DZPIE/003/NZU/672/2015 Warszawa, 2 kwietnia 2015 r.

Wielkość: px
Rozpocząć pokaz od strony:

Download "DZPIE/003/NZU/672/2015 Warszawa, 2 kwietnia 2015 r."

Transkrypt

1 DZPIE/003/NZU/672/2015 Warszawa, 2 kwietnia 2015 r. Dotyczy udzielenia zamówienia publicznego w trybie "przetargu nieograniczonego" na Uniwersalna linia technologiczna do badań procesów wytwarzania nanostruktur i prototypów przyrządów półprzewodnikowych, nadprzewodnikowych i metalicznych. Instytut Fizyki PAN w trybie art. 38 ust. 4 Ustawy PZP, dokonuje niniejszym zmiany treści SIWZ w zakresie wymagań stawianym urządzeniu w pkt. 7, 11, 16, 17, i 19 dla ICP-RIE oraz 5, 8, 10, 12, 13, 16 i 18 dla ICP-PECVD : Przed zmianami: Lp Wymagania (wymagane parametry minimalne) Stanowisko do trawienia związkami chloru ICP RIE (Inductively-Coupled Plasma for Reactive Ion Etching) System wytwarzania próżni w komorze reaktora: - system próżni suchej składający się z układu pompy próżni wstępnej i właściwej, - do wytworzenia próżni wstępnej musi być wykorzystana pompa bezolejowa o wydajności min. 32m3/h, - do wytworzenia próżni właściwej musi być wykorzystana pompa turbomolekularna z łożyskami magnetycznymi, o wydajności min. 500l/s, - pompa próżni wstępnej zainstalowana w pomieszczeniu technicznym, - układ próżniowy odporny na gazy korozyjne, - układ zapewniający próżnię 5x10-6mbar lub lepszą, - automatyczna kontrola próżni wstępnej oraz próżni podczas procesów trawienia. Sterowanie Urządzenia: - sterowanie komputerowe z dedykowanym oprogramowaniem, - sterowanie musi odbywać się za pomocą szybkiego sterownika PLC (Programmable Logic Controller) z analogowym i cyfrowym I/O, - oprogramowanie musi pozwalać na: logowanie danych procesowych dla każdego procesu oddzielnie (możliwość wyboru parametrów cyfrowych i analogowych, które mają podlegać logowaniu), pokazywanie w czasie rzeczywistym zadanych i aktualnych parametrów procesów, sterowanie ręczne, jak również za pomocą wcześniej tworzonych przez użytkowników receptur procesów technologicznych o długości min. 25ms, Kolumna do wypełnienia przez oferenta Należy potwierdzić lub opisać *

2 automatyczną kontrolę nieszczelności oraz kalibracji kontrolerów MFC, a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników, także dla wybranych procesów, - komputer sterujący (z systemem operacyjnym Windows 7) wraz z monitorem minimum 19 LCD (zestaw komputerowy kompletny) zapewniający ergonomiczną, płynną i bezproblemową pracę Urządzenia przy korzystaniu z dedykowanego oprogramowania. - Oprogramowanie musi pracować pod systemem operacyjnym Windows 7. - Oprogramowanie musi mieć funkcje wstrzymania hold (plazma ON w momencie przechodzenia do kolejnego etapu procesu, plasma on when switching to a new process step) i przycisk skoku jump ( dla ręcznego przełączenia). W ramach testu akceptacyjnego zostanie przeprowadzone sprawdzenie poprawności działania wszystkich układów i elementów Urządzenia poprzez przeprowadzenie testów sprawdzających według norm producenta oraz następujące testy, obejmujące wykonanie minimum 2 procesów technologicznych charakteryzujących się następującymi parametrami (Procesy zostaną wybrane przez Zamawiającego): Trawienie GaN - Szybkość trawienia: ~75nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 0,8:1 2.Trawienie GaN - Szybkość trawienia: ~250nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 10:1 3.Trawienie Polikrzemu - Szybkość trawienia: ~50nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 2:1 -Jednorodność procesu: ±5% -Nachylenie ścian trawionych okien: >88 4. Trawienie Dwutlenku hafnu (HfO2) - Szybkość trawienia: większa niż 1nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 3:1 - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 4:1 5. Trawienie Trójtlenku aluminium (Al2O3) - Szybkość trawienia: ~5nm/min ±5% - Selektywność do niklu Ni: co najmniej 7:1 6. Trawienie ZnO - Szybkość trawienia: ~50nm/min ±5% - Selektywność do niklu Ni: co najmniej 7:1

3 , 7. Trawienie GaAs/AlGaAs - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 4:1 - Selektywność do GaAs:AlGaAs: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >88 8. Trawienie CdTe - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% 9. Trawienie ZnSe - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% Lp. 5. Testy te muszą zostać przeprowadzone na podłożach dostarczonych przez Zmawiającego. Do pomiarów spełnienia przez Urządzenie testów akceptacyjnych mogą zostać wykorzystane urządzenia pomiarowo - diagnostyczne znajdujące się w laboratoriach Instytutu Fizyki PAN. Do testów anizotropii trawionych profili wykorzystany zostanie posiadany przez Zamawiającego skaningowy mikroskop elektronowy. Gazy robocze: - urządzanie musi być podłączone do posiadanej instalacji czystych gazów, - linie gazowe doprowadzające gazy reakcyjne muszą być wykonane ze stali nierdzewnej elektropolerowanej, - spawania tylko orbitalne, system odprowadzania gazów poreakcyjnych z pomp oraz z dozownika gazów powinien być wyposażony w niezbędne (wynikające z wykorzystywanych gazów i odpowiednich przepisów) urządzenia utylizacji gazów poreakcyjnych (scrubber), które pozwalają podłączyć ich wylot bezpośrednio do instalacji wyciągowej. Scrubber/y muszą być wyposażone w wskaźnik zanieczyszczenia. Neutralizator lub neutralizatory muszą być właściwe dla gazów wymienionych. Wymaga się wykonanie bezpłatnych przeglądów technicznych po dwóch latach w okresie gwarancji, obejmujących również serwisowanie, wymianę materiałów ulegających zużyciu lub wymagających wymiany. Koszty transportu, przeglądu, koszty materiałów wymienianych oraz koszty wymiany tych materiałów ponosi Wykonawca Wymagania (wymagane parametry minimalne) Stanowisko do trawienia związkami fluoru z funkcjonalnością osadzania związków krzemu ICP-PECVD (Inductively -Coupled Plasma Plasma - Enhanced Chemical Vapour Deposition) Elektroda górna: - aluminiowa elektroda zintegrowana z wlotem gazów roboczych do komory reaktora, - budowa odpowiednia do jednorodnego rozprowadzania gazów roboczych, Kolumna do wypełnienia przez oferenta Należy potwierdzić lub opisać *

4 zasilana ze źródła RF (13,56 MHz) oraz chłodzona wodą, - ruchoma pneumatycznie/mechanicznie (w kierunku góra/dół/bok) w celu łatwego dostępu do podłoży. System wytwarzania próżni w komorze procesowej: - układ dwóch pomp próżni wstępnej i właściwej, - do wytworzenia próżni wstępnej musi być wykorzystana pompa bezolejowa, - układ zapewniający próżnię 4x10-6 mbar, - czas uzyskania próżni w komorze procesowej od ciśnienia atmosferycznego do ciśnienia 4x10-6 mbar wynosi t 12 godzin, - układ próżniowy odporny na gazy korozyjne, - układ zawierający pompę obrotową i turbomolekularną z magnetycznymi łożyskami o wydajności minimum 500 l/s, - automatyczna kontrola próżni wstępnej oraz próżni podczas procesów osadzania i trawienia. System musi mieć możliwość podłączenia w przyszłości komory załadowczej/śluzy (vacuum loadlock) która umożliwi transfer próbek o różnych kształtach i wymiarach od 5 mm x 5 mm do minimum 2 cali do komory reakcyjnej. Producent musi zagwarantować możliwość podłączenia śluzy w laboratorium Zamawiającego. Gazy robocze: - urządzanie musi być podłączone do posiadanej instalacji czystych gazów, - system odprowadzania gazów poreakcyjnych z pomp oraz z dozownika gazów powinien być wyposażony w niezbędne (wynikające z wykorzystywanych gazów i odpowiednich przepisów) urządzenia utylizacji gazów poreakcyjnych (scrubber), które pozwalają podłączyć ich wylot bezpośrednio do instalacji wyciągowej. Scrubber/y muszą być wyposażone w wskaźnik zanieczyszczenia. Neutralizator lub neutralizatory muszą być właściwe dla gazów wymienionych. Sterowanie Urządzenia: - sterowanie komputerowe z dedykowanym oprogramowaniem, - sterowanie musi odbywać się za pomocą szybkiego sterownika PLC (Programmable Logic Controller) z analogowym i cyfrowym I/O, - oprogramowanie musi pozwalać na: logowanie danych procesowych dla każdego procesu oddzielnie (możliwość wyboru parametrów cyfrowych i analogowych), pokazywanie w czasie rzeczywistym zadanych i aktualnych parametrów procesów, sterowanie ręczne, jak również za pomocą wcześniej tworzonych przez użytkowników receptur procesów technologicznych o długości min. 25ms, automatyczną kontrolę nieszczelności oraz kalibracji kontrolerów MFC, a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników, także dla wybranych procesów, - komputer sterujący (z systemem operacyjnym Windows 7) wraz z monitorem minimum 19 LCD (zestaw komputerowy kompletny) zapewniający ergonomiczną, płynną i bezproblemową pracę Urządzenia przy korzystaniu z dedykowanego oprogramowania. - Oprogramowanie musi pracować pod systemem operacyjnym Windows 7.

5 16. - Oprogramowanie musi mieć funkcje wstrzymania hold (plazma ON w momencie przechodzenia do kolejnego etapu procesu, plasma on when switching to a new process step) i przycisk skoku jump (dla ręcznego przełączenia). W ramach testu akceptacyjnego zostanie przeprowadzone sprawdzenie poprawności działania wszystkich układów i elementów Urządzenia poprzez przeprowadzenie testów sprawdzających według norm producenta oraz następujące testy, obejmujące wykonanie minimum 3 procesów technologicznych charakteryzujących się następującymi parametrami (Procesy zostaną wybrane przez Zamawiającego): 1. Trawienie SiO2: - Szybkość trawienia: 50nm/min ±5% - Selektywność do aluminium: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >87 - głębokość trawienia w zakresie od 10 nm do min. 3 μm 2. Trawienie poliamidu: - Szybkość trawienia: ~500nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 20:1 3. Trawienie emulsji fotolitograficznych z powierzchni półprzewodników i dielektryków: - Szybkość trawienia: >100nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >70 4. Trawienie Si: - Szybkość trawienia: ~2000nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >88 5. Trawienie SixNy: - Szybkość trawienia: ~150nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 1.5:1 6. Osadzanie SiO2: - Szybkość osadzania: co najwyżej 30nm/min - Jednorodność procesu: ±3% - Natężenie pola elektrycznego przebicia warstwy: co najmniej 5 MV/cm (dla warstwy o grubości 200nm) - Współczynnik załamania światła dla 630nm ~ Osadzanie azotek krzemu (SixNy): - Szybkość osadzania: co najwyżej 10nm/min - Jednorodność procesu: ±3% - Współczynnik załamania światła (dla ~630nm): 1,9 2,1 - Jednorodność grubości warstwy: ±2% (na podłożu 50mm), - Natężenie pola elektrycznego przebicia warstwy: co najmniej 5 MV/cm (dla warstwy o grubości 200nm), 7. Osadzanie tlenko-azotku krzemu (SiOxNy): - Szybkość osadzania: co najwyżej 15nm/min, - Jednorodność procesu: ±3%, - Współczynnik załamania światła (dla ~630nm): 1,5 1,8 - Jednorodność grubości warstwy: ±2% (na podłożu 50mm),

6 - Natężenie pola elektrycznego przebicia warstwy: co najmniej 5 MV/cm (dla warstwy o grubości 200nm), 8. Osadzanie krzemu amorficznego (a-si): - Szybkość osadzania: co najwyżej 15nm/min, - Jednorodność procesu: ±3%, - Współczynnik załamania światła (dla ~630nm): 1,5 1,8, - Jednorodność grubości warstwy: ±3% (na podłożu 50mm). 9. Sprawdzenie selektywności procesu trawienia warstw dielektrycznych (SiO2, Si3N4) względem różnych emulsji fotolitograficznych oraz sprawdzenie powtarzalności procesu trawienia. 18. Testy te muszą zostać przeprowadzone na podłożach dostarczonych przez Zmawiającego. Do pomiarów spełnienia przez Urządzenie testów akceptacyjnych mogą zostać wykorzystane urządzenia pomiarowodiagnostyczne znajdujące się w laboratoriach Instytutu Fizyki PAN. Do testów anizotropii trawionych profili wykorzystany zostanie posiadany przez Zamawiającego skaningowy mikroskop elektronowy. Wymaga się wykonanie bezpłatnych przeglądów technicznych po dwóch latach w okresie gwarancji, obejmujących również serwisowanie, wymianę materiałów ulegających zużyciu lub wymagających wymiany. Koszty transportu, przeglądu, koszty materiałów wymienianych oraz koszty wymiany tych materiałów ponosi Wykonawca. Po zmianach: Lp Wymagania (wymagane parametry minimalne) Stanowisko do trawienia związkami chloru ICP RIE (Inductively-Coupled Plasma for Reactive Ion Etching) System wytwarzania próżni w komorze reaktora: - system próżni suchej składający się z układu pompy próżni wstępnej i właściwej, - do wytworzenia próżni wstępnej musi być wykorzystana pompa bezolejowa o wydajności min. 90m3/h, - do wytworzenia próżni właściwej musi być wykorzystana pompa turbomolekularna z łożyskami magnetycznymi, o wydajności min. 500l/s, - pompa próżni wstępnej zainstalowana w pomieszczeniu technicznym, - układ próżniowy odporny na gazy korozyjne, - układ zapewniający próżnię 5x10-6mbar lub lepszą, - automatyczna kontrola próżni wstępnej oraz próżni podczas procesów trawienia. Sterowanie Urządzenia: - sterowanie komputerowe z dedykowanym oprogramowaniem, - sterowanie musi odbywać się za pomocą szybkiego sterownika PLC (Programmable Logic Controller) z analogowym i cyfrowym I/O, - oprogramowanie musi pozwalać na: logowanie danych procesowych dla każdego procesu oddzielnie (możliwość wyboru parametrów cyfrowych i analogowych, które mają Kolumna do wypełnienia przez oferenta Należy potwierdzić lub opisać *

7 podlegać logowaniu), pokazywanie w czasie rzeczywistym zadanych i aktualnych parametrów procesów, sterowanie ręczne, jak również za pomocą wcześniej tworzonych przez użytkowników receptur procesów technologicznych o długości min. 25ms PLC, automatyczną kontrolę nieszczelności oraz kalibracji kontrolerów MFC, a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników, także dla wybranych procesów, - komputer sterujący (z systemem operacyjnym Windows 7) wraz z monitorem minimum 19 LCD (zestaw komputerowy kompletny) zapewniający ergonomiczną, płynną i bezproblemową pracę Urządzenia przy korzystaniu z dedykowanego oprogramowania. - Oprogramowanie musi pracować pod systemem operacyjnym Windows 7. - Oprogramowanie musi mieć funkcje wstrzymania hold (plazma ON w momencie przechodzenia do kolejnego etapu procesu, plasma on when switching to a new process step) i przycisk skoku jump ( dla ręcznego przełączenia). W ramach testu akceptacyjnego zostanie przeprowadzone sprawdzenie poprawności działania wszystkich układów i elementów Urządzenia poprzez przeprowadzenie testów sprawdzających według norm producenta oraz następujące testy, obejmujące wykonanie minimum 2 procesów technologicznych charakteryzujących się następującymi parametrami (Procesy zostaną wybrane przez Zamawiającego): 1. Trawienie GaN - Szybkość trawienia: ~75nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 0,8: Trawienie GaN - Szybkość trawienia: ~250nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 10:1 3.Trawienie Polikrzemu - Szybkość trawienia: ~50nm/min ±5% - Selektywność do SiO2: co najmniej 2:1 -Jednorodność procesu: ±5% -Nachylenie ścian trawionych okien: >85 4. Trawienie Dwutlenku hafnu (HfO2) - Szybkość trawienia: większa niż 1nm/min ±5% 5. Trawienie Trójtlenku aluminium (Al2O3) - Szybkość trawienia: ~5nm/min ±5%

8 - Selektywność do niklu Ni: co najmniej 7:1 6. Trawienie ZnO - Szybkość trawienia: ~50nm/min ±5% - Selektywność do niklu Ni: co najmniej 7:1, 7. Trawienie GaAs/AlGaAs - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 4:1 - Selektywność do GaAs:AlGaAs: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >88 8. Trawienie CdTe - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% 9. Trawienie ZnSe - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% Testy te muszą zostać przeprowadzone na podłożach dostarczonych przez Zmawiającego. Do pomiarów spełnienia przez Urządzenie testów akceptacyjnych mogą zostać wykorzystane urządzenia pomiarowo - diagnostyczne znajdujące się w laboratoriach Instytutu Fizyki PAN. Do testów anizotropii trawionych profili wykorzystany zostanie posiadany przez Zamawiającego skaningowy mikroskop elektronowy. Gazy robocze: - urządzanie musi być podłączone do posiadanej instalacji czystych gazów, - linie gazowe doprowadzające gazy reakcyjne muszą być wykonane ze stali nierdzewnej elektropolerowanej, - spawania tylko orbitalne, system odprowadzania gazów poreakcyjnych z pomp oraz z dozownika gazów powinien być wyposażony w niezbędne (wynikające z wykorzystywanych gazów i odpowiednich przepisów) urządzenia utylizacji gazów poreakcyjnych (scrubber), które pozwalają podłączyć ich wylot bezpośrednio do instalacji wyciągowej. Scrubber/y muszą mieć możliwość pomiaru przez użytkownika wartości ph. Neutralizator absorber musi być właściwy dla gazów wymienionych. Wymaga się wykonanie bezpłatnego przeglądu technicznych po pod koniec okresu gwarancji, obejmujących również serwisowanie, wymianę materiałów ulegających zużyciu lub wymagających wymiany. Koszty transportu, przeglądu, koszty materiałów wymienianych oraz koszty wymiany tych materiałów ponosi Wykonawca.

9 Wymagania (wymagane parametry minimalne) Stanowisko do trawienia związkami fluoru z Lp. funkcjonalnością osadzania związków krzemu ICP-PECVD (Inductively -Coupled Plasma Plasma - Enhanced Chemical Vapour Deposition) 5. Skasowano ten podpunkt. System wytwarzania próżni w komorze procesowej: - układ dwóch pomp próżni wstępnej i właściwej, - do wytworzenia próżni wstępnej musi być wykorzystana pompa bezolejowa, - układ zapewniający próżnię 4x10-6 mbar, - czas uzyskania próżni w komorze procesowej od ciśnienia atmosferycznego do ciśnienia 4x10-6 mbar 8. wynosi t 12 godzin, - układ próżniowy odporny na gazy korozyjne, - układ zawierający pompę obrotową i turbomolekularną z magnetycznymi łożyskami o wydajności minimum 500 l/s oraz pompy wstępnej bezolejowej o wydajności minimum 90m3/godzinę, - automatyczna kontrola próżni wstępnej oraz próżni podczas procesów osadzania i trawienia. System musi mieć możliwość podłączenia w przyszłości komory załadowczej/śluzy (vacuum loadlock) czy komory załadowczej w postaci klastera (loadlock for clustering) która umożliwi transfer próbek o różnych kształtach i 10. wymiarach od 5 mm x 5 mm do minimum 2 cali do komory reakcyjnej. Producent musi zagwarantować możliwość podłączenia śluzy w laboratorium Zamawiającego. Gazy robocze: - urządzanie musi być podłączone do posiadanej instalacji czystych gazów, - system odprowadzania gazów poreakcyjnych z pomp oraz z dozownika gazów powinien być wyposażony w niezbędne (wynikające z wykorzystywanych gazów i 12. odpowiednich przepisów) urządzenia utylizacji gazów poreakcyjnych (scrubber), które pozwalają podłączyć ich wylot bezpośrednio do instalacji wyciągowej. Scrubber/y muszą mieć możliwość pomiaru przez użytkownika wartości ph. Neutralizator absorber musi być właściwy dla gazów wymienionych. Sterowanie Urządzenia: - sterowanie komputerowe z dedykowanym oprogramowaniem, - sterowanie musi odbywać się za pomocą szybkiego sterownika PLC (Programmable Logic Controller) z analogowym i cyfrowym I/O, - oprogramowanie musi pozwalać na: logowanie danych procesowych dla każdego procesu oddzielnie (możliwość wyboru parametrów cyfrowych i analogowych), 13. pokazywanie w czasie rzeczywistym zadanych i aktualnych parametrów procesów, sterowanie ręczne, jak również za pomocą wcześniej tworzonych przez użytkowników receptur procesów technologicznych o długości min. 25ms PLC, automatyczną kontrolę nieszczelności oraz kalibracji kontrolerów MFC, a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników, także dla wybranych procesów, Kolumna do wypełnienia przez oferenta Należy potwierdzić lub opisać *

10 16. - komputer sterujący (z systemem operacyjnym Windows 7) wraz z monitorem minimum 19 LCD (zestaw komputerowy kompletny) zapewniający ergonomiczną, płynną i bezproblemową pracę Urządzenia przy korzystaniu z dedykowanego oprogramowania. - Oprogramowanie musi pracować pod systemem operacyjnym Windows 7. - Oprogramowanie musi mieć funkcje wstrzymania hold (plazma ON w momencie przechodzenia do kolejnego etapu procesu, plasma on when switching to a new process step) i przycisk skoku jump (dla ręcznego przełączenia). W ramach testu akceptacyjnego zostanie przeprowadzone sprawdzenie poprawności działania wszystkich układów i elementów Urządzenia poprzez przeprowadzenie testów sprawdzających według norm producenta oraz następujące testy, obejmujące wykonanie minimum 3 procesów technologicznych charakteryzujących się następującymi parametrami (Procesy zostaną wybrane przez Zamawiającego): 1. Trawienie SiO2: - Szybkość trawienia: 30nm/min ±5% - Selektywność do aluminium: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >87 - głębokość trawienia w zakresie od 10 nm do min. 3 μm 2. Trawienie poliamidu: - Szybkość trawienia: ~500nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 20:1 3. Trawienie emulsji fotolitograficznych z powierzchni półprzewodników i dielektryków: - Szybkość trawienia: >100nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >70 4. Trawienie Si: - Szybkość trawienia: ~2000nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >88 5. Trawienie SixNy: - Szybkość trawienia: ~150nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 1.5:1 6. Osadzanie SiO2: - Szybkość osadzania: co najwyżej 8nm/min - Jednorodność procesu: ±3% - Natężenie pola elektrycznego przebicia warstwy: co najmniej 5 MV/cm (dla warstwy o grubości 200nm) - Współczynnik załamania światła dla 630nm ~ Osadzanie azotek krzemu (SixNy): - Szybkość osadzania: co najwyżej 8nm/min - Jednorodność procesu: ±3% - Współczynnik załamania światła (dla ~630nm): 1,9 2,1 - Jednorodność grubości warstwy: ±2% (na podłożu 50mm), na podłożach większych niż 2 cale ±5%, - Natężenie pola elektrycznego przebicia warstwy: co

11 najmniej 5 MV/cm (dla warstwy o grubości 200nm), 8. Osadzanie tlenko-azotku krzemu (SiOxNy): - Szybkość osadzania: co najwyżej 8nm/min, - Jednorodność procesu: ±3%, - Współczynnik załamania światła (dla ~630nm): 1,5 1,8 - Jednorodność grubości warstwy: ±2% (na podłożu 50mm), na podłożach większych niż 2 cale ±5%, - Natężenie pola elektrycznego przebicia warstwy: co najmniej 5 MV/cm (dla warstwy o grubości 200nm), 9. Osadzanie krzemu amorficznego (a-si): - Szybkość osadzania: co najwyżej 7nm/min, - Jednorodność procesu: ±3%, - Współczynnik załamania światła (dla ~630nm): 1,5 1,8, - Jednorodność grubości warstwy: ±2% (na podłożu 50mm), na podłożach większych niż 2 cale ±5%, 10. Sprawdzenie selektywności procesu trawienia warstw dielektrycznych (SiO2, Si3N4) względem różnych emulsji fotolitograficznych oraz sprawdzenie powtarzalności procesu trawienia. 18. Testy te muszą zostać przeprowadzone na podłożach dostarczonych przez Zmawiającego. Do pomiarów spełnienia przez Urządzenie testów akceptacyjnych mogą zostać wykorzystane urządzenia pomiarowodiagnostyczne znajdujące się w laboratoriach Instytutu Fizyki PAN. Do testów anizotropii trawionych profili wykorzystany zostanie posiadany przez Zamawiającego skaningowy mikroskop elektronowy. Wymaga się wykonanie bezpłatnego przeglądu technicznych po pod koniec okresu gwarancji, obejmujących również serwisowanie, wymianę materiałów ulegających zużyciu lub wymagających wymiany. Koszty transportu, przeglądu, koszty materiałów wymienianych oraz koszty wymiany tych materiałów ponosi Wykonawca. Pełen opis w załączniku.

12 pieczęć adresowa Oferenta data Stanowisko do trawienia związkami chloru ICP-RIE (Inductively-Coupled Plasma for Reactive Ion Etching) i związkami fluoru z funkcjonalnością osadzania związków krzemu (ICP-PECVD Inductively-Coupled Plasma Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition) wchodzących w skład uniwersalnej linii technologicznej do badań procesów wytwarzania nanostruktur i prototypów przyrządów półprzewodnikowych, nadprzewodnikowych i metalicznych. Lp Wymagania (wymagane parametry minimalne) Stanowisko do trawienia związkami chloru ICP-RIE (Inductively-Coupled Plasma for Reactive Ion Etching) Selektywne, kontrolowane i powtarzalne trawienie metodą ICP-RIE warstw technologicznych w plazmie opartej o związki chloru. Urządzenie stanowi integralną całość, ale musi zostać zapewniona możliwość dołączenia Urządzenia do systemu urządzeń (ang. cluster tool ). Dozownik gazów roboczych (ang. gaspod/gasbox) oraz źródło zasilania nie muszą być integralnymi częściami Urządzenia. Urządzenie musi umożliwić trawienie miedzy innymi takich materiałów jak: GaAs, GaAs/AlGaAs, InP, GaN, ZnO, Al, CdTe, ZnSe, HfO 2. Komora procesowa: - wykonana w całości z jednego bloku aluminiowego (full block of Al), - z połączeniem kołnierzowym o średnicy nie mniejszej niż 150mm dla efektywnego odpompowywania, - flansza wejściowa o średnicy nie mniejszej niż 40mm z oknem obserwacyjnym, - dodatkowa flansza o średnicy nie mniejszej niż 40mm do systemu detekcji końca procesu, - wewnątrz brak połączeń skręcanych i spawanych, - wykonywanie procesów dla płytek o wielkości od 5 mm x 5 mm do 2 oraz dla płytek o nieregularnych kształtach, - grzanie komory (np. rezystancyjnie) do co najmniej 60 C. Obudowa Urządzenia: - elementy kontrolne pracy Urządzenia zintegrowane w obudowie, - obudowa zawiera w sobie pompy turbomolekularne i wszelkie zawory. Elektroda dolna: - średnica elektrody dostosowana do przeprowadzania procesów technologicznych na podłożach o wymiarach od 5mm x 5mm do podłoży o średnicy co najmniej 50mm (2 cale), - chłodzona wodą, - zasilana ze źródła RF (13,56 MHz), - aluminiowa przesłona maskująca uziemiona (osłona ciemnego regionu - ang. dark space shield), - regulacja temperatury elektrody podłożowej w minimalnym zakresie od -30 C do 80 C przy dostarczonym chłodzeniu wodnym, sterowanie za pomocą komputera, - regulacja temperatury elektrody podłożowej w minimalnym zakresie od -150 C do 400 C przy chłodzeniu LN2 włączając He (ang. helium backside cooling), - musi być dostarczony transfer do chłodzenia (transfer do Kolumna do wypełnienia przez oferenta Należy potwierdzić lub opisać *

13 połączenia elektrody podłożowej z posiadanym Dewar-em), - średnica elektrody w zakresie od 200 mm do 220 mm. Generator plazmy RF: - generator RF o częstotliwości 13,56 MHz o mocy od co najwyżej 30W do co najmniej 300W z układem automatycznego dopasowania impedancji, - kontrola mocy wychodzącej i/lub ujemnego potencjału autopolaryzacji, - wstępne niezależne, automatyczne dopasowanie impedancji poprzez kondensatory dopasowujące dla każdego etapu procesu sterowane z zaprogramowanych pozycji sterowanych za pomocą komputera (work in automatic matching mode with preset positions (from the PC, for each step)), - praca z ustalonymi pozycjami kondensatorów sterowanych za pomocą komputera na każdym etapie procesu (work with fixed capacitor positions (from the PC, for each step)), - praca w trybie automatycznego dopasowania impedancji (work in automatic matching mode). Źródło plazmy ICP: - średnica źródła zoptymalizowana do przeprowadzania procesów na podłożach do 50 mm (2 cale), z jednorodnością procesu ±5%, - zoptymalizowane do pracy z małymi próbkami (5x5mm)do maksymalnej średnicy 75 mm, - źródło typu helical, - generator o częstotliwości minimum 13,56 MHz o mocy od co najwyżej 30W do co najmniej 300 W z układem automatycznego dopasowania impedancji, - układ dopasowania mocy wejściowej jako parametr procesowy (Matching unit capacitor positions selectable as process parameters), - ekranowanie elektrostatyczne w celu minimalnego defektowania podłoża oraz trawionych okien w trakcie procesu (With no capacitance component, ie electrostatic shielding), - flansza o średnicy 25mm w górnej elektrodzie do instalacji i elipsometru laserowego - interferometru laserowego. System wytwarzania próżni w komorze reaktora: - system próżni suchej składający się z układu pompy próżni wstępnej i właściwej, - do wytworzenia próżni wstępnej musi być wykorzystana pompa bezolejowa o wydajności min. 90m3/h, - do wytworzenia próżni właściwej musi być wykorzystana pompa turbomolekularna z łożyskami magnetycznymi, o wydajności min. 500l/s, - pompa próżni wstępnej zainstalowana w pomieszczeniu technicznym, - układ próżniowy odporny na gazy korozyjne, - układ zapewniający próżnię 5x10-6mbar lub lepszą, - automatyczna kontrola próżni wstępnej oraz próżni podczas procesów trawienia. System pomiaru próżni w komorze reaktora: - pomiar próżni do 100 mtorr, - rozdzielczość wskaźnika co najmniej 1 mtorr, - kompensacja temperaturowa. System dostarczania gazów roboczych: - dozownik gazów (ang. gaspod/gasbox) umożliwiający dystrybucję minimum 8 typów gazów roboczych, - dozownik gazów (ang. gaspod/gasbox) wyposażony w przepływomierze (MFC) wykalibrowane na następujące gazy: sześciofluorek siarki (SF 6 ), chlor (Cl 2 ), trójchlorek boru (BCl 3 ),

14 metan (CH 4 ), azot analityczny (N), tlen (O 2 ), argon (Ar), wodór (H 2 ), - linie gazów szczególnie niebezpiecznych wyposażone w systemy dodatkowego przedmuchu oraz tzw. bypass, - linie gazowe doprowadzające gazy technologiczne do komory procesowej elektropolerowane, spawane orbitalnie, - każda linia gazowa wyposażona w filtr pyłów, elektropneumatyczny zawór odcinający, linie gazowe z bypassem powinny być wyposażone w min. 3 zawory, - linie dostarczające gazy robocze oparte o chlor i bromowodór charakteryzujące się dodatnim gradientem temperatury do przepływomierza w celu eliminacji efektu kondensacji, konieczność zachowania dodatniego gradientu temperatury od butli z gazem aż do przepływomierza, tj. w przypadku przechowywania butli w temp. ~20 C, linia gazowa musi być utrzymywana w temperaturze ~35 C, natomiast przepływomierz ~40 C; zapobiega to kondensacji gazu w linii, - wykorzystane złączki tylko typu VCR, - system musi być wyposażony w odpowiedni komin i podłączony do posiadanego systemu wentylacji. Automatyczna komora załadowcza/śluza (vacuum loadlock): - wykonana w całości z jednego bloku aluminiowego, - objętość komory nie większa niż 5 litrów, - wyposażona we własny system wytwarzający próżnię pompa próżni suchej wstępnej o wydajności min. 15m3/h i pompa turbomolekularna o wydajności min. 70 l/s - wyposażona w próżniomierze typu Pirani i Penning oraz zawory, - komora załadowcza wyposażona w transfer do transportu próbek o różnych kształtach o wymiarach od 5 mm x 5 mm do minimum 2 cali do komory reakcyjnej. Sterowanie Urządzenia: - sterowanie komputerowe z dedykowanym oprogramowaniem, - sterowanie musi odbywać się za pomocą szybkiego sterownika PLC (Programmable Logic Controller) z analogowym i cyfrowym I/O, - oprogramowanie musi pozwalać na: logowanie danych procesowych dla każdego procesu oddzielnie (możliwość wyboru parametrów cyfrowych i analogowych, które mają podlegać logowaniu), pokazywanie w czasie rzeczywistym zadanych i aktualnych parametrów procesów, sterowanie ręczne, jak również za pomocą wcześniej tworzonych przez użytkowników receptur procesów technologicznych o długości min. 25ms PLC, automatyczną kontrolę nieszczelności oraz kalibracji kontrolerów MFC, a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników, także dla wybranych procesów, - komputer sterujący (z systemem operacyjnym Windows 7) wraz z monitorem minimum 19 LCD (zestaw komputerowy kompletny) zapewniający ergonomiczną, płynną i bezproblemową pracę Urządzenia przy korzystaniu z dedykowanego oprogramowania. - Oprogramowanie musi pracować pod systemem operacyjnym Windows 7. - Oprogramowanie musi mieć funkcje wstrzymania hold (plazma ON w momencie przechodzenia do kolejnego etapu procesu, plasma on when switching to a new process step) i przycisk skoku jump ( dla ręcznego przełączenia). Układ chłodzenia: - wymaga się dostarczenia odpowiedniego układu do chłodzenia zapewniającego stabilną prace całego systemu (układ chłodzenia może być wspólny dla urządzeń ICP-RIE i ICP-PECVD),

15 musi zapewniać chłodzenie pompy turbo, generatora plamy, podłoża oraz innych komponentów urządzenia, - układ do chłodzenia woda-powietrze, - przepływ minimum 10 l/minutę, - temperatura chłodziwa od 10 do 25 C. Elipsometr laserowy - interferometr laserowy: - wymaga się dostarczenia dedykowanego systemu do monitorowania głębokości trawienia in-situ heterostruktur, - monitorowanie głębokości trawienia in-situ heterostruktur dla małych próbek 5x5mm oraz większych do minimum 50 mm, - wyposażonego w kamerę CCD, stolik x/y z przesuwem w zakresie ± 1cm oraz w dedykowany laser o długości 675 nm. - wyposażony w odpowiednie oprogramowanie do pomiaru głębokości trawienia heterostruktur. - oprogramowanie do obsługi elipsometru laserowego musi być zintegrowane z oprogramowaniem do obsługi ICP-RIE oraz ICP- PECVD używając sygnału z elipsometru i jego pierwszej pochodnej. - system musi mieć możliwość przenoszenia i wykonywania pomiarów zarówno u rządzeniu ICP-RIE i ICP-PECVD. System efektywnego chłodzenia (kriogenicznego) elektrody podłożowej zapewniający doskonały kontakt termiczny podłoża półprzewodnikowego z elektrodą - dodatkowe wyposażenie w klemę przytrzymującą podłoże, wykonaną z SiO 2 lub innego materiału o podobnej odporności, dostosowaną do podłoży: od 5x5mm do minimum 50mm. System musi być przystosowany do pracy w pomieszczeniu typu clean room, minimum klasy W ramach testu akceptacyjnego zostanie przeprowadzone sprawdzenie poprawności działania wszystkich układów i elementów Urządzenia poprzez przeprowadzenie testów sprawdzających według norm producenta oraz następujące testy, obejmujące wykonanie minimum 2 procesów technologicznych charakteryzujących się następującymi parametrami (Procesy zostaną wybrane przez Zamawiającego): 1. Trawienie GaN - Szybkość trawienia: ~75nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 0,8: Trawienie GaN - Szybkość trawienia: ~250nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 10:1 3.Trawienie Polikrzemu - Szybkość trawienia: ~50nm/min ±5% - Selektywność do SiO2: co najmniej 2:1 -Jednorodność procesu: ±5% -Nachylenie ścian trawionych okien: >85 4. Trawienie Dwutlenku hafnu (HfO2) - Szybkość trawienia: większa niż 1nm/min ±5%

16 5. Trawienie Trójtlenku aluminium (Al2O3) - Szybkość trawienia: ~5nm/min ±5% - Selektywność do niklu Ni: co najmniej 7:1 6. Trawienie ZnO - Szybkość trawienia: ~50nm/min ±5% - Selektywność do niklu Ni: co najmniej 7:1, 7. Trawienie GaAs/AlGaAs - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 4:1 - Selektywność do GaAs:AlGaAs: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >88 8. Trawienie CdTe - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% 9. Trawienie ZnSe - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% Testy te muszą zostać przeprowadzone na podłożach dostarczonych przez Zmawiającego. Do pomiarów spełnienia przez Urządzenie testów akceptacyjnych mogą zostać wykorzystane urządzenia pomiarowo - diagnostyczne znajdujące się w laboratoriach Instytutu Fizyki PAN. Do testów anizotropii trawionych profili wykorzystany zostanie posiadany przez Zamawiającego skaningowy mikroskop elektronowy. Gazy robocze: - urządzanie musi być podłączone do posiadanej instalacji czystych gazów, - linie gazowe doprowadzające gazy reakcyjne muszą być wykonane ze stali nierdzewnej elektropolerowanej, - spawania tylko orbitalne, system odprowadzania gazów poreakcyjnych z pomp oraz z dozownika gazów powinien być wyposażony w niezbędne (wynikające z wykorzystywanych gazów i odpowiednich przepisów) urządzenia utylizacji gazów poreakcyjnych (scrubber), które pozwalają podłączyć ich wylot bezpośrednio do instalacji wyciągowej. Scrubber/y muszą mieć możliwość pomiaru przez użytkownika wartości ph. Neutralizator absorber musi być właściwy dla gazów wymienionych. Maksymalne wymiary systemu (footprint): szerokość 68 cm, długość 190 cm, wysokość 200 cm.

17 Wymaga się wykonanie bezpłatnego przeglądu technicznych po pod koniec okresu gwarancji, obejmujących również serwisowanie, wymianę materiałów ulegających zużyciu lub wymagających wymiany. Koszty transportu, przeglądu, koszty materiałów wymienianych oraz koszty wymiany tych materiałów ponosi Wykonawca. Wszystkie wtyczki, gniazda elektryczne, zasilanie, złącza wodne etc. muszą być zgodne z polskimi standardami. Producent musi potwierdzić, że posiada własne laboratorium aplikacyjne od minimum 20 lat w zakresie aparatury ICP i posiada tam minimum 4 systemy ICP. Producent musi potwierdzić, że posiada zainstalowanych minimum 100 urządzeń to trawienia plazmowego ICP z śluzą. Urządzenie musi posiadać Certyfikat zgodności z normą ISO 14001:2004 (zarządzanie środowiskiem). System musi posiadać i spełniać wymogi norm CE: - Dyrektywa Maszynowa /42 / WE, - Dyrektywa niskonapięciowa LVD /95 / WE, - Dyrektywa dotycząca kompatybilność elektromagnetycznej EMC 2004/108 / WE. Lp. Wymagania (wymagane parametry minimalne) Stanowisko do trawienia związkami fluoru z funkcjonalnością osadzania związków krzemu ICP-PECVD (Inductively-Coupled Plasma Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition) Kolumna do wypełnienia przez oferenta Należy potwierdzić lub opisać * Selektywne, kontrolowane i powtarzalne trawienie metodą ICP- PECVD warstw technologicznych w plazmie opartej o związki fluoru (trawienia warstw dielektrycznych: SiO 2, SiC, Si, Si 3 N 4 oraz krzemowych warstw półprzewodnikowych, usuwanie emulsji fotolitograficznych oraz masek dielektrycznych z powierzchni półprzewodników) z funkcją osadzania warstw dielektrycznych, m.in.: osadzania dwutlenku krzemu (SiO 2 ), azotku krzemu (Si 3 N 4 ), tlenkuazotku krzemu (SiO x N y ) oraz półprzewodnikowych (amorficznego krzemu a-si) na podłożach półprzewodnikowych o średnicy do co najmniej 50mm. Urządzenie stanowi integralną całość, ale musi zostać zapewniona możliwość dołączenia Urządzenia do systemu urządzeń (ang. cluster tool ). Dozownik gazów roboczych (ang. gaspod/gasbox) oraz źródło zasilania nie muszą być integralnymi częściami urządzenia. Komora procesowa: - wykonana w całości z jednego bloku aluminiowego - z połączeniem kołnierzowym o średnicy nie mniejszej niż 150mm w celu zapewnienia efektywnego pompowania komory jednakże pod warunkiem spełnienia parametrów związanych ze sprawnością odpompowywania, - flansza wejściowa o średnicy nie mniejszej niż 40 mm z oknem obserwacyjnym, - flansza dla systemu detekcji końca procesu, - wewnątrz brak połączeń skręcanych i spawanych, - wykonywanie procesów dla płytek o wielkości od 5 mm x 5 mm do 2 oraz dla płytek o nieregularnych kształtach, - grzanie ścian komory (np. rezystancyjnie) do co najmniej 60 C, - grzanie układu pompowania, pump cylinder.

18 Obudowa Urządzenia: - elementy kontrolne pracy Urządzenia zintegrowane są w 3. obudowie, - zawiera w sobie pompy i wszelkie zawory. (nie musi zawierać pomp wstępnych). Elektroda dolna: - średnica elektrody dostosowana do przeprowadzania procesów technologicznych na podłożach o wymiarach do minimum 50 mm, - zasilana ze źródła RF (13,56 MHz), - możliwość programowanego podgrzewania elektrody do min. 400 C z dokładnością ±10 C - chłodzenie wodą bądź innym czynnikiem chłodzącym aluminiowa przesłona maskująca uziemiona (osłona ciemnego regionu - ang. dark space shield), - regulacja temperatury elektrody podłożowej w minimalnym zakresie od -30 C do 80 C, - regulacja temperatury elektrody podłożowej w minimalnym zakresie od -150 C do 400 C przy chłodzeniu LN2 włączając He (ang. helium backside cooling), Zamawiający zapewnia LN2 dewar, - średnica elektrody w zakresie od 200 mm do 220 mm. 5. Skasowano ten podpunkt. Generacja plazmy RF: - generator o częstotliwości 13,56 MHz o mocy od co najwyżej 30W do co najmniej 300 W z układem automatycznego dopasowania impedancji, - możliwość kontroli mocy wychodzącej i/lub ujemnego potencjału autopolaryzacji, - wstępne niezależne, automatyczne dopasowanie impedancji 6. poprzez kondensatory dopasowujące dla każdego etapu procesu sterowane z zaprogramowanych pozycji sterowanych za pomocą komputera (work in automatic matching mode with preset positions (from the PC, for each step)), - praca z ustalonymi pozycjami kondensatorów sterowanych za pomocą komputera na każdym etapie procesu (work with fixed capacitor positions (from the PC, for each step)), - praca w trybie automatycznego dopasowania impedancji (work in automatic matching mode). Źródło plazmy ICP zoptymalizowane dla próbek maksymalnie 2 calowych: - średnica źródła zoptymalizowana do przeprowadzania procesów na podłożach do 50 mm (2 cale), z jednorodnością procesu ±5%, - zoptymalizowane do pracy z małymi próbkami (5x5mm) do maksymalnej średnicy 75 mm, - źródło typu helical - generator RF (f =13,56 MHz) z automatycznym dopasowaniem 7. impedancji, - minimalna moc generatora P = 300 W, - układ dopasowania mocy wejściowej jako parametr procesowy (Matching unit capacitor positions selectable as process parameters), - z ekranowaniem elektrostatycznym (with no capacitance component, ie electrostatic shielding), - flansza o średnicy 25 mm w górnej elektrodzie do instalacji elipsometru - interferometru laserowego. System wytwarzania próżni w komorze procesowej: 8. - układ dwóch pomp próżni wstępnej i właściwej, - do wytworzenia próżni wstępnej musi być wykorzystana pompa bezolejowa,

19 układ zapewniający próżnię 4x10-6 mbar, - czas uzyskania próżni w komorze procesowej od ciśnienia atmosferycznego do ciśnienia 4x10-6 mbar wynosi t 12 godzin, - układ próżniowy odporny na gazy korozyjne, - układ zawierający pompę obrotową i turbomolekularną z magnetycznymi łożyskami o wydajności minimum 500 l/s oraz pompy wstępnej bezolejowej o wydajności minimum 90m3/godzinę, - automatyczna kontrola próżni wstępnej oraz próżni podczas procesów osadzania i trawienia. System pomiaru próżni w komorze reaktora: - pomiar próżni do 100 mtorr, - rozdzielczość wskaźnika co najmniej 1 mtorr, - kompensacja temperaturowa. System musi mieć możliwość podłączenia w przyszłości komory załadowczej/śluzy (vacuum loadlock) czy komory załadowczej w postaci klastera (loadlock for clustering) która umożliwi transfer próbek o różnych kształtach i wymiarach od 5 mm x 5 mm do minimum 2 cali do komory reakcyjnej. Producent musi zagwarantować możliwość podłączenia śluzy w laboratorium Zamawiającego. System dostarczania gazów roboczych: - dozownik gazów (gaspod/gasbox) umożliwiający dystrybucję co najmniej 9 typów gazów roboczych, - dozownik gazów (gaspod/gasbox) wyposażony w przepływomierze (MFC) wykalibrowane na następujące gazy: silan (SiH 4 ), podtlenek azotu (N 2 O), tlen (O 2 ), argon (Ar), wodór (H 2 ), azot (N 2 ), sześciofluorek siarki (SF 6 ), trifluorometan (CHF 3 ), octafluorocyclobutane (C 4 F 8 ), - linie gazów szczególnie niebezpiecznych (np. silan, czterofluorek węgla) wyposażone w systemy dodatkowego przedmuchu oraz tzw. bypas, - pierścień do dystrybucji gazów umożliwiający procesy ICP PECVD, - linie gazowe doprowadzające gazy technologiczne do komory procesowej elektropolerowane, spawane orbitalnie, - wszystkie zastosowane złączki typu VCR, - każda linia gazowa wyposażona w filtr pyłów, elektropneumatyczny zawór odcinający, natomiast linie gazowe z bypasem powinny być wyposażone w min. 3 zawory, - system musi być wyposażony w odpowiedni komin i podłączony do posiadanego systemu wentylacji. Gazy robocze: - urządzanie musi być podłączone do posiadanej instalacji czystych gazów, - system odprowadzania gazów poreakcyjnych z pomp oraz z dozownika gazów powinien być wyposażony w niezbędne (wynikające z wykorzystywanych gazów i odpowiednich przepisów) urządzenia utylizacji gazów poreakcyjnych (scrubber), które pozwalają podłączyć ich wylot bezpośrednio do instalacji wyciągowej. Scrubber/y muszą mieć możliwość pomiaru przez użytkownika wartości ph. Neutralizator absorber musi być właściwy dla gazów wymienionych. Sterowanie Urządzenia: - sterowanie komputerowe z dedykowanym oprogramowaniem, - sterowanie musi odbywać się za pomocą szybkiego sterownika PLC (Programmable Logic Controller) z analogowym i cyfrowym I/O, - oprogramowanie musi pozwalać na: logowanie danych procesowych dla każdego procesu oddzielnie (możliwość wyboru parametrów cyfrowych i analogowych), pokazywanie w czasie rzeczywistym zadanych i aktualnych parametrów procesów, sterowanie ręczne, jak również za pomocą wcześniej tworzonych przez użytkowników receptur procesów technologicznych o długości min. 25ms PLC,

20 automatyczną kontrolę nieszczelności oraz kalibracji kontrolerów MFC, a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników, także dla wybranych procesów, - komputer sterujący (z systemem operacyjnym Windows 7) wraz z monitorem minimum 19 LCD (zestaw komputerowy kompletny) zapewniający ergonomiczną, płynną i bezproblemową pracę Urządzenia przy korzystaniu z dedykowanego oprogramowania. - Oprogramowanie musi pracować pod systemem operacyjnym Windows 7. - Oprogramowanie musi mieć funkcje wstrzymania hold (plazma ON w momencie przechodzenia do kolejnego etapu procesu, plasma on when switching to a new process step) i przycisk skoku jump (dla ręcznego przełączenia). Układ chłodzenia: - wymaga się dostarczenia odpowiedniego układu do chłodzenia zapewniającego stabilną prace całego systemu (układ chłodzenia może być wspólny dla urządzeń ICP-RIE i ICP-PECVD),, - musi zapewniać chłodzenie pompy turbo, generatora plamy, podłoża oraz innych komponentów urządzenia, - układ do chłodzenia woda-powietrze, - przepływ minimum 10 l/minutę, - temperatura chłodziwa od 10 do 25 C. System musi być przystosowany do pracy w pomieszczeniu typu clean room, minimum klasy W ramach testu akceptacyjnego zostanie przeprowadzone sprawdzenie poprawności działania wszystkich układów i elementów Urządzenia poprzez przeprowadzenie testów sprawdzających według norm producenta oraz następujące testy, obejmujące wykonanie minimum 3 procesów technologicznych charakteryzujących się następującymi parametrami (Procesy zostaną wybrane przez Zamawiającego): 1. Trawienie SiO2: - Szybkość trawienia: 30nm/min ±5% - Selektywność do aluminium: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >87 - głębokość trawienia w zakresie od 10 nm do min. 3 μm 2. Trawienie poliamidu: - Szybkość trawienia: ~500nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 20:1 3. Trawienie emulsji fotolitograficznych z powierzchni półprzewodników i dielektryków: - Szybkość trawienia: >100nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >70 4. Trawienie Si: - Szybkość trawienia: ~2000nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >88 5. Trawienie SixNy: - Szybkość trawienia: ~150nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 1.5:1 6. Osadzanie SiO2:

Znak postępowania: CEZAMAT/ZP01/2013 Warszawa, dnia r. L. dz. CEZ MODYFIKACJA SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA

Znak postępowania: CEZAMAT/ZP01/2013 Warszawa, dnia r. L. dz. CEZ MODYFIKACJA SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA Znak postępowania: CEZAMAT/ZP01/2013 Warszawa, dnia 22.07.2013 r. L. dz. CEZ-207-13 MODYFIKACJA SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA Dotyczy postępowania prowadzonego w trybie przetargu nieograniczonego

Bardziej szczegółowo

MODYFIKACJA SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA

MODYFIKACJA SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA Znak postępowania: CEZAMAT/ZP01/2013 Warszawa, dnia 10.07.2013 r. L. dz. CEZ-170-13 MODYFIKACJA SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA Dotyczy postępowania prowadzonego w trybie przetargu nieograniczonego

Bardziej szczegółowo

WARUNKI INSTALACYJNE. Spektrometry ICP serii Integra. www.gbcpolska.pl

WARUNKI INSTALACYJNE. Spektrometry ICP serii Integra. www.gbcpolska.pl WARUNKI INSTALACYJNE Spektrometry ICP serii Integra www.gbcpolska.pl Pomieszczenie Spektrometr ICP powinien być zainstalowany w oddzielnym pomieszczeniu, gwarantującym niekorozyjną i niezapyloną atmosferę

Bardziej szczegółowo

Mikroskop pomiarowy 3D z głowicą konfokalną do analizy topografii powierzchni - Ilość: 1 kpl.

Mikroskop pomiarowy 3D z głowicą konfokalną do analizy topografii powierzchni - Ilość: 1 kpl. Zamówienie publiczne w trybie przetargu nieograniczonego nr ZP/PN/17/2014 Przedmiot postępowania: Dostawa mikroskopu pomiarowego 3D z głowicą konfokalną do analizy mikrostruktury i topografii powierzchni

Bardziej szczegółowo

SPECYFIKACJA TECHNICZNA ZESTAWU DO ANALIZY TERMOGRAWIMETRYCZNEJ TG-FITR-GCMS ZAŁĄCZNIK NR 1 DO ZAPYTANIA OFERTOWEGO

SPECYFIKACJA TECHNICZNA ZESTAWU DO ANALIZY TERMOGRAWIMETRYCZNEJ TG-FITR-GCMS ZAŁĄCZNIK NR 1 DO ZAPYTANIA OFERTOWEGO SPECYFIKACJA TECHNICZNA ZESTAWU DO ANALIZY TERMOGRAWIMETRYCZNEJ TG-FITR-GCMS ZAŁĄCZNIK NR 1 DO ZAPYTANIA OFERTOWEGO NR 113/TZ/IM/2013 Zestaw ma umożliwiać analizę termiczną próbki w symultanicznym układzie

Bardziej szczegółowo

DZPIE/002/NZU/569/2015 Warszawa, 11 marca 2015 r.

DZPIE/002/NZU/569/2015 Warszawa, 11 marca 2015 r. DZPIE/002/NZU/569/2015 Warszawa, 11 marca 2015 r. Dotyczy udzielenia zamówienia publicznego w trybie "przetargu nieograniczonego" na Uniwersalna linia technologiczna do badań procesów wytwarzania nanostruktur

Bardziej szczegółowo

l.dz. 185/TZ/DW/2015 Oświęcim, dnia 29.05.2015 r.

l.dz. 185/TZ/DW/2015 Oświęcim, dnia 29.05.2015 r. l.dz. 185/TZ/DW/2015 Oświęcim, dnia 29.05.2015 r. Dotyczy: zaproszenie do złożenia oferty cenowej na dostawę urządzeń laboratoryjnych dla Wyposażenia Laboratorium badawczo-rozwojowego środków ochrony roślin

Bardziej szczegółowo

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA CZĘŚĆ 1 PIEC PRÓŻNIOWY OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Przedmiotem zamówienia jest: dostawa pieca próżniowego do wygrzewania nanomateriałów węglowych wraz z: wyposażeniem, instalacją, uruchomieniem, szkoleniem.

Bardziej szczegółowo

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA WRAZ Z WYCENĄ DLA CZĘŚCI I

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA WRAZ Z WYCENĄ DLA CZĘŚCI I Załącznik nr 1a do SIWZ OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA WRAZ Z WYCENĄ DLA CZĘŚCI I Część I Dostawa i instalacja fabrycznie nowych urządzeń: Suszarka mrożeniowa z pompą turbomolekularną i wyposażeniem, kamera

Bardziej szczegółowo

Pirometr przenośny model: 8861B

Pirometr przenośny model: 8861B www.thermopomiar.pl info@thermopomiar.pl tel.: 91-880 88 80, 32-444 90 90 fax: 91-880 80 89, 32-444 90 91 Aparatura kontrolno-pomiarowa i automatyka przemysłowa pomiary temperatury i wilgotności. INSTRUKCJA

Bardziej szczegółowo

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA. Producent i model oferowanego aparatu. Cena netto.. Kwota VAT Cena brutto

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA. Producent i model oferowanego aparatu. Cena netto.. Kwota VAT Cena brutto Załącznik nr 1, znak sprawy DG-2501/8573/1142/11 OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Zadanie nr 1 wirówka mikrolitowa szt.1 Producent i model oferowanego aparatu. Cena netto.. Kwota VAT

Bardziej szczegółowo

Spektrometr ICP-AES 2000

Spektrometr ICP-AES 2000 Spektrometr ICP-AES 2000 ICP-2000 to spektrometr optyczny (ICP-OES) ze wzbudzeniem w indukcyjnie sprzężonej plazmie (ICP). Wykorztystuje zjawisko emisji atomowej (ICP-AES). Umożliwia wykrywanie ok. 70

Bardziej szczegółowo

Aparatura do osadzania warstw metodami:

Aparatura do osadzania warstw metodami: Aparatura do osadzania warstw metodami: Rozpylania mgnetronowego Magnetron sputtering MS Rozpylania z wykorzystaniem działa jonowego Ion Beam Sputtering - IBS Odparowanie wywołane impulsami światła z lasera

Bardziej szczegółowo

Specyfikacja istotnych warunków zamówienia publicznego

Specyfikacja istotnych warunków zamówienia publicznego DZPIE/002/NZU/569/2015 Specyfikacja istotnych warunków zamówienia publicznego Przedmiot postępowania: Uniwersalna linia technologiczna do badań procesów wytwarzania nanostruktur i prototypów przyrządów

Bardziej szczegółowo

Chromatograf gazowy z detektorem uniwersalnym i podajnikiem próbek ciekłych oraz zaworem do dozowania gazów

Chromatograf gazowy z detektorem uniwersalnym i podajnikiem próbek ciekłych oraz zaworem do dozowania gazów Strona1 Sprawa Nr RP.272.79.2014 załącznik nr 6 do SWZ (pieczęć Wykonawcy) PRMTRY TNZN PRZMOTU ZMÓWN Nazwa i adres Wykonawcy:... Nazwa i typ (producent) oferowanego urządzenia:... zęść 1 hromatograf gazowy

Bardziej szczegółowo

II. Kwadropulowy detektor masowy:

II. Kwadropulowy detektor masowy: Brzeźno, dnia 03.10.2014 r. Zapytanie ofertowe Tewex-Repro Spółka z ograniczoną odpowiedzialnością z siedzibą przy, ubiega się o dofinansowanie w ramach Programu Operacyjnego Innowacyjna Gospodarka na

Bardziej szczegółowo

ST 630 PIROMETR Z CELOWNIKIEM LASEROWYM

ST 630 PIROMETR Z CELOWNIKIEM LASEROWYM INSTRUKCJA OBSŁUGI ST 630 PIROMETR Z CELOWNIKIEM LASEROWYM SENTRY OPTRONICS Co., LTD., TAIWAN -2- Spis treści Strona 1. BEZPIECZEŃSTWO POMIARÓW...4 2. SPECYFIKACJA...5 2.1. Cechy konstrukcyjne i użytkowe...5

Bardziej szczegółowo

Materiał szkoleniowy: urządzenia i instalacje do magazynowania i rozprężania gazów specjalnych

Materiał szkoleniowy: urządzenia i instalacje do magazynowania i rozprężania gazów specjalnych Materiał szkoleniowy: urządzenia i instalacje do magazynowania i rozprężania gazów specjalnych Spis treści 1. PANELE ROZPRĘŻANIA, SYSTEMY MONITORUJĄCE / KONTROLNE... 2 2. ZAWORY I REDUKTORY CIŚNIENIA...

Bardziej szczegółowo

Dotyczy: Specyfikacji Istotnych Warunków Zamówienia do przetargu nieograniczonego na dostawę mikroskopu elektronowego - numer Zp/pn/76/2015

Dotyczy: Specyfikacji Istotnych Warunków Zamówienia do przetargu nieograniczonego na dostawę mikroskopu elektronowego - numer Zp/pn/76/2015 Dęblin, dnia 16.09.2015 r. Dotyczy: Specyfikacji Istotnych Warunków Zamówienia do przetargu nieograniczonego na dostawę mikroskopu elektronowego - numer Zp/pn/76/2015 NA PYTANIE DO SPECYFIKACJI ISTOTNYCH

Bardziej szczegółowo

ST 630 PIROMETR Z CELOWNIKIEM LASEROWYM

ST 630 PIROMETR Z CELOWNIKIEM LASEROWYM INSTRUKCJA OBSŁUGI ST 630 PIROMETR Z CELOWNIKIEM LASEROWYM SENTRY OPTRONICS Co., LTD., TAIWAN -2- Spis treści Strona 1. BEZPIECZEŃSTWO POMIARÓW...4 2. SPECYFIKACJA...5 2.1. Cechy konstrukcyjne i użytkowe...5

Bardziej szczegółowo

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA WYMAGANIA TECHNICZNE

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA WYMAGANIA TECHNICZNE Załącznik nr 1 OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA WYMAGANIA TECHNICZNE Przedmiotem zamówienia jest zakup, dostawa, montaż i uruchomienie następujących środków trwałych służących do utworzenia i uruchomienia stanowisk

Bardziej szczegółowo

ROZDZIAŁ IV OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA

ROZDZIAŁ IV OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA ROZDZIAŁ IV OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Definicje legalne: Laboratorium wszędzie gdzie w specyfikacji technicznej pojawia się sformułowanie laboratorium należy przez to rozumieć Laboratorium CryoSEM Mikroskop

Bardziej szczegółowo

Załącznik nr 1 do SIWZ

Załącznik nr 1 do SIWZ Załącznik nr 1 do SIWZ FORMULARZ OFERTY TECHNICZNEJ NA DOSTAWĘ SPRZĘTU MEDYCZNEGO NA POTRZEBY WOJSKOWEJ SPECJALISTYCZNEJ PRZYCHODNI LEKARSKIEJ SPZOZ W SZCZECINKU - audiotympanometr Audiotympanometr kpl.

Bardziej szczegółowo

WYJAŚNIENIE TREŚCI SIWZ

WYJAŚNIENIE TREŚCI SIWZ Warszawa, dnia 17.11.2015r. WYJAŚNIENIE TREŚCI SIWZ Dotyczy przetargu nieograniczonego na: Dostawa stołowego skaningowego mikroskopu elektronowego wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów

Bardziej szczegółowo

Conex DIA. Conex DIA-1

Conex DIA. Conex DIA-1 Conex DIA Seria Conex DIA (Dosing Instrumentation Advanced Zaawansowany Osprzęt Dozujący) jest zaprojektowana tak, aby była łatwa w obsłudze nawet dla zwykłych użytkowników. Proste menu tekstowe pozwala

Bardziej szczegółowo

Wygląd rozdziału II oraz załącznika nr 2 do SIWZ (Tabela zgodności oferowanego przedmiotu zamówienia z wymaganiami Zamawiającego) po modyfikacji:

Wygląd rozdziału II oraz załącznika nr 2 do SIWZ (Tabela zgodności oferowanego przedmiotu zamówienia z wymaganiami Zamawiającego) po modyfikacji: Wygląd rozdziału II oraz załącznika nr 2 do SIWZ (Tabela zgodności oferowanego przedmiotu zamówienia z wymaganiami Zamawiającego) po modyfikacji: OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Rozdział II Przedmiotem zamówienia

Bardziej szczegółowo

CZĘŚĆ II SIWZ OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA. 1. Przedmiot zamówienia 2. Parametry techniczne urządzeń 3. Gwarancja

CZĘŚĆ II SIWZ OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA. 1. Przedmiot zamówienia 2. Parametry techniczne urządzeń 3. Gwarancja CZĘŚĆ II SIWZ OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA 1. Przedmiot zamówienia 2. Parametry techniczne urządzeń 3. Gwarancja 1. PRZEDMIOT ZAMÓWIENIA 1.1. Przedmiotem zamówienia jest zakup urządzeń do prowadzenia gospodarki

Bardziej szczegółowo

Czujniki podczerwieni do bezkontaktowego pomiaru temperatury. Czujniki stacjonarne.

Czujniki podczerwieni do bezkontaktowego pomiaru temperatury. Czujniki stacjonarne. Czujniki podczerwieni do bezkontaktowego pomiaru temperatury Niemiecka firma Micro-Epsilon, której WObit jest wyłącznym przedstawicielem w Polsce, uzupełniła swoją ofertę sensorów o czujniki podczerwieni

Bardziej szczegółowo

Charakterystyka przedmiotu zamówienia

Charakterystyka przedmiotu zamówienia Załącznik nr 5 do siwz W/NO/ZP-2/12 Charakterystyka przedmiotu zamówienia Ilekroć w treści siwz, w tym w opisie przedmiotu zamówienia, użyte są znaki towarowe, patenty lub pochodzenie, a także normy, Zamawiający

Bardziej szczegółowo

Wypełnia Wykonawca Opis Wykonawcy

Wypełnia Wykonawca Opis Wykonawcy Oferowany przedmiot zamówienia Załącznik Nr 1 do oferty Postępowanie Nr ZP/55/2011 Lp. Opis Nazwa asortymentu, typ, model, nr katalogowy, nazwa producenta *) Il. szt. [kpl.] 1 Wiskozymetr elektroniczny

Bardziej szczegółowo

Załącznik nr 1. Specyfikacja techniczna dla dostawy 1 szt. automatycznego analizatora stężenia benzenu w powietrzu atmosferycznym.

Załącznik nr 1. Specyfikacja techniczna dla dostawy 1 szt. automatycznego analizatora stężenia benzenu w powietrzu atmosferycznym. Załącznik nr 1 Specyfikacja techniczna dla dostawy 1 szt. automatycznego analizatora stężenia benzenu w powietrzu atmosferycznym. Tabela 1. Wymagania ogólne Lp. 1. Opis zadania Opis 2. Dokumentacja techniczna

Bardziej szczegółowo

Biuro Projektowe "PROJEKT" 04-074 Warszawa. Al. Waszyngtona 53a m. 43 PRZEDMIAR ROBÓT

Biuro Projektowe PROJEKT 04-074 Warszawa. Al. Waszyngtona 53a m. 43 PRZEDMIAR ROBÓT Biuro Projektowe "PROJEKT" 04-074 Warszawa. Al. Waszyngtona 53a. 43 PRZEDMIAR ROBÓT Klasyfikacja robót wg. Wspólnego Słownika Zaówień 45333000-0 Roboty instalacyjne gazowe 45333100-1 Instalowanie urządzeń

Bardziej szczegółowo

Wszystkie rozwiązanie techniczne jakie znalazły zastosowanie w Avio kw zostały wykorzystane również w tej grupie urządzeń.

Wszystkie rozwiązanie techniczne jakie znalazły zastosowanie w Avio kw zostały wykorzystane również w tej grupie urządzeń. ZEUS 24 kw W ciągu ponad czterdziestoletniej produkcji gazowych kotłów grzewczych Immergas za cel nadrzędny stawiał sobie zapewnienie komfortu ciepłej wody użytkowej. Nie zapomnieliśmy o tym i w tym przypadku.

Bardziej szczegółowo

THICK 800A DO POMIARU GRUBOŚCI POWŁOK. THICK 800A spektrometr XRF do szybkich, nieniszczących pomiarów grubości powłok i ich składu.

THICK 800A DO POMIARU GRUBOŚCI POWŁOK. THICK 800A spektrometr XRF do szybkich, nieniszczących pomiarów grubości powłok i ich składu. THICK 800A DO POMIARU GRUBOŚCI POWŁOK THICK 800A spektrometr XRF do szybkich, nieniszczących pomiarów grubości powłok i ich składu. Zoptymalizowany do pomiaru grubości warstw Detektor Si-PIN o rozdzielczości

Bardziej szczegółowo

(Pieczęć Wykonawcy) Załącznik nr 8 do SIWZ Nr postępowania: ZP/259/050/D/11. Opis oferowanej dostawy OFERUJEMY:

(Pieczęć Wykonawcy) Załącznik nr 8 do SIWZ Nr postępowania: ZP/259/050/D/11. Opis oferowanej dostawy OFERUJEMY: . (Pieczęć Wykonawcy) Załącznik nr 8 do SIWZ Nr postępowania: ZP/259/050/D/11 Opis oferowanej dostawy OFERUJEMY: 1) Mikroskop AFM według pkt 1 a) załącznika nr 7 do SIWZ, model / producent..... Detekcja

Bardziej szczegółowo

ZAŁĄCZNIKI DO ZŁOŻENIA OFERTY L.DZ. 342/ZM/S2/2010

ZAŁĄCZNIKI DO ZŁOŻENIA OFERTY L.DZ. 342/ZM/S2/2010 ZAPYTANIE OFERTOWE DLA PROJEKTU,, ROZBUDOWA DZIAŁALNOŚCI SYNTHOS S.A. W ZAKRESIE PROWADZENIA PRAC B+R ( POIG.04.02.00-12-008/10) ZAŁĄCZNIKI DO ZŁOŻENIA OFERTY L.DZ. 342/ZM/S2/2010 1. Reaktory szklane z

Bardziej szczegółowo

Znak sprawy: RSS/ZPFSiZ/P-84/./2012 Radom, dnia OGŁOSZENIE O ZMIANIE OGŁOSZENIA O ZAMÓWIENIU Przetarg nieograniczony

Znak sprawy: RSS/ZPFSiZ/P-84/./2012 Radom, dnia OGŁOSZENIE O ZMIANIE OGŁOSZENIA O ZAMÓWIENIU Przetarg nieograniczony RADOMSKI SZPITAL SPECJALISTYCZNY im. dr Tytusa Chałubińskiego 26-610 Radom, ul. Tochtermana 1 Dział Zamówień Publicznych, Funduszy Strukturalnych i Zaopatrzenia www.szpital.radom.pl; zampubl@rszs.regiony.pl

Bardziej szczegółowo

Wykaz urządzeń Lp Nazwa. urządzenia 1. Luksomierz TES 1332A Digital LUX METER. Przeznaczenie/ dane techniczne Zakres 0.. 200/2000/20000/ 200000 lux

Wykaz urządzeń Lp Nazwa. urządzenia 1. Luksomierz TES 1332A Digital LUX METER. Przeznaczenie/ dane techniczne Zakres 0.. 200/2000/20000/ 200000 lux Wykaz urządzeń Lp Nazwa urządzenia 1 Luksomierz TES 1332A Digital LUX METER Przeznaczenie/ dane techniczne Zakres 0 200/2000/20000/ 200000 lux 2 Komora klimatyczna Komora jest przeznaczona do badania oporu

Bardziej szczegółowo

Przetworniki ciśnienia do zastosowań ogólnych typu MBS 1700 i MBS 1750

Przetworniki ciśnienia do zastosowań ogólnych typu MBS 1700 i MBS 1750 MAKING MODERN LIVING POSSIBLE Karta katalogowa Przetworniki ciśnienia do zastosowań ogólnych typu MBS 1700 i MBS 1750 Kompaktowe przetworniki ciśnienia typu MBS 1700 i MBS 1750 przeznaczone są do pracy

Bardziej szczegółowo

Przepływomierze termiczne do pomiaru przepływu gazów NFT64, NFT65

Przepływomierze termiczne do pomiaru przepływu gazów NFT64, NFT65 Przepływomierze termiczne do pomiaru przepływu gazów NFT64, NFT65 Aplikacje pomiaru przepływu sprężonego powietrza i innych gazów lub mieszanek gazów Aplikacje pomiaru przepływu sprężonego powietrza lub

Bardziej szczegółowo

Manometr różnicowy Model A2G-10

Manometr różnicowy Model A2G-10 Machaniczny pomiar ciśnienia Manometr różnicowy Model A2G-10 Karta katalogowa WIKA PM 07.40 inne aprobaty patrz strona 5 Zastosowanie Do monitoringu ciśnienia różnicowego powietrza i innych niepalnych

Bardziej szczegółowo

Znak postępowania: CEZAMAT/ZP14/2015/F Warszawa, 12.06.2015 r. L. dz. CEZ - 195/15 ODPOWIEDZI NA PYTANIA DO SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA

Znak postępowania: CEZAMAT/ZP14/2015/F Warszawa, 12.06.2015 r. L. dz. CEZ - 195/15 ODPOWIEDZI NA PYTANIA DO SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA Znak postępowania: CEZAMAT/ZP14/2015/F Warszawa, 12.06.2015 r. L. dz. CEZ - 195/15 ODPOWIEDZI NA PYTANIA DO SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA Dotyczy postępowania prowadzonego w trybie przetargu

Bardziej szczegółowo

Zał. nr 1 do Zapytania ofertowego/zaproszenia do składania ofert... FORMULARZ OFERTOWY

Zał. nr 1 do Zapytania ofertowego/zaproszenia do składania ofert... FORMULARZ OFERTOWY (nazwa i adres oferenta) (miejscowość i data) Tel::;Fax: Regon NIP: FORMULARZ OFERTOWY Medicofarma SA (Zamawiający) W związku z zapytaniem ofertowym nr opublikowanym w dniu na dostawę JA NIŻEJ PODPISANY

Bardziej szczegółowo

FORMULARZ OFERTOWY. Niniejsza oferta stanowi odpowiedź na zapytanie ofertowe nr 1/09/2016/BIOOPA z dnia

FORMULARZ OFERTOWY. Niniejsza oferta stanowi odpowiedź na zapytanie ofertowe nr 1/09/2016/BIOOPA z dnia (miejscowość, data) FORMULARZ OFERTOWY Niniejsza oferta stanowi odpowiedź na zapytanie ofertowe nr 1/09/2016/BIOOPA z dnia. dotyczące zadań realizowanych w ramach Projektu Opracowanie innowacyjnej metody

Bardziej szczegółowo

FORMULARZ OFERTY. Samorząd Województwa Mazowieckiego ul. B. Brechta Warszawa

FORMULARZ OFERTY. Samorząd Województwa Mazowieckiego ul. B. Brechta Warszawa , dnia r. Pieczęć wykonawcy(ów) FORMULARZ OFERTY Samorząd Województwa Mazowieckiego ul. B. Brechta 3 03 472 Warszawa Ja (my), Imiona i nazwiska osób reprezentujących wykonawcę działając w imieniu i na

Bardziej szczegółowo

Lublin, r.

Lublin, r. Nr sprawy AZP-250-ZP-BT/PN-p206-04/IV/2009 Lublin, 11.09.2009r. Dotyczy: postępowania o udzielenie zamówienia publicznego o wartości szacunkowej powyżej 206 000 EURO prowadzonego w trybie przetargu nieograniczonego

Bardziej szczegółowo

Spektrometry Ramana JASCO serii NRS-5000/7000

Spektrometry Ramana JASCO serii NRS-5000/7000 Spektrometry Ramana JASCO serii NRS-5000/7000 Najnowsza seria badawczych, siatkowych spektrometrów Ramana japońskiej firmy Jasco zapewnia wysokiej jakości widma. Zastosowanie najnowszych rozwiązań w tej

Bardziej szczegółowo

Parametr Wymagany parametr Oferowany parametr 1. 2. 3. a) z wbudowaną pompą membranową PTEE, b) kondensorem par, System

Parametr Wymagany parametr Oferowany parametr 1. 2. 3. a) z wbudowaną pompą membranową PTEE, b) kondensorem par, System Załącznik nr 1A do SIWZ. PARAMETRY TECHNICZNE PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Zadanie nr 1. TERMOSTAT CYRKULACYJNY Termostat cyrkulacyjny Z grzaniem i chłodzeniem Zakres temperatury roboczej 25 o C do + 200 o C

Bardziej szczegółowo

Inkubator transportowy

Inkubator transportowy Inkubator transportowy WYMAGANIA TECHNICZNE GRANICZNE I Parametry opisane muszą odpowiadać respiratorowi w oferowanej konfiguracji! Parametr oferowany - nr strony w załączonych materiałach /NIE WYMAGANIA

Bardziej szczegółowo

ZAŁĄCZNIKI DO ZŁOŻENIA OFERTY L.DZ. 343/ZM/S2/2010

ZAŁĄCZNIKI DO ZŁOŻENIA OFERTY L.DZ. 343/ZM/S2/2010 ZAPYTANIE OFERTOWE DLA PROJEKTU,, OPRACOWANIE I WDROŻENIE DO DZIAŁALNOŚCI GOSPODARCZEJ EKOLOGICZNYCH KLEJÓW OPARTYCH NA BIO- KOMPONENTACH ( POIG.01.04.00-12-066/09 ) ZAŁĄCZNIKI DO ZŁOŻENIA OFERTY L.DZ.

Bardziej szczegółowo

URZĄDZENIA NIEMODULARNE

URZĄDZENIA NIEMODULARNE URZĄDZENIA NIEMODULARNE URZĄDZENIA NIEMODULARNE Kuchnie gazowe Snack 111 Frytownice Snack 112 Płyty grillowe Snack 112 Piekarniki 113 Kuchnie z piekarnikami przelotowymi 115 Taboret gazowy 117 Szafki podgrzewane

Bardziej szczegółowo

PARAMETRY TECHNICZNE I WARUNKI BEZWZGLĘDNIE WYMAGANE

PARAMETRY TECHNICZNE I WARUNKI BEZWZGLĘDNIE WYMAGANE PARAMETRY TECHNICZNE I WARUNKI BEZWZGLĘDNIE WYMAGANE Kwadrupolowy spektrometr mas z plazmą indukcyjnie sprzężoną ICP-MS z wyposażeniem i oprogramowaniem model/typ.... *; producent.....*; rok produkcji

Bardziej szczegółowo

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA 35 CZEŚĆ III OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA (OPZ) OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA 36 1. Nazwa (firma) i adres Zamawiającego. Wodociągi Dębickie Sp. z o.o. ul. Kosynierów Racławickich 35 39-200 Dębica zwane dalej

Bardziej szczegółowo

PULSOKSYMETR sieciowo akumulatorowy dla dzieci do opieki domowej 3 sztuki

PULSOKSYMETR sieciowo akumulatorowy dla dzieci do opieki domowej 3 sztuki Załącznik nr 4 Pakiet nr 2 PULSOKSYMETR sieciowo akumulatorowy dla dzieci do opieki domowej 3 sztuki Lp. 1. Oferent/Producent Podać 2. Nazwa i typ Podać 3. Deklaracja zgodności 4. Rok produkcji 2012 5.

Bardziej szczegółowo

Pompy ciepła woda-powietrze Model LV (1,9 do 17,1 kw)

Pompy ciepła woda-powietrze Model LV (1,9 do 17,1 kw) Pompy ciepła woda-powietrze Model LV (1,9 do 17,1 kw) 2 Pompy ciepła woda-powietrze Kompaktowe, efektywne i bogate w opcje Seria LV Pompa ciepła typu LV woda-powietrze oferuje szeroki zakres i jednocześnie

Bardziej szczegółowo

Załącznik do wzoru umowy. Wykonawca/Producent... Nazwa-model/typ... Numer katalogowy... Kraj pochodzenia... Rok produkcji: 2016/2017

Załącznik do wzoru umowy. Wykonawca/Producent... Nazwa-model/typ... Numer katalogowy... Kraj pochodzenia... Rok produkcji: 2016/2017 Wykonawca/Producent... Nazwa-model/typ... Numer katalogowy... Kraj pochodzenia... Rok produkcji: 2016/2017 Zestawienie wymaganych parametrów techniczno-użytkowych Lp. 1. 1.1. 1.2. 1.3. 1.4. 1.5. Wymagane

Bardziej szczegółowo

Charakteryzacja właściwości elektronowych i optycznych struktur AlGaN GaN Dagmara Pundyk

Charakteryzacja właściwości elektronowych i optycznych struktur AlGaN GaN Dagmara Pundyk Charakteryzacja właściwości elektronowych i optycznych struktur AlGaN GaN Dagmara Pundyk Promotor: dr hab. inż. Bogusława Adamowicz, prof. Pol. Śl. Zadania pracy Pomiary transmisji i odbicia optycznego

Bardziej szczegółowo

APARATURA POMIAROWA DO BADANIA SZCZELNOŚCI WYROBÓW

APARATURA POMIAROWA DO BADANIA SZCZELNOŚCI WYROBÓW APARATURA POMIAROWA DO BADANIA SZCZELNOŚCI WYROBÓW BADANIE SZCZELNOŚCI WYROBÓW Dla wielu wyrobów wytwarzanych w przemyśle ważnym parametrem decydującym o ich jakości jest szczelność. Bardzo często szczelność

Bardziej szczegółowo

MG-02L SYSTEM LASEROWEGO POMIARU GRUBOŚCI POLON-IZOT

MG-02L SYSTEM LASEROWEGO POMIARU GRUBOŚCI POLON-IZOT jednoczesny pomiar grubości w trzech punktach niewrażliwość na drgania automatyczna akwizycja i wizualizacja danych pomiarowych archiwum pomiarów analizy statystyczne dla potrzeb systemu zarządzania jakością

Bardziej szczegółowo

SPECYFIKACJA PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA

SPECYFIKACJA PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Załącznik nr 1 do siwz Znak sprawy: ZP-PNU/D/2015/09/153 (nazwa wykonawcy) SPECYFIKACJA PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Część 1 w postępowaniu o udzielenie zamówienia publicznego prowadzonym w trybie przetargu nieograniczonego

Bardziej szczegółowo

Załącznik nr. 1 do Zapytania Ofertowego - Szczegółowy Opis Przedmiotu Zamówienia

Załącznik nr. 1 do Zapytania Ofertowego - Szczegółowy Opis Przedmiotu Zamówienia Załącznik nr. 1 do Zapytania Ofertowego - Szczegółowy Opis Przedmiotu Zamówienia Przedmiotem niniejszego zapytania ofertowego jest dostawa trzech stanowisk badania procesów termo-chemicznych do laboratorium

Bardziej szczegółowo

DOTYCZY: Sygn. akt SZ /12/6/6/2012

DOTYCZY: Sygn. akt SZ /12/6/6/2012 Warszawa dn. 2012-07-26 SZ-222-20/12/6/6/2012/ Szanowni Państwo, DOTYCZY: Sygn. akt SZ-222-20/12/6/6/2012 Przetargu nieograniczonego, którego przedmiotem jest " sprzedaż, szkolenie, dostawę, montaż i uruchomienie

Bardziej szczegółowo

ODPOWIEDZI NA PYTANIA z dnia 04.07.2012 r.

ODPOWIEDZI NA PYTANIA z dnia 04.07.2012 r. ZP/UR/43/2012 Rzeszów dnia 04.07.2012r. Zamawiający: Uniwersytet Rzeszowski al. Rejtana 16c 35-959 Rzeszów NIP 813-32-38-822 REGON 691560040 ODPOWIEDZI NA PYTANIA z dnia 04.07.2012 r. Do Zamawiającego

Bardziej szczegółowo

KALKULACJA CENY OFERTY Sprzęt informatyczny Część I

KALKULACJA CENY OFERTY Sprzęt informatyczny Część I Lp. Przedmiot zamówienia Szczegółowy opis KALKULACJA CENY OFERTY Sprzęt informatyczny Część I, model/typ oferowanego przez Wykonawcę sprzętu/oprogramowania * Jednostka Ilość jednostek Cena jednostkowa

Bardziej szczegółowo

INFORMACJA DLA WYKONAWCÓW NR 2

INFORMACJA DLA WYKONAWCÓW NR 2 RAP.272.87.2014 Wrocław, 13.11.2014r. INFORMACJA DLA WYKONAWCÓW NR 2 Dotyczy: postępowania o udzielenie zamówienia publicznego, prowadzonego w trybie przetargu nieograniczonego, którego przedmiotem jest

Bardziej szczegółowo

Opis przedmiotu zamówienia

Opis przedmiotu zamówienia Opis przedmiotu zamówienia Oznaczenie postępowania: WIChiP/390-6/16 Przedmiotem zamówienia jest: dostawa bioreaktorowego układu zapewniającego mieszanie typu wave do hodowli wgłębnej izolowanych komórek

Bardziej szczegółowo

DTR.P-PC..01. Pirometr PyroCouple. Wydanie LS 14/01

DTR.P-PC..01. Pirometr PyroCouple. Wydanie LS 14/01 Pirometr PyroCouple Wydanie LS 14/01 SPIS TREŚCI 1. OPIS...3 1.1. Specyfikacja...3 2. AKCESORIA...5 3. OPCJE...5 4. INSTALACJA...5 5. PRZYGOTOWANIE...6 5.1. Temperatura otoczenia...6 5.2. Jakość (czystość)

Bardziej szczegółowo

Szczegółowy opis przedmiotu zamówienia / Dane techniczne oferowanego sprzętu (sprawa DBA-2/240-43/2015)

Szczegółowy opis przedmiotu zamówienia / Dane techniczne oferowanego sprzętu (sprawa DBA-2/240-43/2015) Załącznik Nr 1 do SIWZ Szczegółowy opis przedmiotu zamówienia / (sprawa DBA-2/240-43/2015) Niniejszy załącznik stanowi jednocześnie szczegółowy opis przedmiotu zamówienia poszczególnych części zamówienia.

Bardziej szczegółowo

FORMULARZ WYMAGANYCH WARUNKÓW TECHNICZNYCH

FORMULARZ WYMAGANYCH WARUNKÓW TECHNICZNYCH Załącznik Nr 2 WYMAGANIA BEZWZGLĘDNE: FORMULARZ WYMAGANYCH WARUNKÓW TECHNICZNYCH Przedmiotem zamówienia jest dostawa i instalacja fabrycznie nowego skaningowego mikroskopu elektronowego (SEM) ze zintegrowanym

Bardziej szczegółowo

FRIDURIT Neutralizatory powietrza

FRIDURIT Neutralizatory powietrza FRIDURIT Neutralizatory powietrza 1 FRIDURIT Neutralizatory powietrza są w pełni zautomatyzowanymi urządzeniami, skonstruowanymi specjalnie do zastosowania bezpośrednio nad dygestorium lub jako rozwiązanie

Bardziej szczegółowo

Instytut Rozrodu Zwierząt i Badań Żywności Polskiej Akademii Nauk w Olsztynie ul. Tuwima 10; 10-747 Olsztyn tel. (089) 539-31-47, fax (089) 539-31-47

Instytut Rozrodu Zwierząt i Badań Żywności Polskiej Akademii Nauk w Olsztynie ul. Tuwima 10; 10-747 Olsztyn tel. (089) 539-31-47, fax (089) 539-31-47 Instytut Rozrodu Zwierząt i Badań Żywności Polskiej Akademii Nauk w Olsztynie ul. Tuwima 10; 10-747 Olsztyn tel. (089) 539-31-47, fax (089) 539-31-47 http://www.pan.olsztyn.pl ZP-PNU/D/2011/WELCOME/4 SPECYFIKACJA

Bardziej szczegółowo

Seria Mini. Wózek serwisowy. Dla efektywnego postępowania z gazem SF 6 na małych komorach gazowych

Seria Mini. Wózek serwisowy. Dla efektywnego postępowania z gazem SF 6 na małych komorach gazowych Dla efektywnego postępowania z gazem SF 6 na małych komorach gazowych doskonale nadaje się do prowadzenia obsługi gazu w małych komorach gazowych i jego odzyskiwania do próżni < 5 mbar. Seria ta nawet

Bardziej szczegółowo

Miernik przepływu powietrza Model A2G-25

Miernik przepływu powietrza Model A2G-25 Elektroniczny pomiar ciśnienia Miernik przepływu powietrza Model A2G-25 Karta katalogowa WIKA SP 69.04 Zastosowanie Do pomiaru przepływu powietrza wentylatorów radialnych Do pomiaru przepływu powietrza

Bardziej szczegółowo

Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia

Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia Przedmiotem zamówienia jest dostawa i uruchomienie zestawu termowizyjnego wysokiej rozdzielczości wraz z wyposażeniem o parametrach zgodnych z określonymi

Bardziej szczegółowo

Komory do badań starzeniowych z systemem nadeszczania i lampami UV

Komory do badań starzeniowych z systemem nadeszczania i lampami UV l.dz. 91/TZ/BM/2015 Oświęcim, dnia 19.03.2015 Dotyczy: zaproszenia do złożenia oferty cenowej dla projektu: Utworzenie Centrum badawczo rozwojowego nowych technologii w Synthos S.A. nr projektu POIG.04.05.02-00-004/12-00.

Bardziej szczegółowo

załącznik nr 2 do SIWZ nr SPZOZ/PN/15/2013 - formularz cenowy przedmiotu zamówienia Zadanie 2 Zestaw do badania układu równowagi i narządu słuchu

załącznik nr 2 do SIWZ nr SPZOZ/PN/15/2013 - formularz cenowy przedmiotu zamówienia Zadanie 2 Zestaw do badania układu równowagi i narządu słuchu załącznik nr 2 do SIWZ nr SPZOZ/PN/15/2013 - formularz cenowy przedmiotu zamówienia Zadanie 2 Zestaw do badania układu równowagi i narządu słuchu Lp Nazwa jm Ilość Cena jednost netto 1 Zestaw do badania

Bardziej szczegółowo

Opis przedmiotu zamówienia

Opis przedmiotu zamówienia ZP/UR/169/2012 Zał. nr 1a do siwz Opis przedmiotu zamówienia A. Spektrometr ramanowski z mikroskopem optycznym: 1) Spektrometr ramanowski posiadający podwójny tor detekcyjny, wyposażony w chłodzony termoelektrycznie

Bardziej szczegółowo

BMsonic AUTOMATYCZNE POBIERAKI PRÓB. W pełni automatyczne pobieranie i analiza próbek cieczy STACJONARNE PRZENOŚNE

BMsonic AUTOMATYCZNE POBIERAKI PRÓB. W pełni automatyczne pobieranie i analiza próbek cieczy STACJONARNE PRZENOŚNE BMsonic W pełni automatyczne pobieranie i analiza próbek cieczy AUTOMATYCZNE POBIERAKI PRÓB STACJONARNE PRZENOŚNE AUTOMATYCZNE POBIERAKI PRÓB Zastosowanie MIEJSKIE I PRZEMYSŁOWE OCZYSZCZALNIE ŚCIEKÓW»

Bardziej szczegółowo

Informacje ujęte w niniejszej ulotce mają wyłącznie charakter informacyjny. Dokładne dane oferowanych urządzeń powinny zostać potwierdzone i ustalone

Informacje ujęte w niniejszej ulotce mają wyłącznie charakter informacyjny. Dokładne dane oferowanych urządzeń powinny zostać potwierdzone i ustalone Informacje ujęte w niniejszej ulotce mają wyłącznie charakter informacyjny. Dokładne dane oferowanych urządzeń powinny zostać potwierdzone i ustalone z odpowiednimi osobami SECO/WARWICK EUROPE S.A. Niektóre

Bardziej szczegółowo

Diody elektroluminescencyjne na bazie GaN z powierzchniowymi kryształami fotonicznymi

Diody elektroluminescencyjne na bazie GaN z powierzchniowymi kryształami fotonicznymi Diody elektroluminescencyjne na bazie z powierzchniowymi kryształami fotonicznymi Krystyna Gołaszewska Renata Kruszka Marcin Myśliwiec Marek Ekielski Wojciech Jung Tadeusz Piotrowski Marcin Juchniewicz

Bardziej szczegółowo

Masowe przepływomierze termiczne do pomiaru przepływu sprężonego powietrza i innych gazów, przyłącza gwintowane

Masowe przepływomierze termiczne do pomiaru przepływu sprężonego powietrza i innych gazów, przyłącza gwintowane VA420 Masowe przepływomierze termiczne do pomiaru przepływu sprężonego powietrza i innych gazów, przyłącza gwintowane Opcjonalny, wyświetlacz rozdzielny dla przepływomierzy serii VA... Opcja, rejestrator

Bardziej szczegółowo

Przetworniki ciśnienia typu MBS - informacje ogólne

Przetworniki ciśnienia typu MBS - informacje ogólne rzetworniki ciśnienia typu MBS - informacje ogólne rzetworniki ciśnienia - zasada działania Zadaniem przetworników ciśnienia jest przekształcanie wielkości mechanicznej jaką jest ciśnienie w sygnał elektryczny.

Bardziej szczegółowo

URZĄDZENIA KONTROLNO POMIAROWE

URZĄDZENIA KONTROLNO POMIAROWE STACJE KONTROLNO-POMIAROWE PUBLICZNE ANALYT 2, 3 Z możliwością sterowania przez PC. Stacja kontrolno-pomiarowa do ciągłego pomiaru i regulacji ph i wolnego Cl (amperometrycznie) oraz pomiaru temperatury

Bardziej szczegółowo

Zastosowanie generatorów dwutlenku chloru i elektrolizerów w dezynfekcji wody pitnej

Zastosowanie generatorów dwutlenku chloru i elektrolizerów w dezynfekcji wody pitnej Zastosowanie generatorów dwutlenku chloru i elektrolizerów w dezynfekcji wody pitnej Jarosław Witkowski Dozowanie i Dezynfekcja Dezynfekcja dwutlenkiem chloru Właściwości dwutlenku chloru Bardzo wysoka

Bardziej szczegółowo

POMPY. Seria STU4. CP wersja ze stałym ciśnieniem. Zakres mocy do ok. 8 m³/h i wysokość pompowania 140 m

POMPY. Seria STU4. CP wersja ze stałym ciśnieniem. Zakres mocy do ok. 8 m³/h i wysokość pompowania 140 m Pompa głębinowa ze stali szlachetnej 4 Seria STU4. CP wersja ze stałym ciśnieniem Zakres mocy do ok. 8 m³/h i wysokość pompowania 140 m Pompy głębinowe STÜWA 4 zaprojektowano w sprawdzonej konstrukcji

Bardziej szczegółowo

PYTANIA I ODPOWIEDZI

PYTANIA I ODPOWIEDZI RZP-2003-36 /15 Poznań, dnia..05.2015r. PYTANIA I ODPOWIEDZI Akademia Wychowania Fizycznego w Poznaniu, na podstawie art. 38 ust. 2 ustawy Prawo zamówień publicznych (tekst jednolity Dz. U. z 2013 r. poz.

Bardziej szczegółowo

... /pieczątka nagłówkowa/

... /pieczątka nagłówkowa/ Załącznik nr 4 OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA PN/SM/R/05/07 Zamawiający: Samodzielny Publiczny Zakład Opieki Zdrowotnej Szpital im. dr J. Dietla w Krynicy-Zdroju. Przedmiot zamówienia: Sprzedaż i dostawa specjalistycznego

Bardziej szczegółowo

Wymagane parametry dla platformy do mikroskopii korelacyjnej

Wymagane parametry dla platformy do mikroskopii korelacyjnej Strona1 ROZDZIAŁ IV OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Wymagane parametry dla platformy do mikroskopii korelacyjnej Mikroskopia korelacyjna łączy dane z mikroskopii świetlnej i elektronowej w celu określenia powiązań

Bardziej szczegółowo

INSTYTUT MASZYN PRZEPŁYWOWYCH im. Roberta Szewalskiego POLSKIEJ AKADEMII NAUK 80-231 Gdańsk ul. J. Fiszera 14

INSTYTUT MASZYN PRZEPŁYWOWYCH im. Roberta Szewalskiego POLSKIEJ AKADEMII NAUK 80-231 Gdańsk ul. J. Fiszera 14 Gdańsk, 13.08.2015r. Dotyczy: Przetarg nieograniczony na Zakup trzech systemów sterowania do urządzeń laboratoryjnych wchodzących w skład jednego z laboratorium nowo powstałego Centrum Badawczego PAN w

Bardziej szczegółowo

P.P.U.H. BRYK Witold Bryk Kraczkowa 1663a NIP: załącznik nr 1 do zapytania ofertowego. (wzór formularza)

P.P.U.H. BRYK Witold Bryk Kraczkowa 1663a NIP: załącznik nr 1 do zapytania ofertowego. (wzór formularza) P.P.U.H. BRYK Witold Bryk 37-124 Kraczkowa 1663a NIP: 921-162-09-45 załącznik nr 1 do zapytania ofertowego (wzór formularza) Dane Oferenta: Nazwa: Adres: Osoba do kontaktu: Odpowiadając na zapytanie ofertowe

Bardziej szczegółowo

Załącznik nr 2a do SIWZ postęp. A120-211-169/15/SS szczegółowy opis przedmiotu zamówienia

Załącznik nr 2a do SIWZ postęp. A120-211-169/15/SS szczegółowy opis przedmiotu zamówienia Załącznik nr 2a do SIWZ postęp. A120-211-169/15/SS szczegółowy opis przedmiotu zamówienia Dostawa wraz z instalacją systemu do ultra wysokosprawnej chromatografii cieczowej UHPLC oraz preparatywnego systemu

Bardziej szczegółowo

20140428-1610. Oferta Firmy 2014. www.apautomatyka.pl

20140428-1610. Oferta Firmy 2014. www.apautomatyka.pl 20140428-1610 Oferta Firmy 2014 www.apautomatyka.pl Oferta firmy AP Automatyka urządzenia do pomiaru wilgotności i temperatury Rotronic urządzenia do pomiaru stężenia CO2 Rotronic urządzenia do kontroli

Bardziej szczegółowo

Instrukcja obsługi SPEED CONTROL. Electro-pneumatic Speed control system Elektropneumatyczny Regulator Wydajności Pompy

Instrukcja obsługi SPEED CONTROL. Electro-pneumatic Speed control system Elektropneumatyczny Regulator Wydajności Pompy SPEED CONTROL Electro-pneumatic Speed control system Elektropneumatyczny Regulator Wydajności Pompy Informacje ogólne Sterownik Warren Rupp SPEED CONTROL może być stosowany do sterowania wydajnością pomp

Bardziej szczegółowo

TAK innych szpitalnych naczyń sanitarnych, ładowana od frontu. TAK kaŝdego cyklu pracy

TAK innych szpitalnych naczyń sanitarnych, ładowana od frontu. TAK kaŝdego cyklu pracy ZAŁĄCZNIK NR 2 DO SIWZ SZCZEGÓŁOWY OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA ZADANIE NR 2 MYJNIA-DEZYNFEKTOR, ZESTAW MEBLOWY Z MYJNIĄ-DEZYNFEKTOREM Nazwa i typ oferowanego urządzenia: Producent/kraj pochodzenia: Rok

Bardziej szczegółowo

NEUTRALIZATOR ŚCIEKÓW FRIDURIT C100

NEUTRALIZATOR ŚCIEKÓW FRIDURIT C100 NEUTRALIZATOR ŚCIEKÓW FRIDURIT C100 System rozwiązań technologicznych dla neutralizacji kwaśnych i alkalicznych ścieków. Neutralizacja oparów i ścieków wytwarzanych w procesach badawczych w laboratoriach

Bardziej szczegółowo

Komputer będzie wykorzystywany na potrzeby aplikacji: biurowych, obliczeniowych, multimedialnych.

Komputer będzie wykorzystywany na potrzeby aplikacji: biurowych, obliczeniowych, multimedialnych. 1. Komputer stacjonarny: a) typ 1 (36szt.) Typ Zastosowanie Stacjonarny. Komputer będzie wykorzystywany na potrzeby aplikacji: biurowych, obliczeniowych, multimedialnych. Wydajność Komputer powinien osiągać

Bardziej szczegółowo

Przegląd urządzeń pomiarowych do lamp UV

Przegląd urządzeń pomiarowych do lamp UV Przegląd urządzeń pomiarowych do lamp 1. Integratory Dysk A002400 A003371 () A004346 () A003909 () A002915 (-Vis) A004192 (-LED) pełny zakres pomiar dawki y pomiarowe: Dysk Pełny zakres : 250 410 nm (standardowo)

Bardziej szczegółowo

Karta katalogowa Przetworniki ciśnienia z funkcją pomiaru temperatury typu MBS 1300 i MBS 1350

Karta katalogowa Przetworniki ciśnienia z funkcją pomiaru temperatury typu MBS 1300 i MBS 1350 MAKING MODERN LIVING POSSIBLE Karta katalogowa Przetworniki ciśnienia z funkcją pomiaru temperatury typu MBS 1300 i MBS 1350 Przetworniki typu MBS 1300 oferują pomiar ciśnienia przy jednoczesnym pomiarze

Bardziej szczegółowo

l.dz. 238/TZ/DW/2015 Oświęcim, dnia r. Dotyczy: zaproszenie do złożenia oferty cenowej na dostawę urządzeń laboratoryjnych dla

l.dz. 238/TZ/DW/2015 Oświęcim, dnia r. Dotyczy: zaproszenie do złożenia oferty cenowej na dostawę urządzeń laboratoryjnych dla l.dz. 238/TZ/DW/2015 Oświęcim, dnia 13.07.2015 r. Dotyczy: zaproszenie do złożenia oferty cenowej na dostawę urządzeń laboratoryjnych dla Wyposażenia Laboratorium badawczo-rozwojowego środków ochrony roślin

Bardziej szczegółowo