PL ISSN 0209-0058. Nr 2 2010 T.38. http://rcin.org.pl INSTYTUT TECHNOLOGII MATERIAŁÓW ELEKTRONICZNYCH

Podobne dokumenty
PL ISSN ELEKTRONICZNE. Nr1 ITM T.37 INSTYTUT TECHNOLOGII MATERIAŁÓW ELEKTRONICZNYCH

MATERIAŁY PL ISSN

PL ISSN Nr T38. INSTYTUT TFCHNOLOGII MATERIAŁÓW FLEKTRONICJNYCH

MATERIAŁY ELEKTRONICZNE

ELEKTRONICZNE ELECTRONIC MATERIALS. N r 1 PL ISSN T39. INSTYTUT TECHNOLOGII MATERIAŁÓW ELEKTRONICZNYCH

INSPECTION METHODS FOR QUALITY CONTROL OF FIBRE METAL LAMINATES IN AEROSPACE COMPONENTS

Tytuł pracy w języku angielskim: Microstructural characterization of Ag/X/Ag (X = Sn, In) joints obtained as the effect of diffusion soledering.

Mikrostruktura, struktura magnetyczna oraz właściwości magnetyczne amorficznych i częściowo skrystalizowanych stopów Fe, Co i Ni

Centrum Materiałów Zaawansowanych i Nanotechnologii

Few-fermion thermometry

Nr 4 Rok 2013 ELECTRONIC MATERIALS INSTYTUT TECHNOLOGII MATERIAŁÓW ELEKTRONICZNYCH ELECTRONIC MATERIALS TECHNOLOGY

Tytuł pracy w języku angielskim: Physical properties of liquid crystal mixtures of chiral and achiral compounds for use in LCDs

Dr inż. Paulina Indyka

Proposal of thesis topic for mgr in. (MSE) programme in Telecommunications and Computer Science

ZASTOSOWANIE TECHNOLOGII REP-RAP DO WYTWARZANIA FUNKCJONALNYCH STRUKTUR Z PLA

Grafen materiał XXI wieku!?

Investigation of the coexistence of superconductivity and magnetism in substituted EuFe 2 As 2. Lan Maria Tran

DETECTION OF MATERIAL INTEGRATED CONDUCTORS FOR CONNECTIVE RIVETING OF FUNCTION-INTEGRATIVE TEXTILE-REINFORCED THERMOPLASTIC COMPOSITES

Monokryształy SI GaAs o orientacji [310] jako materiał na podłoża do osadzania warstw epitaksjalnych

Fig 5 Spectrograms of the original signal (top) extracted shaft-related GAD components (middle) and

Badania wybranych nanostruktur SnO 2 w aspekcie zastosowań sensorowych

ELEKTRONICZNE. Nr1 Rok P L I S S N INSTYTUT TECHNOLOGII MATERIAŁÓW ELEKTRONICZNYCH

Adres do korespondencji:

BADANIE ROZKŁADÓW WŁAŚCIWOŚCI ELEKTRYCZNYCH I OPTYCZNYCH MONOKRYSZTAŁÓW GaP STOSOWANYCH W OPTYCE PODCZERWIENI

THEORETICAL STUDIES ON CHEMICAL SHIFTS OF 3,6 DIIODO 9 ETHYL 9H CARBAZOLE

Centrum Materiałów Zaawansowanych i Nanotechnologii

Jak TO działa? Co to są półprzewodniki? TRENDY: Prawo Moore a. Google: Jacek Szczytko Login: student Hasło: *******

Grafen materiał XXI wieku!?

NIEDZIELA, 17 czerwca 2018 r. PONIEDZIAŁEK, 18 czerwca 2018 r.

Technologia wytwarzania oraz badania mikrostruktury i właściwości stopów amorficznych i krystalicznych na bazie żelaza

Sargent Opens Sonairte Farmers' Market

Wykład 12 V = 4 km/s E 0 =.08 e V e = = 1 Å

Budowa i podstawowe własności materiałów. Prof. dr hab. inż. Grzegorz Karwasz Tel Pokój 570

WARSZAWA LIX Zeszyt 257

PROMIENIOWANIE WIDZIALNE ŁUKU SPAWALNICZEGO METODY TIG

Projekt NCN DEC-2013/09/D/ST8/ Kierownik: dr inż. Marcin Kochanowicz


EXAMPLES OF CABRI GEOMETRE II APPLICATION IN GEOMETRIC SCIENTIFIC RESEARCH

Dr inż. Paweł Czaja zatrudniony jest w Instytucie Metalurgii i Inżynierii Materiałowej Polskiej Akademii Nauk na stanowisku adiunkta

Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej Polska Akademia Nauk

Conception of reuse of the waste from onshore and offshore in the aspect of

Nazwa projektu: Kreatywni i innowacyjni uczniowie konkurencyjni na rynku pracy

O NIEKTÓRYCH SKUTKACH ODDZIAŁYWANIA PROMIENIOWANIA LASERA RUBINOWEGO Z UKŁADEM CIENKA WARSTWA WĘGLIKÓW METALI NA KAPILARNO-POROWATYM PODŁOŻU

ELECTRONIC MATERIALS. ITMI NSTYTUT TECHNOLOGII MATER ALOW ELEKTRONICZNYCH INSTITUTE OF ELECTRONIC MATERIALS TECHNOLOGY

ANALIZA WRAŻLIWOŚCI CIENKIEJ WARSTWY METALOWEJ PODDANEJ DZIAŁANIU LASERA

OTRZYMYWANIE KOMPOZYTÓW METALOWO-CERAMICZNYCH METODAMI PLAZMOWYMI

Patients price acceptance SELECTED FINDINGS

Wpływ defektów punktowych i liniowych na własności węglika krzemu SiC

photo graphic Jan Witkowski Project for exhibition compositions typography colors : : janwi@janwi.com

Adres do korespondencji: Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej PAN, Kraków, ul. Reymonta 25

SHP / SHP-T Standard and Basic PLUS

POLITECHNIKA KOSZALIŃSKA. Zbigniew Suszyński. Termografia aktywna. modele, przetwarzanie sygnałów i obrazów

Formularz recenzji magazynu. Journal of Corporate Responsibility and Leadership Review Form

Fizyka i technologia wzrostu kryształów

SG-MICRO... SPRĘŻYNY GAZOWE P.103

2010 doktor nauk fizycznych, Wydział Matematyczno-Przyrodniczy, Uniwersytet Rzeszowski

Instrukcja dla autorów monografii

Zjawiska dyspersyjne i przewodnictwo elektryczne w relaksorach, multiferroikach i strukturach wielowarstwowych

Międzynarodowa aktywność naukowa młodej kadry Wydziału Metali Nieżelaznych AGH na przykładzie współpracy z McMaster University w Kanadzie

DOI: / /32/37

Adres do korespondencji: Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej PAN, Kraków, ul. Reymonta 25

Innowacyjne technologie wielofunkcyjnych materiałów i struktur

STRESZCZENIE ROZPRAWY DOKTORSKIEJ

Fizyka i inżynieria materiałów Prowadzący: Ryszard Pawlak, Ewa Korzeniewska, Jacek Rymaszewski, Marcin Lebioda, Mariusz Tomczyk, Maria Walczak

IDENTYFIKACJA FAZ W MODYFIKOWANYCH CYRKONEM ŻAROWYTRZYMAŁYCH ODLEWNICZYCH STOPACH KOBALTU METODĄ DEBYEA-SCHERRERA

Układ okresowy. Przewidywania teorii kwantowej

OPEN ACCESS LIBRARY. Kształtowanie struktury i własności użytkowych umacnianej wydzieleniowo miedzi tytanowej. Jarosław Konieczny. Volume 4 (22) 2013

W Zakładzie Optoelektroniki IF PS, współpraca zagraniczna obejmowała w 2008 r. następujące zespoły:

Marek Lipiński WPŁYW WŁAŚCIWOŚCI FIZYCZNYCH WARSTW I OBSZARÓW PRZYPOWIERZCHNIOWYCH NA PARAMETRY UŻYTKOWE KRZEMOWEGO OGNIWA SŁONECZNEGO

Pracownia komputerowa. Dariusz Wardecki, wykład I

PIERWIASTKI W UKŁADZIE OKRESOWYM

OPEN ACCESS LIBRARY. Gradientowe warstwy powierzchniowe z węglikostali narzędziowych formowane bezciśnieniowo i spiekane.

LABORATORIUM ANALITYCZNEJ MIKROSKOPII ELEKTRONOWEJ (L - 2)

9. Struktury półprzewodnikowe

OPISY KURSÓW. Kod kursu: ETD 9265 Nazwa kursu: Metody diagnostyczne Język wykładowy: polski

OpenPoland.net API Documentation

Rev Źródło:

Machine Learning for Data Science (CS4786) Lecture11. Random Projections & Canonical Correlation Analysis

Dr inż. Łukasz Rogal zatrudniony jest w Instytucie Metalurgii i Inżynierii Materiałowej Polskiej Akademii Nauk na stanowisku adiunkta

Rozszczepienie poziomów atomowych

Wybrane przykłady zastosowania materiałów ceramicznych Prof. dr hab. Krzysztof Szamałek Sekretarz naukowy ICiMB

ZWROTNICOWY ROZJAZD.

Ankiety Nowe funkcje! Pomoc Twoje konto Wyloguj. BIODIVERSITY OF RIVERS: Survey to students

WPŁYW SZYBKOŚCI STYGNIĘCIA NA WŁASNOŚCI TERMOFIZYCZNE STALIWA W STANIE STAŁYM

Chemia nieorganiczna. Copyright 2000 by Harcourt, Inc. All rights reserved.

Adres do korespondencji: Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej PAN, ul. Reymonta Kraków.

POLITECHNIKA ŚLĄSKA INSTYTUT AUTOMATYKI ZAKŁAD SYSTEMÓW POMIAROWYCH


SILUMIN OKOŁOEUTEKTYCZNY Z DODATKAMI Cr, Mo, W i Co

Domy inaczej pomyślane A different type of housing CEZARY SANKOWSKI

THERMODYNAMICS OF OXYGEN IN DILUTE LIQUID SILVER-TELLURIUM ALLOYS

Adres do korespondencji: Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej PAN, Kraków, ul. Reymonta 25

Fizyka i technologia wzrostu kryształów

CENTRA DEFEKTOWE W WYSOKOREZYSTYWNYCH WARSTWACH EPITAKSJALNYCH GaN

Proste struktury krystaliczne

MONOKRYSZTAŁY GaAs, InP I GaP DLA ELEMENTÓW OPTYKI W PODCZERWIENI

Projekty Marie Curie Actions w praktyce: EGALITE (IAPP) i ArSInformatiCa (IOF)

The Overview of Civilian Applications of Airborne SAR Systems

STRUCTURE AND PROPERTIES OF Ni-P/PTFE COMPOSITE COATINGS PRODUCED BY CHEMICAL REDUCTION METHOD

ROZPRAWY NR 128. Stanis³aw Mroziñski

Transkrypt:

PL ISSN 0209-0058 y' r ^m 1 mm INSTYTUT TECHNOLOGII MATERIAŁÓW ELEKTRONICZNYCH Nr 2 2010 T.38

INSTYTUT TECHNOLOGII MATERIAŁÓW ELEKTRONICZNYCH ul. Wólczyńska 133, 01-919 Warszawa sekretarz naukowy Ośrodek Informacji Naukowej tel. (48 22) 835 4416 i Technicznej (OINTE) fax: (48 22) 834 90 03 tel.: (48 22) 835 30 41-9 w. 129,498 e-mail: andrzej.jeienski@itme.edu.pl e-mail: ointe@itme.edu.pl http://itme.edu.pl/external-lib/index.html Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych wydaje dwa czasopisma naukowe, których tematyka dotyczy inżynierii materiałowej, elektroniki i fizyki ciała stałego, a w szczególności technologii otrzymywania nowoczesnych materiałów, ich obróbki, miernictwa oraz wykorzystania dla potrzeb elektroniki i innych dziedzin gospodarki: Materiały Elektroniczne - zawierające artykuły problemowe, teksty wystąpień pracowników ITME na konferencjach i Biuletyn PTWK, Prace ITME - zawierające monografie, rozprawy doktorskie i habilitacyjne I oraz stale aktualizowane katalogi i karty katalogowe technologii, materiatów, wyrobów i ustug oferowanych przez Inst^ut i opartych o wyniki prowadzonych prac badawczych, opisy nowych wyrobów, metod i aparatury Informacje można uzyskać: tel. (48 22) 834 97 30; fax: (48 22) 834 90 03 e-mail: itme@itme.edu.pl

INSTYTUT TECHNOLOGII MATERIAŁÓW ELEKTRONICZNYCH MATERIAŁY ELEKTRONICZNE KWARTALNIK T. 38-2010 nr 2 Wydanie publikacji dofinansowane przez Ministerstwo Nauki i Szkolnictwa Wyższego WARSZAWA ITME 2010

KOLEGIUM REDAKCYJNE: prof, dr hab. inż. Andrzej JELEŃSKl (redaktor naczelny) drhab. inż. Paweł KAMIMSKl (z-ca redaktora naczelnego) proj; dr hab. inż. Zdzisław JANKIEWICZ dr hab. ioż. Jan KOWALCZYK dr Zdzisław LIBRANT dr Zygmunl ŁUCZYŃSKI prof, dr hab. inż, Tadeusz ŁUKASIEWICZ prof, dr hab. inż. Wiesław MARCINIAK prof, dr inż. Anna PAJĄCZKOWSKA prof.drhab. inż. Władysław K. WŁOSIŃSKI nngr Anna WAGA (sekrelarz redakcji) Adres Redakcji: INSTYTUT TECHNOLOGII MATERIAŁÓW ELEKTRONICZNYCH ul. Wólczyńska 133, 01-9iy Warszawa, e-mail: ointef^itme.edu.pl; http://www.iime.edu,pl tel. (22) 835 44 16iuh«35 30 41 w. 454 - redaktor naczelny (22) 835 30 41 w, 426 - z-ca redaktora naczelnego (22) S35 30 41 w. 129 - sekrelarz redakcji PL ISSN 0209-0058 Kwariałnik noimvany na IL^de czusopism tittitkowych Ministersin'a JSunki t Sdtofmctwa flyisze^^t {O pkt.) SPIS TREŚCI WPŁYW KONCENTRACJI DONOROW NA WŁAŚCIWOŚCI I KONCENTRACJĘ CENTRÓW DEFEKTOWYCH W WARSTWACH EPITAKSJALNYCH 4H-SiC Micha! Koiiiihal i i i i i, 3 PROBLEMY WZROSTU MONOKJtYSZTALÓW FOSl-ORKU GALU (GaP) O ŚREDNICY 4" I ORIENTACJI <100-ORAZ <II1> Wacław Orłowski, Aleksundra Mirowska. Andrzej Hruban, Stanisława Strzck-cka WPŁYW STRUMIENIA FOTONÓW NA OBRAZY PRĄŻKÓW WIDMOWYCH MRPITS DLA RADlACY-fNYCH CENTRÓW DEFEKTOWYCH W MONOKRYSZTAŁACH KRZEMU Roman Kozłowski. Paweł Kamiński, Jarosław Żelazko WŁAŚCIWOŚCI FIZYCZNE NAN0PR0SZKÓWAł,0,-Ag WYTWORZONYCH METODĄ ROZKŁADU TERMICZNEGO - REDUKCJI ORAZ IMPREGNACJI NANOSREBREM KOLOIDALNYM Agam SidorowicŁ Audi-zej Olszyna. Agnic-szka Jastrzębska, Anloni Kunicki...i.10 STRESZCZENIA ARTYKUŁÓW PRACOWNIKÓW ITME 38 V Ki

Sircs/x/Jitiia anykiitów pracowników ITML STRESZCZENIA ARTYKUŁÓW PRACOWNIKOW ITME ChariicłeriMition oł pliukł- transition in strontiiim barium nioliute by KoncI nil'thoci Wokulski) A.', Piicek P.', Dcc.I.' t.ukakicwic/l'udeii!«/', Śwlrkimit/ \tarck' ' InsiiUilc ol' Matfrials Scicntc, Univcreily of Silesia, ul Iłankowii 12, 4(K)07 Kdldwice ' Institute ol' likcirnnic Matcn:ils rcc'hnnli>g>, ul Wólczjnskit 133, (M-Ml^i Wars/awa SftUd Slate Plwnnmi-nu. 1201(0, 264'2fi7 The (iigli quality (SBN611 single LTysIals wiihout any strialions were dbtaincd by Czochrulski pulling metliod. The leniperature tiepcmlcnce o)' ihe ladice puramcten.. ol" ihe tnvckiigatud crystals was studied using a precision X-ray Bond's method. Vhc ungular precision ot tlie goniometer I arcsine and mclric value ofcu Ka, (X = 1.54059292 A) allowed to obtain high precision and aceiiraey of liiltice parameter measurements. The received results ;imowed Ui determine ijie Curie lemperaitire and character of Ihe phase transition i[i this material. T he lattice parameter a nionotonically increases and shows hardly visiblt? inflection point ut 7'j.when increasing Ihe temperature. The temperature dependence of Ihe latticc parameter c displays quiie distinct temperature behaviour. Contrastingly, it decreases with increasing the temperature experiencing an evident anomaly in the vicinity of the structural phase transition point. Obtained value of the ferroeleciric phase transition point is 7", = 346 Ł 3K. Methylene blue iiileractiuns with chromosuniiil and plasniid DNA on scrcen-prinled carbon clectrodcs Palińska A', C;rari/ka A.', Kl/anowska II.', Kępska fj Zwiprkimsku Achiiiattivtii'/ ^l.<lint^ Maj- urawsku M.' ' DeparlintTil of CliemisLry, Llniverstiy ot Warsaw, 111, Puiiieura I, Wiirs/awa 3S Instiuilc of tilectronic Materials reelmology, ui. Woltzytiska 1 33. 01-<i 19 Wufiizawii Elcamatuitysix. 12. 22. (20jni, IJ<)6'UI3 Methylene huie (MB) is a typical photosensitizing agent and a ONA hyhridization indicator, but its modes of interaction with the I^NA molecules are not clearly described, particularly in relation to its elcctrochcmical oxidation signals. To probo the DNA-MB interactions we have used chromosomal salmon testes and supercoiled plasmtd sc pucwdna inimobilized on home-made screenprinted electrodes (SPHs> and a wide range of MH concentrations, from nano- to micromoiar. The applicability of the home-made screen-printed electrodes used for the DNA-MB studies were tested using standard calf thymus DNA, Two MB oxidation peak signals: MB(I) at ca. (),IR V and MB(ll) at 0 V vs. Ag/AgCI were detected within t 10-15% standard deviation, signals different from adsorbed MB signal (-0.25 V. pll 471. The MB(I) signal, seen when both DNAs were used, showed two plateaus, one at nano- and another at micromoiar MB concentrations: these were accompanied by the changes in the oxidation signal at 0.98 V. usually attributed to guanine oxidation. In contrast, the MBdl) signal was only seen for salmon testes DNA. indicating various mode of MB interactions with chromosomal and phismid DNA. In the presence of MB. the guanine related signal (Ol at 0.9K V has been amplified significantly (lox), allowing for the identilication of the DNAs at low DNA concentrations, the feature particularly useful in Ihe plasmid sc puc19 detection. The use of another DNA intercalator, riboflavin (Rl'l. aided in the identification of the relation between tmb)u MB(II), and G oxidation signals.

Sírcwc/eiua iirtyknliw pnitownikow l'l"ml- Growth kinetics of epitaxial («raphene on SiC substrates Druttjnxka A.', Crodcck) Kucper*-', Strupiiiskj Wlod/imier/', Bożek R.', Koronii K.I'.WVysmulekA,'. Slvtintpwhk) tł', Buranowski Jactk'*^ ' Instinite or ExpermietiiJi! Physics, Tacuity nf Physics, University ufwareaw, ul. Mfi>a 69. fmisl Warszawa InstitLiie of Etecironic Materials Technology, ul. Wólczyńska Ol-<)iy Warszawa PhvxiaU Review B. HI, 24. POtn^. 245410.245413 (^)plical absorption nnd Raman scattenng stttdics of epitaxial grapliene structures obtained by annealing of carbon tenmnaied face oi' 4i-I-SiC({)0(l-1) on-axis substrains using slundard clicmical-vapor deposit i (111 reactor are presented. Two series nf samples grown at diherent argon pressures in the reactor and diltereni annealing limes were studied Optical absorption and Raman scattering were used lo defemnne the number of grapliene layers Ibmied on tlic substrate surface. The observed dependence of llie number of graphene layers formed on annealing tmic and argon pressure strongly indicates that the guiwlh kinetics of grapliene is limited by Si evaporation and two-dmicnsional Si diltusion. Cliiiructcri/ation orviinndium (iopecl 4H- iinci fth-sic ( town by PVT method using the open st'cd backside Kacka-D/ifik«Kalar^yna', lymicki Kroil', Gr8sza krz>s/lof'^, Rar/kttwfc/ Murctn\.lakicia Kafat'^ K<>/ut>al Micluil',.lurkiewic/-\VcgntT ITihitta', Br/o- /.u>iükt Ai)dr/cj', Dlduszk«Pk-rsa Mirosław', KO^CÍOM IC/. Kintía'^, Pawłowski Mariusz', Krupka J,"* ' Institute tli" Meclronic Materials Teclinnlogy, ul. WólwyńsU 133.1)1-41') Warszawa " liiktitiite cif Physics, Polisli Acadcriiy tif Sciences, Al. Lotników 02-(>6S Warswiwa Warsaw University of Technology, Faculty of Mfttertals Science and Engineering, ul Wołoska N!, (C-507 Warszawa * Instituti: ol' Mio'oekcironics and Optoelectronics ol' Faculty of (-.Icclronics and Intbmtalion Technology of Warsaw Linivcrsity or Technology. "I. Koszykowa 75, lhi-662 Warszawa MdUnttis iicwtwc Fonm. f>45-f>4fi (20ÍÍ)), 21-24 Results of vanadiujn doping in PT SiC bulk giowlh by the use of the seeding technique with an open seed backside are shown. Structural and electrical properties of 4H and íim-sic;v were investigated b> a variety of experimental methods. In the crystal studied, ihe solubility limit of V in SiC was exceeded and stmctural defecto consisting of V-ricli precipitates. Electronie structure and mat^netic properties of TiOj-MnTiO, eutecticit S/ubka Magdalena'-^,Taliki;.', Kirfttdziejak Katarzy Pawlak Oonita A.^ ' Institute of Physics, University ol Silesin. ul. Uniwersytecka 4, 4tl-(107 Kaiowicc Institute of Electronic Materials Technology, ul. Wólczyiiska 133, (11-919 Warszawa Jtiurnal of Pinsks: Conferemi-.Vt-ijf.i 200 f2f)ffh 072097 MnTiO, single crystals and a sclf-organi/ed TiO,- MnTiO, culcctic grown by the inicro-pulling down method from a TiO,-MnO system were examined by SODll^ magnetometry and XPS photoclectron spectroscopy. The measurements on the MnTiO, single crystals and eutuctic show that mangencse is in one Mn-' ionic state with an citective magnetic moment of about 5.8 Feiri magnetic-1 ike behaviour was obsen ed due to nonstoichiomctry. For the single crystals, deficiency of Ti and enhancement of Mn were found. For the TiO,-MnTiO, cutcctic the higher amount of titanium and oxygen i.s explained by the presence of the TiO, phase. Optical operation by etastooptical dispersion of Nd'Cuntalning oxide crystals Mujt.'lirnw<tki A.'. Swirkowicz Maiek', O/f;» K.*, Kiivk I. V.«' Institute of Applied Physics, Mihiary University oi Technology, ul. Kaliskiego 2. ihl-ytm Wars/awa ' Institute ol' Flectronic Materials Technology, ul Wólczyńska 133. 01-919 Wan^zawa ' Chair of Public Health, Częstochowa Technological University, At Armii Krajowej 36B. 42-2CK) Częstochowa Kleetrical liiigeenering IJeparlincnt. Technological University of Częstochowa, Al. Amnii Krajowej 17^19, 42-2(K) Częstochowa ^ Department of Physics and Astronomy College of Sciencc, Kiti^! Soud University. Riyadh 11451, Saudi Arabia Optica Lonmumkalions 2SJ i20it /.m-l.mi The dispersion of the pie/ooptieal coelticienls niduced by exienial tight for ncodymium-contiiining NdGaO,, IC,Nd(MoOJ,, a-rbnd( WO^K crystals was discovered. As a pumping laser we have used NdiYACJ laser possessing power density varying from 0.2 up to I GW/cm-. pulse dttnition 15 ns and frequency repetition If) Hz. The dispersion of the piezooptical cocffjcients was evaluated in the spectral range 450-910 nni. We have found that il- Umiination by the laser pulses with power density up to 1 OW' cm- cause substantial changes of the 30

Streszczenia artykułów pracowników ITME piezooptical coefflcients in these crystals. However, behaviour of the obtained dependences is substantially diliercfit for all ihe compounds. The possible origins of tl)e observed eltects are considered. Structural and magnetic properties of the ball milled alloy Grubias Agnies/ka', Kopct'wicz Micłial', Oleszak D.^, Lalticb J.% Kowalczyk IVl/, Pękała M,' ' Institute of Electronic Materials Technology, ul. Wólczyiiska 133, 01-919 Warszawa ' Faculty of Material.'. Science and Engineering, Warsaw University of Technology, ul. Wołoska 141, 02-507 Warszawa ^ Faculty of Cliemistry, University of Warsaw, AL Żwirki i Wiginy 10), 02-089 Warszawa Jounial of Pfiysicw: Con/ifrence Series 200 (2010} t)s2007 The powder was prepared by highenergy ball milling of (he melt-spun ribbon. The structure of the samples was characterized by X-ray diffraction and transmission Mossbauer spectroscopy, The as-quenched alloy was partially cry.stalline with a contribution ol'the disordered cubic FePt solid solution. The ball milling of Ihe ribbon led to the separation of (he FeB regions from the disttrdered precursor. Annealing of the as-milled powder caused the Ibrmation of the tianocrystallhie ordered tetragonal FePl and Fe,B phases. Hysteresis loop and magnetization vs, temperature measurements revealed differences in magnetic properties between the as-milled and annealed powders. The later exhibited hard magnetic properties with coercivily of about 355 ka m*'. and limitation in making genuinely 3D materials In order to overcome these problems an overlap between metamaterial concepts and materials science is necessary. Engineered self-organization is presented as a future approach to metamaterial manufacturing. Using directional solidification of eutectics, the lirst experimental realization of self-organized particles with a split-ring resonator-like cross section is demonstrated, This unusual morphology'microstructure of the eutecitc composite has a fi^actalcharacter. With the use of TEM and XRD the clear influence of the atomic crystal arrangement on the microstructure geometry is presented. The materials obtained present very high anisotropy and can be obtained in large pieces. Metallodielectric structures can be created by etching and filling the space with metal. The next steps in the development of self-organized materials exhibiting unusual properties are discussed. How Car arc we from making metamaterials by self-organization? Particles with an SRRlike geometrj' Unrota A. Pawliik', Sebastian Turczyński', Marcin Gaje', Katarzyna (viilod/iejak', Ryszard Diduszko', k. Rażniatowski', J. Smałc\ I. Vcndlik^ ' Institute ol' Electronic Materials Technology, al. Wólczyńska 133. ()l-9iy Warszawa ' łiepartment of Materials Science and Engineering Waraaw University oftechnology. iil. Wołoska 141, 02-507 Warszawa ' St.-Petersburg Electrochemical University Department of Microeicctronics aiid Radio Engtnnering, 5, Pmf. Popov Str., 197376 S[.-Petersburg, Russia Mh'mced FuiiaiomU Kfaieriats. 20. 2010.!i 16-! 24 Metamaterials otternew unusual electromagnetic properties, which have already been demonstrated, any many postulated new functionalities are yet to be realized, Currently, however, metamaterials are mostly limited by naitow band behavior, high losses. 40

Wskazówki dla autora Redakcja czasopisma Materiaty Elektroniczne prosi o nadsytanie artykutów pocztą elektroniczną pod adres ointe@sp.itme.edu.pl lub na nośniku magnetycznym w następujących formatach: Tekst (edytory tekstu) Grafika Word 6.0 lub 7.0 PCX, TIF, BMR WFM, WPG 1. Grafika (materiały ilustracyjne) powinny być zapisane w oddzielnych plikach. Każdy materiał ilustracyjny (rysunek, tabela, fotografia itp.) w innym. Pliki mogą być poddane kompresji: ZIR ARJ. 2. Objętość do 15 str. 3. Tekst powinien być pisany w sposób ciągty. Materiaty ilustracyjne (rysunki, tabele, fotografie itp.) powinny być umieszczone poza tekstem. Podpisy do rysunków... itp. w języku: polskim i angielskim, również winny być zapisane w oddzielnym pliku. 4. Na pierwszej stronie artykutu powinny znajdować się następujące elementy: tytuł naukowy, imię i nazwisko autora, nazwa miejsca pracy, adres pocztowy, e-mail. Na środku stronicy tytuł artykułu, również w języku angielskim. 5. Materiaty ilustracyjne, streszczenie, bibliografia, wzory: - Do artykułu należy dołączyć streszczenie nie przekraczające 200 słów w języku polskim i angielskim. - W przypadku wzorów i materiałów ilustracyjnych nie będących oryginalnym dorobkiem autora/ów należy zacytować ich źródło, umieszczając je w bibliografii. - Wzory należy numerować kolejno cyframi arabskimi. - Pozycje bibliograficzne należy podawaae w nawiasach kwadratowych w kolejności ich występowania. Przyktad na opis bibliograficzny artykutu z czasopisma: [1] Tomaszewski H., Strzeszewski J., Gębicki W.: The role of residual stresses in layered composites of Y-ZrOg and AI2O3. J.Europ.Ceram.Soc. vol. 19,1990, no. 67,255-262 Przyktad na opis bibliograficzny książki: Raabe J., Bobryk E.: Ceramika funkcjonalna. Warszawa: Politechnika Warszawska 1997, 152 s. 6. Autora obowiązuje wykonanie korekty autorskiej.

INSTYTUT TECHNOLOGII MATERIAŁÓW ELEKTRONICZNYCH ul. Wólczyńska 133, 01-919 Warszawa tel./fax-dyrektor: (48 22) 835 90 03 e-mail: ltme@ltme.edu.pl tel.:(4822)8353041-9 http://www.ltme.edu.pl Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych jest wiodącym polskim ośrodkiem prowadzącym badania naukowe oraz prace badawczo-rozwojowe w zakresie fizyki ciała stałego, projektowania i technologii nowoczesnych materiałów, struktur i podzespołów dla mikroi nanoelektroniki, fotoniki i inżynierii. Badania te dotyczą następujących grup materiałów i ich zastosowań w postaci podzespołów: materiały nowej generacji: grafen, metamateriały, materiały samoorganizujące się i gradientowe, nanokryształy tlenkowe w różnych matrycach (szkło, tworzywa sztuczne); materiały półprzewodnikowe i ich zastosowania: - monokryształy hodowane metodą Czochralskiego Si, GaAs, GaP, GaSb, InAs, InSb, InP i transportu z fazy gazowej SIC, o średnicach do 10 cm; - warstwy epitaksjalne półprzewodnikowe uzyskiwane za pomocą metod CVD i MOCVD z Si, SIC, GaN, AIN, InN, GaAs, GaP, GaSb, InP, InSb, oraz opartych o nie związków potrójnych i poczwórnych; - podzespoły dla elektroniki i fotoniki: diody Schottky'ego, tranzystory FET i HEMT, lasery, fotodetektory IR i UV; materiały tlenkowe i ich zastosowania: - monokryształy, YAG domieszkowany: (Nd, Yb, Er, Pr, Ho, Tm, Ho, Cr), YVO:(Nd, Tm, Ho, Er, Pr) i podwójnie domieszkowany: (Ho+Yb, Er+Yb), GdV04: (Er, Tm); LuV04: (Er, Tm); GdCoB: (Nd, Yb) dla zastosowań laserowych; kwarc, LiNbOs, LiTaOs, SrxBa(i.x)# Nb20g dla zastosowań elektrooptycznych i piezoelektrycznych; CaF2, BaF2, jako materiały przezroczyste; Ca4Gd0(B03)3 jako materiał nieliniowy oraz NdGaOs, SrLaGa04, SrLaAI04, jako materiały podłożowe dla osadzania warstw nadprzewodników wysokotemperaturowych; - szkła o zadanych charakterystykach spektralnych i szkła aktywne; - ceramiki (AI2O3, Y2O3, Zr02, Si3N4), ceramiki przezroczyste i aktywne; - warstwy epitaksjalne YAG: Nd, Cr dla zastosowań laserowych; - światłowody specjalne, fotoniczne, aktywne i obrazowody; - podzespoły dla elektroniki i fotoniki: filtry i rezonatory z akustyczną falą powierzchniową; soczewki dyfrakcyjne, maski chromowe do fotolitografii; inne materiały dla elektroniki: - kompozyty metalowo-ceramiczne, kompozyty metalowe; - złącza zaawansowanych materiałów ceramicznych (Si3N4, AIN), kompozytów ceramiczno-metalowych i ceramik z metalami; - metale czyste (Ga, In, Al, Cu, Zn, Ag, Sb); - pasty do układów hybrydowych; - materiały dla jonowych ogniw litowych, ogniw paliwowych i kondensatorów. Instytut prowadzi również badania i wykonuje usługi w zakresie: innych technologii HI-TECH: fotolitografia, elektronolitografia, osadzanie cienkich warstw, trawienie, obróbka termiczna; charakteryzacji materiałów: spektrometria mas i Móssbauera, elektronowy rezonans paramagnetyczny (EPR), rozpraszanie wsteczne Rutheforda (RBS), absorpcja atomowa, wysokorozdzielcza dyfrakcja rentgenowska, spektroskopia optyczna i w podczerwieni (FTIR), pomiary widm promieniowania, fotoluminescencja, mikroskopia optyczna i skaningowa mikroskopia elektronowa i sił atomowych (AFM); spektroskopia głębokich poziomów: pojemnościowa (DLTS) i fotoprądowa (PITS), pomiary impedancyjne i szumów, temperaturowa analiza fazowa, pomiary dyfuzyjności ciepła.