Przedsiębiorstwo Produkcyjno Handlowo Usługowe BIT spółka cywilna

Transkrypt

1 Projekt jest współfinansowany ze środków Europejskiego Funduszu Rozwoju Regionalnego Unii Europejskiej w ramach projektu Wielkopolskiego Regionalnego Programu Operacyjnego na lata , oś priorytetowa 1 innowacyjna i konkurencyjna gospodarka, działanie 1.5 Wzmocnienie konkurencyjności przedsiębiorstw, poddziałanie Wzmocnienie konkurencyjności kluczowych obszarów gospodarki regionu Przedsiębiorstwo Produkcyjno Handlowo Usługowe BIT spółka cywilna Numer postępowania: PPHU BIT 1-PN/2016 Wronki, dnia 4 stycznia 2017 roku Wszyscy Wykonawcy, ubiegający się o udzielenie zamówienia niepublicznego Dotyczy: postępowania o udzielenie Zamówienia Publicznego prowadzonego w trybie Przetargu Nieograniczonego na zasadach określonych w Warunkach Zamówienia, na zadanie pod nazwą: ZAKUP MASZYNY I OPROGRAMOWANIA PRZEZ FIRMĘ BIT S.C. W MIEJSCOWOŚCI OSTRORÓG W CELU WDROŻENIA INNOWACYJNEJ TECHNOLOGII NAPYLANIA WARSTW METALICZNYCH METODĄ SPUTTERINGU. Odpowiedź na zapytania w sprawie Warunków Zamówienia nr 1 Działając na podstawie rozdziału VII ust. 3 i 4 Warunków Zamówienia, Zamawiający informuje, że w przedmiotowym postępowaniu wpłynęły wnioski o wyjaśnienie treści Warunków Zamówienia. Zamawiający niniejszym udziela odpowiedzi na zadane pytania. Treść pytania nr 1: Zamawiający wymaga dostarczenia systemu z 1 magnetronem z możliwością późniejszego dodania 2 kolejnych magnetronów. Bardzo prosimy o wyjaśnienie jaka wielkość magnetronów oraz jaki kształt jest wymagany (okrągły czy prostokątny) dla magnetronu zainstalowanego w komorze oraz magnetronów, które mają być zainstalowane w przyszłości. Zamawiający informuje, że kształt magnetronów (zarówno pierwotnych, jak i tych, które mają być możliwe do zastosowania w przyszłości) powinien być prostokątny, o maksymalnej możliwej długości (najdłuższy bok), by w pełni wykorzystać wielkość komory roboczej. Minimalna długość magnetronu to 1000 mm. Treść pytania nr 2: Bardzo prosimy o wyjaśnienie jaki rodzaj podłóż zamierzacie Państwo poddawać procesowi sputteringu (płaskie czy 3D)? Jaka będzie ich wielkość oraz sumaryczna waga w ramach pojedynczej serii? Jaka powierzchnia będzie wymagana do zamocowania podłóż w ramach pojedynczej serii? P.P.H.U. BIT spółka cywilna, ul. Działkowa 17, Wronki Strona 1 z 7

2 Zamawiający informuje, że procesowi mają być poddawane detale przestrzenne (3D). Niemożliwe jest określenie ich dokładnego kształtu, liczby czy sumarycznej wagi. Przedmiot zamówienia powinien umożliwiać napylenie detali o różnych wymiarach i wadze. Zamawiający na obecnym etapie nie jest w stanie przewidzieć, jakie detale zostaną poddane procesowi. Powierzchnia robocza (do zamocowania detali poddawanych procesowi) powinna być możliwie największa i dostosowana do wymiarów magnetronów. Przy głębokości komory minimum 1300 mm oraz długości magnetronów minimum 1000 mm, głębokość robocza komory powinna wynosić minimum 1000 mm. Treść pytania nr 3: Zamawiający wymaga dostarczenia układu generowania próżni wysokiej opartej na dwóch pompach dyfuzyjnych o minimalnej łącznej przepustowości l/s. Czy Zamawiający zgodzi się na zastosowanie jednej pompy dyfuzyjnej o wydajności l/s zamiast dwóch o minimalnej łącznej przepustowości l/s, o ile ta druga pompa nie jest pompą zapasową? Zastosowanie dwóch pomp olejowych może stanowić problem w momencie, gdy pracują one równocześnie, w przypadku niezrównoważenia prędkości ich pracy, co jest bardzo trudne do kontroli (starzejąca sie grzałka. różnica w temperaturze pułapek itp) może występować pompowanie oparów oleju do komory próżniowej podczas procesu powodując jej zanieczyszczenie. Zdecydowanie taka konfiguracja nie jest rekomendowana. W związku z powyższym prosimy o zmianę wymagań w tym zakresie. Zamawiający informuje, że wymagania nie zmieniają się - wymagany jest układ generowania próżni wysokiej opartej na dwóch pompach dyfuzyjnych o minimalnej łącznej przepustowości l/s. Treść pytania nr 4: Prosimy o wyjaśnienie jaki ma być rozmiar obydwu karuzel (systemu satelitarno-obrotowego)? Czy Zamawiający może udostępnić rysunek karuzeli oraz satelitów bądź opisać dokładne wymagania w tym zakresie. Zamawiający informuje, że średnica karuzel ma być dostoswana do wielkości komory, tj. przy średnicy wewnętrznej komory minimum 1000 mm, karuzele powinny posiadać rozmiar zbliżony do tej wartości. Zgodnie z opisem przedmiotu zamówienia, Zamawiający wymaga możliwości stosowania 4 lub 6 satelit (otwory montażowe i konstrukcja komory powinny przewidywać oba warianty). Treść pytania nr 5: Prosimy o opisanie wymagań co do wózków technologicznych, jaki jest wymagany ich rozmiar? Zamawiający informuje, że wózki technologiczny powinny być dostosowane do karuzeli, satelit, komory próżniowej i wszelkich elementów wykorzystywanych w trakcie procesu. Wózki technologiczne mają ułatwiać swobodny montaż i demontaż karuzeli. P.P.H.U. BIT spółka cywilna, ul. Działkowa 17, Wronki Strona 2 z 7

3 Treść pytania nr 6: Informujemy, że zgodnie z naszą najlepszą wiedzą skład naniesionych warstw dla targetów inox oraz mosiądz nie będzie taki sam jaki jest skład targetów. czy w związku z tym Zamawiający wymaga dostarczenia tych targetów? Czy Zamawiający pominie te materiały w wyborze trzech wskazanych w Umowie procesów produkcyjnych? Zamawiający informuje, że nie dopuszcza pominięcia tych materiałów. Treść pytania nr 7: Prosimy o podanie wymagań Zamawiającego co do procesów produkcyjnych zgodnie z par. 1 pkt. 11 Umowy w zakresie opisu rodzaju elementów, rodzaju powłok oraz wymagań jakościowych co do samych powłok. Zamawiający informuje, że wymagania te zostaną podane w terminie do 60 dni od planowanej daty realizacji zamówienia przez Wykonawcę. Treść pytania nr 8: Prosimy o wyjaśnienie wymagania dotyczącego oprogramowania PLC Tworzenie, przesyłanie, prezentowanie i zabezpieczanie informacji produkcyjnych". Jaki typ informacji ma Zamawiający na myśli? Czy chodzi o receptury procesowe? Co Zamawiający ma na myśli poprzez stwierdzenie prezentowanie? Zamawiający informuje, że oprogramowanie powinno umożliwiać zapisanie minimum 5000 receptur napylania oraz rejestrować dane procesowe (parametry pracy maszyny w trakcie każdej zmiany produkcyjnej) i archiwizować je przez okres minimum 10 lat. Wśród danych procesowych wyróżnia się m.in. ciśnienia - w komorze, w układzie próżniowym, czas cyklu podzielony na etapy, natężenie prądu, data i godzina każdego cyklu oraz inne istotne dane procesowe. Prezentowanie oznacza możliwość łatwego dostępu do danych procesowych. Zabezpieczanie oznacza archiwizację danych. Treść pytania nr 9: Proszę o wskazanie na ilu i jakich komputerach Zamawiający chce posiadać zainstalowane oprogramowanie sterujące reaktorem? Czy Zamawiający ma sprawną infrastrukturę komunikacyjną, jeśli tak to jakiego typu. Czy mamy rozumieć, że Zamawiający nie wymaga dostarczenia komputera sterującego, ma natomiast zamiar wykorzystać w tym celu swoją infrastrukturę? Zamawiający informuje, że wymaga dostarczenia komputera sterującego, który będzie kompatybilny w zakresie oprogramowania / systemu operacyjnego z komputerami Zamawiającego. Kompatybilność ma umożliwiać zdalny podgląd, kontrolę oraz sterowanie pracą napylarki poprzez łącze internetowe oraz możliwość przenoszenia zapisanych receptur oraz danych procesowych z komputera sterującego do komputerów Zamawiającego. Zamawiający stosuje posiada zainstalowany system operacyjny Windows na wszystkich komputerach. P.P.H.U. BIT spółka cywilna, ul. Działkowa 17, Wronki Strona 3 z 7

4 Treść pytania nr 10: Co Zamawiający doładnie ma na myśli mówiąc o tym, że Zamawiający przyłącza niezbędne do wykonania Przedmiotu Zamówienia? Czy chodzi o energię elektryczną, czy też gazy procesowe? Czy Zamawiający posiada w miejscu instalacji urządzenia dostęp do energii elektrycznej wymaganej do podłączenia reaktora oraz pomp, kanału wentylacyjnego, gazów procesowych. Zamawiający informuje, że zapewni energię elektryczną, gazy procesowe, chiller i sprężone powietrze. Treść pytania nr 11: Prosimy o potwierdzenie, że odpowiedzialność Wykonawcy za dostarczone urządzenia (w tym ubezpieczenie, stan techniczny, itp.) do czasu protokolarnego odbioru będzie wyłączona, jeżeli - w okresie od przekazania urządzenia do czasu jego odbioru - w urządzeniu powstanie szkoda z przyczyn za które odpowiedzialność ponosi Zamawiający według przepisów o przechowaniu. Prosimy o potwierdzenie, że Zamawiający zapewni w tym czasie możliwość nieodpłatnego przechowania urządzenia w pomieszczeniu zamkniętym, bez możliwości dostępu przez osoby postronne. Zamawiający informuje, że w okresie od dostawy do czasu odbioru technicznego urządzenie będzie przechowywane w pomieszczeniu zamkniętym, niedostępnym dla osób niebędących pracownikami Zamawiającego. Treść pytania nr 12: Prosimy o potwierdzenie, że przypadki opóźnień", określone w 8 pkt 1) i 2) wzoru umowy dotyczą wyłącznie przypadków, gdy przekroczenie terminów następuje z przyczyn za które Wykonawca ponosi odpowiedzialność. Zamawiający informuje, iż przypadki późnień określone w 8 ust. 1 pkt 1) i 2) wzoru umowy dotyczą wyłącznie przypadków, gdy przekroczenie terminów następuje z przyczyn leżących po stronie Wykonawcy. Treść pytania nr 13: Prosimy o wskazanie sposobu skalkulowania kar umownych z tytułu nieterminowego dostarczenia urządzenia oraz nieterminowego usunięcia wad urządzenia, określonych w 8 ust. 1 pkt 1) oraz 2) wzoru umowy, w szczególności w przypadku zwłoki powyżej odpowiednio 10 i 20 dni. Prosimy o zmniejszenie wysokości kar umownych określonych w 8 ust. 1 pkt 1) do wysokości 0,2 % wynagrodzenia umownego netto w każdym przypadku zwłoki w dostarczeniu urządzenia. Zaproponowane we wzorze umowy kary są rażąco wysokie i niespotykane przy zamówieniach podobnego rodzaju, a ich utrzymanie na tym poziomie powoduje brak równowagi praw i obowiązków stron umowy Zamawiający informuje, że zmienia treść 8 ust. 1 pkt 1) wzoru umowy, w następujący sposób: P.P.H.U. BIT spółka cywilna, ul. Działkowa 17, Wronki Strona 4 z 7

5 Jest: za opóźnienie w wykonaniu Przedmiotu Umowy, w wysokości 0,5% wynagrodzenia netto określonego w 6 ust. 1 za każdy dzień opóźnienia, Powinno być: za opóźnienie w wykonaniu Przedmiotu Umowy, w wysokości 0,2% wynagrodzenia netto określonego w 6 ust. 1 za każdy dzień opóźnienia, Treść pytania nr 14: Prosimy o rozważenie wprowadzenia do umowy limitu ograniczającego możliwość dochodzenia odszkodowania z tytułu niewykonania lub nienależytego wykonania umowy w formie kar umownych na poziomie 10% wartości umowy netto. W przypadku szkody przewyższającej ten limit Zamawiający będzie uprawniony do dochodzenia odszkodowania na zasadach ogólnych, a więc po udowodnieniu szkody, jej wysokości oraz adekwatnego związku przyczynowo-skutkowego jej powstania. Zamawiający informuje, że nie wyraża zgody na powyższą zmianę. Treść pytania nr 15: Zgodnie z praktyką rynkową przy dostawie tego rodzaju urządzeń prosimy o wyłączenie możliwości dochodzenia przez Zamawiającego odszkodowania z tytułu utraconych korzyści (lucrum cessans) związanych z ewentualnym niewykonaniem lub nienależytym wykonaniem umowy. Zamawiający informuje, że nie wyraża zgody na powyższą zmianę. Treść pytania nr 16: W nawiązaniu do zamówienia na dostawę maszyny do rozpylania i pokrywania metalami proszę o sprecyzowanie czy zamawiający chce konwencjonalnej maszyny do sputteringu czy wysokiej energii sputtering. Porównanie I opis jest poniżej w j. angielskim ale chyba to zrozumiecie. High Power Impulse Magnetron Sputtering or HIPIMS is a relatively recent advance in sputtering technology used for the physical vapor deposition of thin film coatings based upon Magnetron Sputtering with a high voltage pulsed power source. HIPIMS utilizes a very high voltage, short duration burst of energy focused on the target coating material to generate a high density plasma that results in a high degree of ionization of the coating material in the plasma. By pulsing the target coating material with bursts of high voltage energy with a length of ~100 µs on the order of kw cm 2 but with a relatively short duration or Duty time of less than 10% - allows for a large fraction of the sputtered target material to be ionized in the plasma cloud without overheating the target and other components of the system. The target has a chance to cool during the predominant Off duty time which results in a low average cathode power of 1 10 kw which helps maintain process stability. First reported and patented in 1999 by V. Kouznetsov, HIPIMS within a relatively short period of time has attracted the attention of many top researchers and industry leaders as the innovative coating technique of choice. The main advantage of HIPIMS coatings are that they produce much more dense, harder and smoother coatings compared to more conventional thin film deposition techniques. P.P.H.U. BIT spółka cywilna, ul. Działkowa 17, Wronki Strona 5 z 7

6 The main advantages of HIPIMS over conventional sputtering is the control of a pulsed powerful high voltage that ionizes a very high percentage of the target material without overheating, creating a dense plasma cloud with virtually no droplets. This produces high performance dense coatings with good adhesion that are extremely smooth The high voltage levels for short durations of time and the increased velocity of ionization of the target coating material results in HIPIMS having improved film adhesion and enables more uniform films to be deposited on complex shaped substrates. These advantages are making HIPMIS increasingly popular for tough, very high density films that have high columnar growth with no voids on substrates where more conventional, line-of-site deposition does not fill the Hills and valleys of irregular shaped substrates such as drills or other cutting tools. Pulsing dramatically changes the energetics of the plasma stream by producing ionized atoms with much higher energy levels than conventional sputtering that greatly increases the probability of ionizing collisions, where sputtered material is ionized colliding with process gas atoms. HIPIMS generates a very high density plasma on the order of 1013 ions cm 3. Some research papers report up to a 90% increase in the fraction of ionized sputtered material compared to conventional Magnetron Sputtering. HIPIMS coating combines the advantages of high intensity arc technology with Magnetron Sputtering. A key advantage of HIPMIS is simplicity, because with a little retooling any existing Magnetron Sputtering system can be turned into an HIPMIS system. Basically, all one needs in many cases is an HIPIMS power supply. When the high intensity pulse is applied a dense doughnut-shaped plasma expands from the erosion zone of the target into the magnetron. At the highest level of the discharge the plasma density can exceed 1019 electrons/m3. This expanding doughnut-shaped plasma is then reflected off the chamber walls back into the center of the chamber, resulting in a second density peak several hundreds of µs after the electrical pulse is terminated. The initial HIPIMS discharge is dominated by gas ions, whereas the secondary density peak reflecting off the chamber walls has a strong component of self-sputtering electrons. For some coating materials this secondary reflective peak can become completely selfsputtering. This trapping of secondary electrons plays a major part in the creation of the dense plasma. This results in another advantage of HIPIMS, which is that it can be used on more temperature sensitive substrates due to the cooler plasma that reaches the substrate as a result of the increased ionization that is the result of the secondary gas collisions. Another useful application of HIPIMS is with the pretreatment of a substrate surface prior to coating to Cleanse a surface of impurities for greater adhesion. HIPIMS bombards the surface with high energy gas ions removing the natural oxide layer that can be found on most substrates to be coated. The high ionization of the metallic plasma produces a deep etching and ion implantation ideal for high performance products like automotive parts, metal cutting tools, non-corrosive and decorative finishes. There are two primary drawbacks with HIPIMS. One is its high power requirements can require more energy for equivalent deposition rates than conventional magnetron sputtering. The energy required for equivalent deposition rates compared to conventional magnetron sputtering are within the 30-80% range. Arcing on the cathode or target surface is another problem with HIPIMS. Light arcs that look like sparks on the target material are a relatively minor issue and don t do much damage. Heavy arcs however, can be seen as plasma columns spreading from the cathode target material into the plasma. These arcs can overheat the target resulting in the ejection of microdroplets that causes problems with a uniform film growth. The causes of HIPIMS arcs are related to the purity of the target, the surface structure, and dielectric particles on the target surface that can take on a high voltage and then discharge producing the arc. Arcing can also be influenced by the melting point of the target coating materials. High melting point targets like Ti, Cr, and Ta have a low arcing rate, whereas materials with lower melting points like Al and Cu having a much greater tendency to arc. P.P.H.U. BIT spółka cywilna, ul. Działkowa 17, Wronki Strona 6 z 7

7 HIPIMS is becoming the emerging coating technology of choice for many researchers and leading edge developers that produce smoother, harder and denser coatings than conventional coating techniques. The fact that most existing Magnetron Sputtering systems can be adapted to HIPIMS by modifying the power source promises to make it an economical solution for advanced thin film growth control and applications in the future. Zamawiający informuje, że wymaga konwencjonalnej napylarki magnetronowej, bez HIPIMS. Jednocześnie, Zamawiający wskazuje, że postępowanie prowadzone jest w języku polskim. Dotyczy to zarówno składanych zapytań do treści Warunków Zamówienia, jak i samych ofert. Pytania do treści Warunków Zamówienia złożone w innym języku niż język polski, nie będę rozpatrywane. Oferta złożona w innym języku niż język polski nie będzie rozpatrywana i zostanie odrzucona. Wskazać bowiem należy, że zgodnie z treścią Rozdziału IX ust. 2 pkt 2.2. Warunków Zamówienia Ofertę składa się w formie pisemnej pod rygorem nieważności, w języku polskim. Termin oraz miejsce składania i otwarcia ofert pozostają bez zmian. Niniejszy dokument stanowi integralną część Warunków Zamówienia i jest wiążący dla wszystkich Wykonawców ubiegających się o udzielenie przedmiotowego Zamówienia Publicznego. P.P.H.U. BIT spółka cywilna, ul. Działkowa 17, Wronki Strona 7 z 7