Wyjaśnienia treści specyfikacji istotnych warunków zamówienia

Transkrypt

1 Warszawa, dn r. Wyjaśnienia treści specyfikacji istotnych warunków zamówienia dot.: postępowania o udzielenie zamówienia publicznego na dostawę aparatury naukowej dla zakładów naukowych ITME, znak sprawy: ZP/17/18. I. Działając na podstawie art. 38 ust 1-2 ustawy z dnia 29 stycznia 2004 r. Prawo zamówień publicznych (t.j. Dz. U. z 2017 r. poz ze zm.), zwanej dalej ustawą Pzp w związku z pytaniami, które wpłynęły do Zamawiającego od uczestników postępowania, dotyczącymi specyfikacji istotnych warunków zamówienia, poniżej zamieszczamy treść skierowanych do Zamawiającego pytań wraz z odpowiedziami: Dot. części nr 12 do SIWZ Chłodziarka laboratoryjna 1. Czy Zamawiający dopuści urządzenie z zakresem temperatur 2-8 C? Odpowiedź: TAK, Zamawiający dopuści urządzenie o w/w zakresie temperatur. laboratoryjna, pkt 2 i otrzymuje nowe brzmienie: Zakres temperatury: dolna granica nie wyższa niż 3 C i górna granica nie niższa niż 8 C. 2. Czy Zamawiający dopuści urządzenie z obciążeniem półki 15kg? Odpowiedź: TAK, Zamawiający dopuści urządzenie o w/w obciążeniu. laboratoryjna, pkt 9 i otrzymuje nowe brzmienie: Obciążenie półek nie mniejsze niż 15 kg. 3. Czy Zamawiający dopuści urządzenie o wymiarach 676 x 730 x 1935 mm? Odpowiedź: TAK, Zamawiający dopuści urządzenie o powyższych wymiarach. laboratoryjna, pkt 10 i otrzymuje nowe brzmienie: Wymiary zewnętrzne: szerokość 630 mm (+/- 10%), głębokość 700 mm (+/- 10%).

2 Dot. części nr 2 do SIWZ System do selektywnego osadzania warstw 4. (pkt 16) Co Zamawiający rozumie pod pojęciem jednostka sterująca i kontrolująca parametry i przebieg procesu technologicznego Odpowiedź: Jest to urządzenie pozwalające na wygenerowanie plików wsadowych do urządzenia SLM, umożliwiające archiwizację wykonanych programów, ich wizualizację, sterowanie parametrami procesu (na etapie przygotowania programu procesu technologicznego), wyposażona we wszystkie niezbędne do tego peryferia oraz oprogramowanie. selektywnego osadzania warstw, pkt 16 i otrzymuje nowe brzmienie: Jednostka sterująca (urządzenie pozwalające na wygenerowanie plików wsadowych do urządzenia SLM, umożliwiające archiwizację wykonanych programów, ich wizualizację, sterowanie parametrami procesu na etapie przygotowania programu procesu technologicznego wyposażona we wszystkie niezbędne do tego peryferia oraz oprogramowanie), kontrolująca parametry i przebieg procesu technologicznego, umożliwiająca wykonanie odpowiednich czynności (również zdalnych) tj. projektowanie geometrii 3D wykonywanych modeli projektowanie i wizualizacje procesów technologicznych oraz akwizycję i wizualizację wyników (w formie elektronicznej i fizycznej). 5. (pkt 17) Proszę o dokładniejsze wskazanie rodzaju urządzenia (drukarki) do tworzyw sztucznych, przybliżonych, wymaganych parametrów i wymaganej technologii druku 3D w tworzywach. Odpowiedź: Druk w technologii FDM, wykorzystany materiał: PLA, ABS, NYLON oraz podobne. Dysza o średnicy 0.4 mm, wysokość warstwy: mm, minimalna prędkość druku: 200mm/s, podgrzewany stół roboczy o rozmiarach 240x200x200[mm] lub większy, automatyczna kalibracja wszystkich osi w przynajmniej 6 punktach, pomiar temperatury w przynajmniej 4 punktach, kompensacja nieliniowości osi, automatyczne poziomowanie stołu roboczego. selektywnego osadzania warstw, pkt 17 i otrzymuje nowe brzmienie: URZĄDZENIE DO SZYBKIEGO TWORZENIA MODELI PROTOTYPÓW, umożliwiające wykonanie prototypu elementu planowanego do wykonania techniką SLM, wykorzystując do tego tworzywa sztuczne: druk w technologii FDM; wykorzystany materiał: PLA, ABS, NYLON oraz podobne; dysza o średnicy 0.4 mm; wysokość warstwy: mm; minimalna prędkość druku: 200mm/s; podgrzewany stół roboczy o rozmiarach 240x200x200[mm] lub większy; automatyczna kalibracja wszystkich osi w przynajmniej 6 punktach; pomiar temperatury w przynajmniej 4 punktach; kompensacja nieliniowości osi; automatyczne poziomowanie stołu roboczego. 6. Czy Zamawiający akceptuje zamiast wibracyjnego przesiewacza sitowego, stację przesiewania pracującą w osłonie gazu obojętnego? Odpowiedź: TAK, Zamawiający akceptuje takie rozwiązanie.

3 selektywnego osadzania warstw, pkt 12 i otrzymuje nowe brzmienie: Stacja przesiewania pracująca w osłonie gazu obojętnego Dot. części nr 10 do SIWZ Stanowisko do centrowania i naświetlania głębokim UV4 7. Zwracamy się z uprzejmą prośbą o doprecyzowanie i rozwinięcie sformułowania Błąd telecentryczności ±2 zawartego w punkcie 25 opisu CZĘŚĆ NR 10 STANOWISKO DO CENTROWANIA. Odpowiedź: W wartość parametru wkradł się błąd i jego wartość powinna wynosić ±0.2. Wartość tego parametru jest krytyczna dla Zamawiającego mając na uwadze zastosowania urządzenia do naświetlania przyrządów takich jak między innymi MEMS. Wymagana jest zatem telecentryczna optyka oparta na mikrosoczewkach z błędem telecentryczności nie większym niż ±0.2. Zastosowanie takiej optyki dla Zamawiającego jest krytyczne dla zachowania najlepszej możliwej jakości ściany bocznej przy użyciu cienkich i grubych fotorezystów. Dodatkowo zmiana optyki powodującej redukcję efektów dyfrakcyjnych (przejście z konfiguracji z dużą przerwą do konfiguracji z dużą rozdzielczością np. w trybie kontaktowym)powinna nie zabierać operatorowi więcej niż 2 minuty, a obszar naświetlenia powinien charakteryzować się jednorodnością natężenia oświetlenia nie gorszą niż ±2.5%. Zmianie ulega zapis załącznika nr 2 Formularz cenowy Część nr 10 Stanowisko do centrowania i naświetlania głębokim UV4, pkt 25 i otrzymuje nowe brzmienie: Błąd telecentryczności ±0.2. Wartość tego parametru jest krytyczna dla Zamawiającego mając na uwadze zastosowania urządzenia do naświetlania przyrządów takich jak między innymi MEMS. Wymagana jest zatem telecentryczna optyka oparta na mikrosoczewkach z błędem telecentryczności nie większym niż ±0.2. Zastosowanie takiej optyki dla Zamawiającego jest krytyczne dla zachowania najlepszej możliwej jakości ściany bocznej przy użyciu cienkich i grubych fotorezystów. Dodatkowo zmiana optyki powodującej redukcję efektów dyfrakcyjnych (przejście z konfiguracji z dużą przerwą do konfiguracji z dużą rozdzielczością np. w trybie kontaktowym)powinna nie zabierać operatorowi więcej niż 2 minuty, a obszar naświetlenia powinien charakteryzować się jednorodnością natężenia oświetlenia nie gorszą niż ±2.5%. 8. Czy Zmawiający dopuszcza dołączenie do oferty / lub przesłanie na wezwanie Zamawiającego takich dokumentów jak deklaracja zgodności CE czy firmowe materiały informacyjne (np. karty katalogowe, ulotki, foldery) potwierdzające spełnienie parametrów technicznych w języku angielskim bez tłumaczenia na język polski? Swoją prośbę argumentujemy m.in. tym, że wiele zwrotów technicznych (tzw. nazwy własne) nie znajduje odpowiedników w języku polskim, a język angielski uznawany jest przez Świat Nauki za język powszechny? Odpowiedź: TAK, Zamawiający dopuści złożenie deklaracji zgodności CE lub firmowych materiałów informacyjnych potwierdzających spełnienie parametrów technicznych w języku angielskim bez tłumaczenia na język polski. Dot. rozdz. VIII ust. 3 pkt 1) SIWZ WYKAZ OŚWIADCZEŃ LUB DOKUMENTÓW POTWIERDZAJĄCYCH SPEŁNIENIE WARUNKÓW UDZIAŁ W POSTEPOWANIU ORAZ BRAK PODSTAW WYKLUCZENIA wykaz dostaw

4 9. Czy istnieje możliwość dostarczenia Państwu referencji od producenta tomografu w języku angielskim z tłumaczeniem przez biegłego tłumacza na język polski? Odpowiedź: W przypadku części nr 6 Tomograf komputerowy Zamawiający nie postawił warunku dot. zdolności technicznej lub zawodowej, w związku z tym nie jest wymagane tu złożenie wykazu dostaw ani dowodów na należyte wykonanie tych dostaw w postaci referencji. Zgodnie z rozdz. VIII ust. 17 SIWZ Dokumenty sporządzone w języku obcym są składane wraz z tłumaczeniem na język polski. 10. Czy można przedstawić referencje uzyskane od firm francuskich, w których instalacji dokonał producent? Przedstawione referencje również byłyby przetłumaczone przez biegłego tłumacza na język polski. Odpowiedź: Zgodnie z zapisami rozdz. VI ust. 1 pkt 2) lit. c) oraz rozdz. VIII ust. 3 pkt 1 SIWZ referencje potwierdzające należyte wykonanie dostawy mają dotyczyć bezpośrednio wykonawcy biorącego udział w postępowaniu, a nie producenta urządzenia. II. Niezależnie od odpowiedzi udzielonych powyżej, Zamawiający na podstawie art. 38 ust. 4 ustawy PZP informuje, że zmienia zapisy: 1. SIWZ: 1) rozdz. V ust. 1 pkt 14), który otrzymuje następujące brzmienie: dla Części nr 14 maksymalnie 50 dni kalendarzowych od dnia zawarcia umowy. 2. Formularza cenowego (Załącznik nr 2 do SIWZ) w zakresie części nr 7 System do reaktywnego trawienia jonowego: 1) pkt 2 otrzymuje brzmienie: Moc źródła ICP 2000W lub więcej ; 2) pkt 6 ulega usunięciu; 3) pkt 9 otrzymuje brzmienie: Umożliwiające przeprowadzenie procesu Boscha ; 4) pkt 10 otrzymuje brzmienie: Możliwość wytrawienia rowka w krzemie o szerokości 2 μm i głębokości 60 μm z prędkością 1.5 μm/min i jednorodnością plus minus 5% na podłożu 6-calowym ; 5) pkt 11 otrzymuje brzmienie: Moc źródła RF 300W lub więcej ; 6) numeracja parametrów ulega odpowiedniemu przesunięciu. 3. Formularza cenowego (Załącznik nr 2 do SIWZ) w zakresie części nr 8 Sputron magnetronowy DC 1) pkt 2 otrzymuje brzmienie: Jedno źródło RF o mocy 300W lub więcej.

5 Na stronie Zamawiającego zostaną zamieszczone aktualne na dzień r. następujące dokumenty: Formularz cenowy (Załącznik nr 2 do SIWZ) w wersji edytowalnej, SIWZ. Pozostałe zapisy pozostają bez zmian, w tym termin składania ofert.