odkryty, pionowy E6 odkryty, pionowy E7 odkryty, pionowy E8 odkryty pionowy E9 odkryty pionowy E10- odkryty pionowy E11- odkryty pionowy ć emitora (m) emitora (m) 11,0 0,5 14,62 skruber wodny o sprawności 99% 11,0 0,6 14,27 skruber wodny o sprawności 99% 11,0 0,7 12,64 skruber wodny o sprawności 99% 10,5 0,7 12,42 skruber wodny o sprawności 99% (m/s) redukujące ( 0 K) eksploatacji (h/rok) ,3 0,2 5,93 brak ,5 0,35 3,87 brak ,5 0,35 3,87 brak ,0 0,8 11,22 skruber wodny o sprawności 99% 10,0 0,5 9,5 skruber wodny o sprawności 99% 4,5 0,5 14,15 Dwa skrubery wodne o sprawności 99% 4,5 0,25 14,15 skruber wodny o sprawności 99% Sposób redukcji zanieczyszczeń Emitory z instalacji do powierzchniowej obróbki metali wyposażone są w skrubery wodne umieszczone w kanałach odprowadzających gazy odlotowe do powietrza. W skruberach następuje redukcja zanieczyszczeń (wg założeń producenta skrubera), w zakresie 99% Maksymalny dopuszczalny czas utrzymywania się uzasadnionych technologicznie warunków eksploatacyjnych odbiegających od normalnych oraz wielkość dopuszczalnej emisji w tych warunkach: Strona 21 z 41

22 Ustala się wielkość dopuszczalnej emisji w warunkach rozruchu i uruchomienia instalacji jak w punkcie III decyzji tj. jak w warunkach normalnego funkcjonowania instalacji Emisja niezorganizowana Emisja niezorganizowana pochodzi głównie ze środków transportu należących do zakładu i kontrahentów dojeżdżających na teren zakładu. 2. Emisja hałasu do środowiska Określam dopuszczalny poziom hałasu przenikającego w związku z eksploatacją instalacji do środowiska, w rozumieniu: a) terenów zabudowy mieszkaniowej wielorodzinnej i usługowej, wyrażony równoważnym poziomem dźwięku A, w wysokości: - LAeq D = 55 db (pora dnia- godz ), - LAeq N = 45 db (pora nocy- godz ). b) terenów zabudowy mieszkaniowej jednorodzinnej, wyrażony równoważnym poziomem dźwięku A, w wysokości: - LAeq D = 50 db (pora dnia- godz ), - LAeq N = 40 db (pora nocy- godz ) Parametry źródeł emisji hałasu do środowiska Tabela Nr 15 Rozkład czasu pracy źródeł hałasu Lp. Instalacja/źródło Urządzenie/ lokalizacja Czas pracy [h] dzień 6 oo - noc 22 oo -6 oo 22 oo Źródła punktowe WPF wentylator procesu fosforowania emitor dachowy 16 8 WPC1 wentylator procesu cynkowania emitor dachowy m 3 /h WPC2 wentylator procesu cynkowania emitor dachowy m 3 /h WPN wentylator procesu niklowania emitor dachowy 16 8 WCD1 wentylator procesu chromowania emitor dachowy 16 8 dekoracyjnego m 3 /h WCD2 wentylator procesu chromowania emitor dachowy 16 8 dekoracyjnego m 3 /h WN Wentylator nawiewny ściana boczna hali 16 8 technologicznej DZ dźwig załadunkowy ściana hali 0,25 0 technologicznej WS Wylot powietrza ze sprężarki ściana budynku 16 8 WPS1 Wentylator procesu srebrzenia HF emitor dachowy 16 8 R315-17RF m 3 /h WPS3 Wentylator procesu srebrzenia HF R500-15D m 3 /h emitor dachowy 16 8 Źródła typu budynek Strona 22 z 41

23 H1 hala produkcyjna istniejąca instalacje technologiczne wewnątrz budynku H2 hala produkcyjna instalacje technologiczne nowa wewnątrz budynku Źródła liniowe SC teren zakładu ruch samochodów ciężarowych WW Wózek widłowy spalinowy Ruch wózka po terenie zakładu , Wytwarzanie odpadów w związku z funkcjonowaniem instalacji oraz sposoby postępowania z wytworzonymi odpadami 3.1. Wytwarzanie odpadów Pozwala się na wytwarzanie odpadów niebezpiecznych i innych niż niebezpieczne określonych w poniższej tabeli: Tabela nr 16 Rodzaje i ilości odpadów, które mogą zostać wytworzone w ciągu roku. Lp. Rodzaj odpadu Kod odpadu Ilość odpadów [Mg/rok] Odpady niebezpieczne 1. Sole i roztwory zawierające metale ciężkie * 35, Kwasy trawiące * 5, Osady i szlamy z fosforanowania * 40, Szlamy i osady pofiltracyjne zawierające substancje niebezpieczne * 300,00 5. Odpady farb i lakierów zawierających rozpuszczalniki organiczne lub inne * 0,200 substancje niebezpieczne 6. Szlamy wodne zawierające farby i lakiery zawierające rozpuszczalniki organiczne lub inne substancje niebezpieczne * 20, Nasycone lub zużyte żywice jonowymienne * 3, Inne odpady zawierające substancje niebezpieczne * 20, Odpadowe emulsje i roztwory z obróbki metali niezawierające chlorowców * 3, Inne oleje hydrauliczne * 0, Inne oleje silnikowe, przekładniowe i smarowe * 2, Szlamy z odwadniania olejów w separatorach * 3, Olej z odwadniania olejów w separatorach * 3, Inne wymienione odpady * 0, Opakowania zawierające pozostałości substancji niebezpiecznych lub nimi zanieczyszczone (np. środkami ochrony roślin I i II klasy toksyczności - bardzo toksyczne i toksyczne) * 10,000 Strona 23 z 41

24 16. Sorbenty, materiały filtracyjne (w tym filtry olejowe nieujęte w innych grupach), tkaniny do wycierania (np. szmaty, ścierki) i ubrania * 1,000 ochronne zanieczyszczone substancjami niebezpiecznymi (np. PCB) 17. Zużyte urządzenia zawierające niebezpieczne elementy inne niż wymienione * 0,700 w do Chemikalia laboratoryjne i analityczne (np. odczynniki chemiczne) zawierające * substancje niebezpieczne, w tym mieszaniny 0,800 chemikaliów laboratoryjnych i analitycznych Odpady inne niż niebezpieczne 1. Sole i roztwory inne niż wymienione w i ,15 2. Odpady farb i lakierów inne niż wymienione w ,15 3. Szlamy wodne zawierające farby i lakiery inne niż wymienione w ,5 4. Odpady z toczenia i piłowania żelaza oraz jego stopów ,0 5. Opakowania z papieru i tektury ,0 6. Opakowania z tworzyw sztucznych ,0 7. Opakowania z drewna ,0 8. Opakowania z metali ,1 9. Opakowania ze szkła ,1 10. Sorbenty, materiały filtracyjne, tkaniny do wycierania (np. szmaty, ścierki) i ubrania ,3 ochronne inne niż wymienione w Metale żelazne ,0 12. Metale nieżelazne ,0 13. Elementy usunięte z zużytych urządzeń inne niż wymienione w ,5 14. Nieorganiczne odpady inne niż wymienione w , ,7 15. Nasycone lub zużyte żywice jonowymienne ,3 Tabela nr 16 a Podstawowy skład chemiczny i właściwości wytwarzanych odpadów oraz źródła powstawania odpadów. Lp. Rodzaj odpadu Kod odpadu 1. Sole i roztwory zawierające metale ciężkie Źródło powstawania odpadu Odpady niebezpieczne * 2. Kwasy trawiące * Są to pozostałości próbek roztworów z wanien galwanicznych poddawanych analizie w laboratorium zakładowym. Odpady powstają po lakierowaniu farbami i lakierami zawierającymi substancje niebezpieczne po procesie cynkowania. Podstawowy skład chemiczny i właściwości odpadów Sole węglanów, siarczynów, siarczanów, siarczków, chlorowców, sole fosforowe i inne sole odpadowe w postaci roztworów; chlorki w postaci stałej, zawierające metale ciężkie. Stan skupienia: ciecz. Skład chemiczny: spoiwo (wapno, cement), rozcieńczalnik (rozpuszczalniki organiczne benzyna lakowa, alkohole, ksylen, toluen), pigmenty, dodatki Strona 24 z 41

25 Osady i szlamy z fosforanowania Szlamy i osady pofiltracyjne zawierające substancje niebezpieczne Odpady farb i lakierów zawierających rozpuszczalniki organiczne lub inne substancje niebezpieczne Szlamy wodne zawierające farby i lakiery zawierające rozpuszczalniki organiczne lub inne substancje niebezpieczne Nasycone lub zużyte żywice jonowymienne Inne odpady zawierające substancje niebezpieczne Odpadowe emulsje i roztwory z obróbki metali niezawierające chlorowców * * * * * * * 10. Inne oleje hydrauliczne * Inne oleje silnikowe, przekładniowe i smarowe Szlamy z odwadniania olejów w separatorach * * Odpady powstają podczas wymiany roztworu z wanny galwanicznej, służącej do lakierowania oraz gdy stosowany lakier zawiera substancje niebezpieczne. Po opróżnieniu wanny z płynnego roztworu, na dnie wanny osadzać się będzie osad zawierający pozostałości farb i rozpuszczalników organicznych. Odpady powstają podczas wymiany cieczy trawiących z procesu technologicznego. Odpady powstają podczas fosforanowania stali i aluminium. Po wymianie kąpieli galwanicznych z wanien służących do fosforanowania, z roztworu wydzielany jest osad, który po sprasowaniu i wysuszeniu stanowić będzie odpad. modyfikujące (np. przyśpieszające wysychanie) Stan skupienia - ciecz, ph 8, temp. wrzenia 37 o C, gęstość 1,24 g/cm 3. Skład chemiczny: spoiwo (wapno, cement), rozcieńczalnik (rozpuszczalniki organiczne benzyna lakowa, alkohole, ksylen, toluen), pigmenty, dodatki modyfikujące (np. przyśpieszające wysychanie). Stan skupienia - ciecz, ph 8, temp. wrzenia 37 o C, gęstość 1,24 g/cm 3. 30% kwas solny (kwas chlorowodorowy), wzór chemiczny HCL. Przezroczysta bezbarwna ciecz. Odpady zawierające fosforany oraz kwas fosforowy. Kwas fosforowy: Bezbarwne ciało stałe. Kwas o średniej mocy. Fosforany: sole i estry kwasu fosforowego. Odpady powstają w zakładowej Mieszaniny z wanien procesowych z oczyszczalni ścieków podczas procesów galwanicznych okresowej wymiany zawartości (cynkowanie, trawienie, wanien procesowych. Osady fosforanowanie, niklowanie, powstają w prasie filtracyjnej. chromowanie) Skład odpadu uzależniony jest od rodzaju jonitu (jonity organiczne, Odpady w postaci stałej, nieorganiczne, syntetyczne, powstają w wyniku okresowych naturalne) oraz składu chemicznego (co 10 lat) wymian żywic cieczy technologicznej. jonowymiennych w zakładowej Substancje porowate, o dużej oczyszczalni ścieków. zdolności wymiany jonowej, posiadają silne właściwości kwasowe Źródłem powstawania odpadów jest przyzakładowa oczyszczalnia ścieków. Odpady będą powstawały podczas wymiany złoża w wymiennikach piaskowych. Odpady powstają w wyniku maszynowej mechanicznej obróbki metali. Odpady powstają w wyniku okresowych wymian płynów eksploatacyjnych z maszyn i urządzeń. Odpady powstają w wyniku okresowych wymian płynów eksploatacyjnych z maszyn i urządzeń. Odpady powstają w wyniku oczyszczania odolejacza roztworu z wanny lub zasadowe. Zawartość piaskowników zanieczyszczona substancjami z oczyszczania ścieków technologicznych. Roztwór wody z płynem antykorozyjnym. Odpad zawiera emulsje i roztwory (stan ciekły) zawierający w swoim składzie m. in. benzynę, propan, izobutan. Zastosowanie cieczy ma na celu obniżenie emisji ciepła oraz zmniejszenie tarcia podczas mechanicznej obróbki metali. Mieszanina węglowodorów i dodatków uszlachetniających (detergenty, modyfikatory lepkości, inhibitory korozji). Odpad nierozpuszczalny w wodzie, o charakterystycznym zapachu, gęstość 0,98 g/cm 3. Mieszanina węglowodorów i dodatków uszlachetniających. Odpad nierozpuszczalny w wodzie, o charakterystycznym zapachu, gęstość 0,98 g/cm 3. Odpady zawierają kwas fosforowy H 3PO 4 Strona 25 z 41