(54) Cewka odchylająca sposób wytwarzania cewki odchylającej i urządzenie

Transkrypt

1 RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) OPIS PATENTOWY (19)PL (11) (13)B1 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (21) Numer zgłoszenia: (22) Data zgłoszenia: (51) IntCl6: H01J 29/76 H01J 9/236 H01F 41/06 (54) Cewka odchylająca sposób wytwarzania cewki odchylającej i urządzenie do wytwarzania cewki odchylającej dla zespołu odchylającego kineskopu (30) Pierwszeństwo: ,EP, (73) Uprawniony z patentu: VIDEOCOLOR S.A., Courbevoie, FR (43) Zgłoszenie ogłoszono: BUP 08/92 (72) Twórcy wynalazku: Jean-Pierre Fourche, Marsannay La Cote, FR Eric Audoux, Aiserey, FR (45) O udzieleniu patentu ogłoszono: WUP 10/95 (74) Pełnomocnik: Muszyński Andrzej, PHZ POLSERVICE PL B1 (57) 1. Cewka odchylająca dla zespołu odchylającego kineskopu, złożona z wielu zwojów drutu, ukształtowanego w obrys z przeciwległymi częściami bocznymi rozdzielonymi otworem tworzącym okno między nimi i z zagięciami przednimi i tylnymi, nawiniętymi w zasadzie poprzecznie względem części bocznych, znamienna tym, że w obszarze środkowym (70) każdej z części bocznych (52,54) ukształtowane jest przynajmniej jedno wgłębienie (76, 78) o zadanym kształcie do sterowania rozmieszczeniem drutu w pobliżu tego wgłębienia (76,78). F I6.2

2 Cewka odchylająca, sposób wytwarzania cewki odchylającej i urządzenie do wytwarzania cewki odchylającej dla zespołu odchylającego kineskopu Zastrzeżenia patentowe 1. Cewka odchylająca dla zespołu odchylającego kineskopu, złożona z wielu zwojów drutu, ukształtowanego w obrys z przeciwległymi częściami bocznymi rozdzielonymi otworem tworzącym okno między nimi i z zagięciami przednimi i tylnymi, nawiniętymi w zasadzie poprzecznie względem części bocznych, znamienna tym, że w obszarze środkowym (70) każdej z części bocznych (52,54) ukształtowane jest przynajmniej jedno wgłębienie (76, 78) o zadanym kształcie do sterowania rozmieszczeniem drutu w pobliżu tego wgłębienia (76, 78). 2. Cewka odchylająca według zastrz. 1, znamienna tym, że w każdej z części bocznych (52, 54), w pobliżu przednich zagięć (48), ukształtowany jest przynajmniej jeden przedni otwór (56, 58). 3. Cewka odchylająca według zastrz. 1, znamienna tym, że w każdej z części bocznych (52, 54) w pobliżu tylnych zagięć (50), ukształtowany jest przynajmniej jeden tylny otwór (64, 66). 4. Cewka odchylająca według zastrz. 1, znamienna tym, że części boczne (52, 54), od zagięć tylnych (50) do przednich (48), są rozbieżne na zewnątrz. 5. Cewka odchylająca według zastrz. 1, znamienna tym, że każde z wgłębień (76,78) w jednej z części bocznych (52,54) znajduje się naprzeciwko wgłębienia o takim samym kształcie i położeniu na drugiej części bocznej. 6. Sposób wytwarzania cewki odchylającej dla zespołu odchylającego kineskopu, w którym wykorzystuje się urządzenie zawierające wzornik zewnętrzny i wzornik wewnętrzny, który przy połączeniu z wzornikiem zewnętrznym tworzy kanał o zadanym kształcie, w którym nawija się cewkę odchylającą złożoną z wielu zwojów drutu, przy czym wzornik zewnętrzny ma wewnętrzną powierzchnię kształtującą ścianki kanału, na które nakładane są zwoje drutu, znamienny tym, że na początku nawija się przynajmniej jeden zwój lub jedną warstwę drutu w kanale, następnie tworzy się odkształcenia wewnątrz kanału poprzez częściowe wsunięcie trzpienia przez dobrany wstępnie otwór w ścianie wzornika zewnętrznego, przy czym zakończenie trzpienia wystaje na zadaną wysokość w kanale, po czym nawija się pozostałe zwoje lub warstwy drutu w kanale aż do zakończenia wykonywania cewki odchylającej. 7. Sposób według zastrz. 6, znamienny tym, że przed nawijaniem zwojów wstawia się drugi trzpień o stożkowej głowicy w dobrany z góry otwór we wzorniku zewnętrznym, przy czym głowica drugiego trzpienia w zasadzie wystaje w kanale, po czym układa się drut wokół trzpienia podczas nawijania cewki odchylającej. 8. Urządzenie do wytwarzania cewki odchylającej dla zespołu odchylającego kineskopu, zawierające wzornik zewnętrzny, wzornik wewnętrzny, który przy połączeniu z wzornikiem zewnętrznym tworzy kanał o zadanym kształcie, w który nawijana jest cewka złożona z wielu zwojów drutu, przy czym wzornik zewnętrzny ma wewnętrzną powierzchnię kształtującą ścianki kanału, na którą nakładane są zwoje drutu, znamienne tym, że ma wprowadzone do wnętrza kanału (90), w zadanej pozycji względem ścianki (96) wzornika zewnętrznego (80) tworzącego częściowo ten kanał, elementy odkształcające tworzące wgłębienia w dobranym z góry miejscu cewki odchylającej (104) podczas jej nawijania. 9. Urządzenie według zastrz. 8, znamienne tym, że elementy odkształcające obejmują pierwszy trzpień (92), z korpusem o pierwszym promieniu i sferycznym zakończeniem o drugim promieniu, wstawiony w pierwszy otwór (94) w ściance (96) wzornika zewnętrznego (80) oraz drugi trzpień (98) wstawiony w drugi otwór (102) umieszczony w zadanym miejscu ścianki (96) wzornika zewnętrznego (80).

3 Urządzenie według zastrz. 9 znamienne tym, że drugi promień każdego z pierwszych trzpieni (92) jest większy od jego pierwszego promienia. 11. Urządzenie według zastrz. 9, znamienne tym, że pierwszy trzpień (92) ma stożkowe zakończenie tworzące w cewce odchylającej (104) otwór w miejscu jego wstawienia. * * * Przedmiotem wynalazku jest cewka odchylająca, sposób wytwarzania cewki odchylającej i urządzenie do wytwarzania cewki odchylającej dla zespołu odchylającego kineskopu, stosowanego w urządzeniach telewizyjnych. W urządzeniach telewizyjnych z kineskopem, zespół odchylający zawierający cewkę odchylającą montowany jest na tylnej zewnętrznej stożkowej części i szyjce kineskopu. Zespół odchylający składa się typowo z dwóch przeciwległych siodłowych cewek odchylających, umieszczonych w bezpośredniej bliskości kineskopu, stanowiących wewnętrzną część zespołu odchylającego. Zewnętrzna część zespołu odchylającego zaopatrzona jest w przeciwległe toroidalne cewki odchylające. W celu sterowania położeniem wiązki elektronów na ekranie kineskopu, cewki odchylające są zasilane z układu odchylania pola. Zależnie od konkretnego zastosowania można stosować inne kombinacje siodłowych i toroidalnych cewek odchylających. W celu umożliwienia wytwarzania zadanych pól elektromagnetycznych, przez przepuszczanie prądu przez cewki odchylające zespołu odchylającego, muszą one być bardzo dokładnie pozycjonowane. Dla ilustracji niniejszego wynalazku opisano szczegółowo siodłowe cewki odchylające. Znany sposób wytwarzania cewek siodłowych polega na nawijaniu ich w kanale utworzonym między wzornikami, wewnętrznym i zewnętrznym. Wzorniki, zewnętrzny i wewnętrzny, są osadzone stacjonarnie, a cewka jest nawijana przy zastosowaniu obracającego się wokół nich mechanizmu skrzydełkowego, służącego do nawijania drutu miedzianego, na przykład emaliowanego, w celu ukształtowania wewnątrz kanału cewki odchylającej. Można też na odwrót - zastosować obrotowe wzorniki w połączeniu ze stacjonarnym mechanizmem podawania drutu. Do regulowania rozmieszczenia drutu w uzwojeniu stosuje się, przy nawijaniu, różne procesy dla osiągnięcia zadanego rozkładu pola elektromagnetycznego. Jeden ze znanych sposobów wytwarzania cewek odchylających i urządzenie do ich wytwarzania jest przedstawione w opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki nr , zatytułowanym "Zespół cewek odchylających i urządzenie do jego wytwarzania z zastosowaniem zagęszczania magnetycznego". Cewka odchylająca wytwarzana jest w urządzeniu zawierającym dwa elementy, zewnętrzny i wewnętrzny, tworzące po złożeniu znajdujący się między nimi kanał, z blokiem rozdzielającym, umieszczonym między tymi elementami w celu podzielenia kanału na dwa jednakowe przedziały. W celu otrzymania zadanego ukształtowania cewki w obu przedziałach kanału nawija się pewną liczbę zwojów drutu. Z kolei opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki nr , zatytułowany "Urządzenie do nawijania siodłowej cewki odchylającej" również dotyczy zastosowania wzorników, zewnętrznego i wewnętrznego, między którymi po złożeniu powstaje kanał. Cewkę odchylającą nawija się w tym kanale w celu nadania jej odpowiedniego kształtu. Wzorniki, zewnętrzny i wewnętrzny, w każdym punkcie mają określony przekrój, celem nadania siodłowej cewce odchylającej zadanego kształtu. Istotą cewki odchylającej dla zespołu odchylającego kineskopu, według wynalazku złożonej z wielu zwojów drutu, ukształtowanego w obrys z przeciwległymi częściami bocznymi, rozdzielonymi otworem tworzącym okno między nimi i z zagięciami przednimi i tylnymi, nawiniętymi w zasadzie poprzecznie względem części bocznych, jest to, że w obszarze środkowym każdej z części bocznych ukształtowane jest przynajmniej jedno wgłębienie o zadanym kształcie do sterowania rozmieszczeniem drutu w pobliżu tego wgłębienia. Korzystnie jest, gdy zgodnie z wynalazkiem w każdej z części bocznych, w pobliżu przednich zagięć, ukształtowany jest przynajmniej jeden przedni otwór, zaś w pobliżu tylnych zagięć ukształtowany jest przynajmniej jeden tylny otwór. Korzystnie jest także, gdy części

4 boczne, od zagięć tylnych do przednich, są rozbieżne na zewnątrz, oraz gdy, każde z wgłębień w jednej z części bocznych znajduje się naprzeciwko wgłębienia o takim samym kształcie i położeniu na drugiej części bocznej. Z kolei istotną sposobu wytwarzania cewki odchylającej dla zespołu odchylającego kineskopu, według wynalazku, w którym wykorzystuje się urządzenie zawierające wzornik zewnętrzny i wzornik wewnętrzny, który przy połączeniu z wzornikiem zewnętrznym tworzy kanał o zadanym kształcie, w którym nawija się cewkę odchylającą złożoną z wielu zwojów drutu, przy czym wzornik zewnętrzny ma wewnętrzną powierzchnię kształtującą ścianki kanału, na które nakładane są zwoje drutu, jest to, że na początku nawija się przynajmniej jeden zwój lub jedną warstwę drutu w kanale, następnie tworzy się odkształcenia wewnątrz kanału poprzez częściowe wsunięcie trzpienia przez dobrany wstępnie otwór w ścianie wzornika zewnętrznego, przy czym zakończenie trzpienia wystaje na zadaną wysokość w kanale, po czym nawija się pozostałe zwoje lub warstwy drutu w kanale aż do zakończenia wykonywania cewki odchylającej. Korzystne jest, gdy zgodnie z wynalazkiem przed nawijaniem zwojów wstawia się drugi trzpień o stożkowej głowicy w dobrany z góry otwór we wzorniku zewnętrznym, przy czym głowica drugiego trzpienia w zasadzie wystaje w kanale, po czym układa się drut wokół trzpienia podczas nawijania cewki odchylającej. Istotą urządzenia do wytwarzania cewki odchylającej dla zespołu odchylającego kineskopu, według wynalazku zawierającego wzornik zewnętrzny, wzornik wewnętrzny, który przy połączeniu z wzornikiem zewnętrznym tworzy kanał o zadanym kształcie, w który nawijana jest cewka złożona z wielu zwojów drutu, przy czym wzornik zewnętrzny ma wewnętrzną powierzchnię kształtującą ścianki kanału, na którą nakładane są zwoje drutu, jest to, że ma wprowadzone do wnętrza kanału, w zadanej pozycji względem ścianki wzornika zewnętrznego tworzącego częściowo ten kanał, elementy odkształcające tworzące wgłębienia w dobranym z góry miejscu cewki odchylającej podczas jej nawijania. Elementy odkształcające obejmują pierwszy trzpień, z korpusem o pierwszym promieniu i sferycznym zakończeniem o drugim promieniu, wstawiany w pierwszy otwór w ściance wzornika zewnętrznego oraz drugi trzpień wstawiany w drugi otwór umieszczony w zadanym miejscu ścianki wzornika zewnętrznego. Korzystnie jest gdy, drugi promień każdego z pierwszych trzpieni jest większy od jego pierwszego promienia albo gdy pierwszy trzpień ma stożkowe zakończenie tworzące w cewce odchylającej otwór w miejscu jego wstawienia. Zaletą rozwiązania według wynalazku jest znaczne wyeliminowanie, poprzez zmianę konstrukcyjną cewki odchylającej oraz opracowanie udoskonalonego sposobu i urządzenia do jej wytwarzania, uszkodzeń cewki odchylającej dla zespołu odchylającego kineskopu podczas jej wytwarzania. Rozwiązanie według wynalazku jest bliżej objaśnione w przykładzie wykonania w oparciu o załączony rysunek, na którym fig. 1 przedstawia w uproszczeniu w przekroju poprzecznym zainstalowany na kineskopie zespół cewek odchylających z cewkami odchylającymi, fig. 2 - cewkę odchylającą według wynalazku, fig. 3 - w przekroju wzdłuż linii 3-3 z fig. 2 część centralną typowego wgłębienia ukształtowanego w powierzchni cewki odchylającej, fig. 4 - w uproszczonym widoku perspektywicznym zewnętrzny wzornik urządzenia według wynalazku, fig. 5 - w uproszczonym widoku perspektywicznym wzornik wewnętrzny urządzenia według wynalazku, fig. 6 - w uproszczonym częściowym przekroju urządzenie do wytwarzania cewek odchylających, fig. 7 - w uproszczonym widoku perspektywicznym wzornik zewnętrzny według jednego z wykonań wynalazku, a fig. 8 - wzornik zewnętrzny z fig. 7 z cewką odchylającą nawiniętą wewnątrz wzornika. Przedstawiony na fig. 1 uproszczony przekrój służy dla ilustracji rozmieszczenia cewek odchylających względem kineskopu 22. Jak pokazano, w tym przykładzie cewki odchylające linii 74 mają postać cewek siodłowych, podczas gdy cewki odchylające pola 14 są cewkami toroidalnymi. Również w tym przykładzie toroidalne cewki odchylające linii 14 nawinięte są na częściach 36 rdzenia magnetycznie miękkiego. Wkładka izolacyjna 34 rozdziela cewki odchylające linii 74 i pola 14.

5 Cewki odchylające linii 74 są zasilane z układu odchylania linii 38, a cewki odchylające pola 14 - z układu odchylania pola 40. Wewnątrz kineskopu 22 umieszczona jest wyrzutnia elektronowa 42 służąca do wytwarzania i kierowania wzdłuż osi Z 44 wiązki elektronów, które trafiają w ekran luminescencyjny 23. Pola elektromagnetyczne wytwarzane przez cewki odchylające linii 74 i pola 14 powodują skierowanie wiązki w każdej chwili na zadane.miejsce ekranu 23 kineskopu 22. Przedstawiona na figurze 2 siodłowa cewka odchylająca 74, według jednego z wykonań wynalazku, może być stosowana w charakterze cewki odchylania linii z fig. 1 i zawiera przednią część uzwojenia 48, tylną część uzwojenia 50, rozbieżne elementy boczne 52 i 54, przednie otwory uzwojenia 56 i 58 oraz tylne otwory uzwojenia 64 i 66. Należy zauważyć, że otwory 56, 58, 64 i 66 mają zadaną wielkość i kształt i są celowo rozmieszczone w różnych jej obszarach, jak pokazano w przykładzie, dla umożliwienia ukształtowania pola elektromagnetycznego wytwarzanego przez siodłową cewkę odchylająca 74 w celu skorygowania możliwych błędów pozycjonowania wiązki. Na przykład pole wytwarzane w obszarze wejściowym 68 jest korygowane pod względem aberracji komatycznej, która może powstawać w tym obszarze. Pole wytwarzane przez obszar środkowy 70 jest korygowane pod względem błędów i konwergencji, a pole wytwarzane przez obszar wyjściowy 72 korygowane jest pod względem błędów geometrii, występujących na obrzeżach obrazu odtwarzanego na ekranie 23 kineskopu 22. W jednym z wykonań wynalazku, na elementach bocznych 52 i 54 znajdują się wgłębienia 76 i 78. Należy zaznaczyć, że w tym przykładzie wgłębienia 76 i 78 mają kształt rombowy, ale mogą być ukształtowane inaczej, zależnie od zastosowania i wymaganego kształtu pola elektromagnetycznego w obszarze środkowym. W tym przykładzie wgłębienia 76 i 78 są względem siebie symetryczne i rozmieszczone naprzeciw siebie. Na figurze 3 przedstawiono przekrój wzdłuż linii 3-3 siodłowej cewki odchylającej 74 z fig. 2. Cewka odchylająca 74 wytwarzana jest w opisany poniżej sposób, umożliwiający wykonanie wgłębień 76 i 78 bez powodowania nacisku i naprężeń znajdujących się pod nimi drutów. Jedno z wykonań wzornika zewnętrznego do wytwarzania cewek odchylających 74 według wynalazku przedstawiono na fig. 4 i oznaczono jako 80. Wzornik wewnętrzny 82 przedstawiono na fig. 5. Wzorniki 80 i 82 są połączone za pomocą wkręta mocującego 84, przy czym wzornik wewnętrzny 82 wstawiony jest w otwór mocujący 86 podstawy wzorników 88, połączonej z wzornikiem zewnętrznym 80, jak to pokazano w tym przykładzie. Tylna strona wzornika 80 dociśnięta jest mocno nie pokazaną na rysunku nakrętką, znajdującą się na wkręcie 84. Podstawa 88 wchodzi w odpowiednio ukształtowane wybranie 88a we wzorniku wewnętrznym 82. Po połączeniu wzorników 80 i 82 powstaje między nimi kanał 90, jak to w uproszczeniu pokazano na figurze 6. W znanych sposobach do nawijania drutu i układania go w kanale 90 pomiędzy nieruchomymi wzornikami 80 i 82, w celu ukształtowania cewek odchylających 74, stosowane jest skrzydełko nawijające nie pokazane na rysunku. Podczas procesu nawijania kształtowane są różne szczeliny lub otwory przelotowe, jak to opisano w przypadku cewki odchylającej 74, przez przetknięcie pierwszego trzpienia 92, zwykle zaopatrzonego w stosunkowo ostre zakończenie, przez otwór 94 w dolnej wewnętrznej powierzchni 96 wzornika zewnętrznego 80. Wewnętrzna powierzchnia 96 mieści druty już nawinięte wokół wzorników 80 i 82, kształtujące jedną z cewek odchylających 74. Jak to pokazano na fig. 4, pierwszy trzpień 92 wykonany jest w ten sposób, że podczas nawijania drutu przechodzi w zasadzie na wskroś kanału 90 (patrz fig. 6) między wzornikiem wewnętrznym 82 i zewnętrznym 80. Zwykle średnica i cały kształt pierwszego trzpienia 92 oraz kąt jego przechodzenia przez kanał 90 określa wielkość i kształt otworu 94, ukształtowanego w tym miejscu wytwarzanej cewki odchylającej. Do kształtowania takich otworów w różnych miejscach cewki odchylającej, przy jej wytwarzaniu, w razie potrzeby można stosować większą liczbę takich trzpieni 92. Zastosowanie trzpieni, takich jak pierwszy trzpień 92, przechodzących przez otwory w wewnętrznej ścianie wzornika 80, pozwala na bardziej precyzyjne rozmieszczenie drutów przy nawijaniu cewki odchylającej. Jak wspomniano powyżej, zastosowanie takich trzpieni 92 powoduje powstanie szczelin lub otworów przelotowych w uzwojeniu nawijanej cewki odchylającej, i tym samym umożliwia lepsze sterowanie rozmieszczeniem odpowiednich jego drutów.

6 Stwierdzono, że w przypadku zastosowania, przy nawijaniu cewki odchylającej, takich trzpieni dla regulowania rozmieszczeniem drutów w środkowej części wzornika, a więc i w środkowej części cewki odchylającej, powstałe szczeliny lub otwory znacznie zmieniają rozmieszczenie drutów uzwojenia i rozkład pola elektromagnetycznego wytwarzanego przez gotową cewkę odchylającą. Często wynikowe zmiany są większe od zakładanych i trudne do korekcji. Stwierdzono również, że trzpienie 92 niekiedy uszkadzają drut nawijany na wzornik. Podczas nawijania cewki odchylającej lub w cyklu nagrzewania/prasowania, podczas którego wzorniki dociskane są do siebie za pomocą znanych elementów w celu ostatecznego ukształtowania cewki, mogą powstać uszkodzenia emalii drutu nawojowego. Cewki odchylające nawinięte siodłowo są szczególnie podatne na uszkodzenia drutu i/lub emalii związane z zastosowaniem na przykład tych trzpieni 92. W przedstawionym na figurach 6, 7 i 8 wykonaniu wynalazku drugi trzpień 98 o mniej ostrym, sferycznym zakończeniu 100 przetknięty jest przez otwór 102 w powierzchni 96 wzornika zewnętrznego 80 tworząc wgłębienia, na przykład 76 i/lub 78 z fig. 2, w nawijanej cewce odchylającej. Jak to pokazano na fig. 7, powierzchnia wewnętrzna 96 wzornika 80 może być zaopatrzona w pewną liczbę otworów przelotowych 102 w zadanych miejscach, służących dla przepuszczenia drugich trzpieni 98, lub też pierwszych trzpieni 92, wstawianych w otwory 102 od zewnętrznej ściany wzornika, przy czym wielkość wystawiania tych trzpieni w kanale 90 jest dobierana ze względu na zadaną wielkość wgłębień w uzwojeniu cewki odchylającej. Drugie trzpienie 98 umożliwiają sterowanie rozmieszczeniem drutów nawijanych w kanale w celu kształtowania cewki odchylającej, przy uniknięciu uszkodzeń drutu i emalii powstających niekiedy przy stosowaniu pierwszych trzpieni 92 do kształtowania otworów. W celu tworzenia wgłębień w uzwojeniu cewki odchylającej dla regulowania rozmieszczeniem drutu w zadanych miejscach cewki odchylającej podczas jej nawijania, stosowane wstępnie podczas nawijania pierwszego drutu lub warstwy cewki odchylającej 104 (patrz fig. 8) drugie trzpienie 98 są wycofane w celu umożliwienia nawinięcia tej warstwy na powierzchnię 96 wzornika 80. Zależnie od zastosowania, drugi trzpień 98 może pozostawać wyjęty podczas nawijania więcej niż pierwszej warstwy, przy czym urządzenie jest przystosowane na częściowe wsunięcie drugiego trzpienia 98, a przynajmniej sferycznego zakończenia 100 tego trzpienia do zadanego obszaru, w którym nawijana jest cewka odchylająca 104. Następnie nawija się resztę zwojów cewki 104. Należy zauważyć, że takie częściowe wsunięcie drugiego trzpienia 98 w obszar nawijania wzornika 80, czyli kanał 90, oznacza odkształcenie uzwojenia kształtowanego w kanale 90 na powierzchni 96 wzornika 80. W typowym zastosowaniu jeden lub więcej drugich trzpieni 98 ma promień od 5,0 do 6,0 milimetrów, a ich sferyczne zakończenia 100 mają promienie większe i umożliwiają kształtowanie romboidalnych wgłębień 106, pokazanych na fig. 8. Dobór drugich trzpieni 98 ze sferycznymi zakończeniami 100 i ich częściowe wsunięcie do wnętrza kanału 90 odbywa się z uwzględnieniem konieczności zapewnienia miękkiego kontaktu między zakończeniem tego trzpienia i drutem nawijanym na i obok drugiego trzpienia 98, bądź kilku takich trzpieni rozmieszczonych w różnych miejscach. W ten sposób można ukształtować jedno lub więcej wgłębień 106 w cewce odchylającej 104 podczas jej nawijania, jak to przedstawiono w tym przykładzie. Jednakowoż, jeżeli drugie trzpienie 98 wykonane są jako odpowiednio daleko wystające w głąb kanału 90, to mogą one kształtować otwory, zamiast wgłębień w uzwojeniu. W przedstawionym wykonaniu drugie trzpienie 98 wykonane są jako wystające w ten sposób, że ich sferyczne zakończenia 100 zapewniają miękki kontakt z nawijanym drutem, o czym już wspomniano. Taki miękki kontakt wynikający z kontroli wsunięcia drugiego trzpienia 98 w głąb kanału 90 i sferycznego ukształtowania zakończenia 100, w zasadzie całkowicie eliminuje uszkodzenia drutu lub emalii w procesie nawijania cewki odchylającej. To przedstawione wykonanie wynalazku jest szczególnie przydatne do nawijania cewek siodłowych. W obszarach zaopatrzonych w wgłębienia 106 druty cewki odchylającej 104 rozmieszczone są z mniejszą gęstością niż w innych obszarach cewki odchylającej 104, co umożliwia regulację rozkładu pola elektromagnetycznego, wytwarzanego przez cewkę odchylającą 104 podczas przepuszczania przez nią prądu. Do osiągnięcia podobnych rezultatów mogą służyć

7 wspomniane uprzednio otwory. Jak wspomniano, dużo bardziej precyzyjne sterowanie kształtem wypadkowego pola osiąga się przy stosowaniu nie wspomnianych otworów skrośnych, lecz wgłębień 106. Warto również zauważyć, że podczas nawijania cewki odchylającej 104, urządzenie może być wykorzystane do osiągnięcia pożądanego rozmieszczenia drutów w otoczeniu trzpienia przez programową zmianę osadzenia jednego lub kilku drugich trzpieni 98 w kanale nawojowym zamiast przez wsuwanie tych trzpieni 98 od pozycji wyjęcia do stałej pozycji w kanale nawojowym. W innych zastosowaniach można stosować kombinację obu trzpieni 98 i 92, jak to przedstawiono powyżej, do kształtowania zarówno otworów, jak i wgłębień w zadanych miejscach na zewnętrznych częściach cewki odchylającej, na przykład 104, w procesie jej wytwarzania. Na figurze 8 przedstawiono wzornik zewnętrzny 80 z w zasadzie gotową cewką odchylającą 104, zaopatrzoną w wgłębienia 106 ukształtowanymi w zadanych miejscach na rozszerzającej się bocznej części 108 cewki odchylającej 104. W ten sposób można osiągnąć możliwość sterowania rozmieszczeniem drutów w cewce odchylającej 104, a zwłaszcza w jej środkowych bocznych częściach. Mimo iż przedstawiono różne wykonania wynalazku, nie oznacza to jego ograniczenia. Na przykład zamiast selektywnego wstawiania jednego lub wielu drugich trzpieni 98 w otwory 102 powierzchni 96 zewnętrznego wzornika 80, do tworzenia wgłębień w cewce odchylającej podczas jej wytwarzania można wykorzystać stałe odkształcenia powierzchni 96 dla osiągnięcia takich samych rezultatów. Można stosować na przykład wymienne powierzchnie 96 o różnych odkształceniach dostosowujące do różnych konfiguracji cewek odchylających. Można również wprowadzać trzpienie we wzornik wewnętrzny 82 tworząc wgłębienia w wewnętrznym obrysie cewki.

8 Fig.2 Fig. 3

9 Fig.4 Fig. 5

10 Fig.6 fig.7

11 FIG. 8

12 Fig.1 Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz. Cena 1,50 zł