EGZEMPLARZ AECIHWALNY RZECZPOSPOLITA POLSKA OPIS OCHRONNY PL 58904 WZORU UŻYTKOWEGO Y1 (2U Numer zgłoszenia: 106253 (si) Intel7: Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej @ Data zgłoszenia: 21.03.1997 B65D 5/62 B65D 85/42 Pudełko V}3) Zgłoszenie ogłoszono: 28.09.1998 BUP 20/98 Uprawniony z prawa ochronnego: AUSTROPACK Spółka z o.o., Warszawa, PL Vv O udzieleniu prawa ochronnego ogłoszono: 30.11.2001 WUP 11/01 Twórca wzoru użytkowego: Edward Krolski, Warszawa, PL o &\ 00 Oh
10 6 2 5sm Pudełko Przedmiotem wzoru użytkowego jest pudełko przeznaczone do pakowania wyrobów łatwo ulegających uszkodzeniu, zwłaszcza szklanych. Znane jest z opisu ochronnego wzoru użytkowego Nr Ru 52105 pudło z tektury falistej, które ma konstrukcję ścian bocznych składającą się z co najmniej dwóch warstw tektury falistej dwu warstwowej sklejonych ze sobą powierzchniami falistymi zacho dzącymi na siebie grzbietami. Każda następna warstwa jest do klejona powierzchnią falistą do gładkiej powierzchni poprzed niej warstwy. Znane dotychczas pudełka charakteryzują się tym, że mają ściany obustronnie gładkie, a zdobienia są na nich wykonywane najczęściej techniką drukarską. Pudełko z tektury falistej i papieru, według wzoru użytko wego charakteryzuje się tym, że ma ściany zbudowane z jednej warstwy tektury falistej, która jest połączona jednostronnie z co najmniej jedną gładką papierową powłoką usztywniającą. War stwa tektury falistej jest zwrócona stroną falistą na zewnątrz pudełka. Falista powierzchnia ścian pudełka jest zaopatrzona w ozdobne przetłoczenia wgłębne i/lub w wycięcia. Przetłoczenia wgłębne mają płaską powierzchnię utworzoną w wyniku miejscowego
2 spłaszczenia fal tektury falistej. Głębokość ozdobnych przetłoczeń wgłębnych jest w przybliżeniu równa połowie wysokości fal tektury falistej. Konstrukcja pudełka według wzoru użytkowego jest prosta, oryginalna, posiada bardzo wysokie walory estetyczne. Dzięki falistości powierzchni zewnętrznej uzyskuje się pudełko, które chroni skutecznie przed uszkodzeniem pakowane w niego wyroby. Zastosowanie w pudełku według wzoru miejscowych przetłoczeń wgłębnych na jego falistej powierzchni pozwala na natural ne zdobienie jego ścian. Dzięki zastosowaniu do otrzymywania pudełka według wzoru naturalnych materiałów celulozowych i na turalnego zdobienia, bez użycia farb uzyskuje się opakowania oszczędne, o własnościach korzystnych z punktu widzenia ochrony środowiska naturalnego. Przedmiot wzoru jest uwidoczniony na załączonym rysunku, na którym fig. 1 przedstawia pudełko z stanie rozłożonym, fig. 2 - przekrój poprzeczny ściany pudełka w miejscu przetłoczenia wgłębnego, fig. 3 - przekrój poprzeczny ściany pudełka w miej scu z wycięciem. Pudełko składa się ze ścian 1_ zbudowanych z jednej warstwy tektury falistej 2_ połączonej jednostronnie z gładką papierową powłoką usztywniającą _3. Ściany 1_ mają zewnętrzną powierzchnię falistą, natomiast wewnętrzną gładką. Falista powierzchnia ścian 1_ pudełka jest zaopatrzona w ozdobne przetłoczenia wgłęb ne 4 i w wycięcia 5_. Przetłoczenia wgłębne 4_ mają głębokość równą w przybliżeniu połowie wysokości fal tektury falistej 2_. Przetłoczenia wgłębne _4 mają płaską powierzchnię utworzoną w wyniku miejscowego spłaszczenia fal tektury falistej 2_. RZECZNIK PATENTOWY mgri
10 5 2 5 3 Zastrzeżenia ochronne 1. Pudełko z tektury falistej i papieru, znamienne tym, że ma ściany (1) zbudowane z jednej warstwy tektury falistej (2) połączonej jednostronnie z co najmniej jedną gładką papierową powłoką usztywniającą (_3), przy czym warstwa tektury falistej (2_) jest zwrócona stroną falistą na zewnątrz pudełka. 2. Pudełko według zastrz. 1, znamienne tym, że falista po wierzchnia ścian (_1) jest zaopatrzona w ozdobne przetłoczenia wgłębne (4_) i/lub w wycięcia (5_), przy czym powierzchnia ozdob nych przetłoczen wgłębnych (4_) jest płaska i została utworzona w wyniku miejscowego spłaszczenia fal warstwy tektury falistej (_2), a głębokość przetłoczen wgłębnych (_4) jest w przybliżeniu równa połowie wysokości fal tektury falistej [2). RZECZNIK PATENTOWY
10 6253 \/////////////////////////77777?^ Fig.2. RZECZNIK Lm»\ PATENTPWY rai tn mgr i* ufi/amaroki