DZPIE/003/NZU/672/2015 Warszawa, 2 kwietnia 2015 r.

Wielkość: px
Rozpocząć pokaz od strony:

Download "DZPIE/003/NZU/672/2015 Warszawa, 2 kwietnia 2015 r."

Transkrypt

1 DZPIE/003/NZU/672/2015 Warszawa, 2 kwietnia 2015 r. Dotyczy udzielenia zamówienia publicznego w trybie "przetargu nieograniczonego" na Uniwersalna linia technologiczna do badań procesów wytwarzania nanostruktur i prototypów przyrządów półprzewodnikowych, nadprzewodnikowych i metalicznych. Instytut Fizyki PAN w trybie art. 38 ust. 4 Ustawy PZP, dokonuje niniejszym zmiany treści SIWZ w zakresie wymagań stawianym urządzeniu w pkt. 7, 11, 16, 17, i 19 dla ICP-RIE oraz 5, 8, 10, 12, 13, 16 i 18 dla ICP-PECVD : Przed zmianami: Lp Wymagania (wymagane parametry minimalne) Stanowisko do trawienia związkami chloru ICP RIE (Inductively-Coupled Plasma for Reactive Ion Etching) System wytwarzania próżni w komorze reaktora: - system próżni suchej składający się z układu pompy próżni wstępnej i właściwej, - do wytworzenia próżni wstępnej musi być wykorzystana pompa bezolejowa o wydajności min. 32m3/h, - do wytworzenia próżni właściwej musi być wykorzystana pompa turbomolekularna z łożyskami magnetycznymi, o wydajności min. 500l/s, - pompa próżni wstępnej zainstalowana w pomieszczeniu technicznym, - układ próżniowy odporny na gazy korozyjne, - układ zapewniający próżnię 5x10-6mbar lub lepszą, - automatyczna kontrola próżni wstępnej oraz próżni podczas procesów trawienia. Sterowanie Urządzenia: - sterowanie komputerowe z dedykowanym oprogramowaniem, - sterowanie musi odbywać się za pomocą szybkiego sterownika PLC (Programmable Logic Controller) z analogowym i cyfrowym I/O, - oprogramowanie musi pozwalać na: logowanie danych procesowych dla każdego procesu oddzielnie (możliwość wyboru parametrów cyfrowych i analogowych, które mają podlegać logowaniu), pokazywanie w czasie rzeczywistym zadanych i aktualnych parametrów procesów, sterowanie ręczne, jak również za pomocą wcześniej tworzonych przez użytkowników receptur procesów technologicznych o długości min. 25ms, Kolumna do wypełnienia przez oferenta Należy potwierdzić lub opisać *

2 automatyczną kontrolę nieszczelności oraz kalibracji kontrolerów MFC, a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników, także dla wybranych procesów, - komputer sterujący (z systemem operacyjnym Windows 7) wraz z monitorem minimum 19 LCD (zestaw komputerowy kompletny) zapewniający ergonomiczną, płynną i bezproblemową pracę Urządzenia przy korzystaniu z dedykowanego oprogramowania. - Oprogramowanie musi pracować pod systemem operacyjnym Windows 7. - Oprogramowanie musi mieć funkcje wstrzymania hold (plazma ON w momencie przechodzenia do kolejnego etapu procesu, plasma on when switching to a new process step) i przycisk skoku jump ( dla ręcznego przełączenia). W ramach testu akceptacyjnego zostanie przeprowadzone sprawdzenie poprawności działania wszystkich układów i elementów Urządzenia poprzez przeprowadzenie testów sprawdzających według norm producenta oraz następujące testy, obejmujące wykonanie minimum 2 procesów technologicznych charakteryzujących się następującymi parametrami (Procesy zostaną wybrane przez Zamawiającego): Trawienie GaN - Szybkość trawienia: ~75nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 0,8:1 2.Trawienie GaN - Szybkość trawienia: ~250nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 10:1 3.Trawienie Polikrzemu - Szybkość trawienia: ~50nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 2:1 -Jednorodność procesu: ±5% -Nachylenie ścian trawionych okien: >88 4. Trawienie Dwutlenku hafnu (HfO2) - Szybkość trawienia: większa niż 1nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 3:1 - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 4:1 5. Trawienie Trójtlenku aluminium (Al2O3) - Szybkość trawienia: ~5nm/min ±5% - Selektywność do niklu Ni: co najmniej 7:1 6. Trawienie ZnO - Szybkość trawienia: ~50nm/min ±5% - Selektywność do niklu Ni: co najmniej 7:1

3 , 7. Trawienie GaAs/AlGaAs - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 4:1 - Selektywność do GaAs:AlGaAs: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >88 8. Trawienie CdTe - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% 9. Trawienie ZnSe - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% Lp. 5. Testy te muszą zostać przeprowadzone na podłożach dostarczonych przez Zmawiającego. Do pomiarów spełnienia przez Urządzenie testów akceptacyjnych mogą zostać wykorzystane urządzenia pomiarowo - diagnostyczne znajdujące się w laboratoriach Instytutu Fizyki PAN. Do testów anizotropii trawionych profili wykorzystany zostanie posiadany przez Zamawiającego skaningowy mikroskop elektronowy. Gazy robocze: - urządzanie musi być podłączone do posiadanej instalacji czystych gazów, - linie gazowe doprowadzające gazy reakcyjne muszą być wykonane ze stali nierdzewnej elektropolerowanej, - spawania tylko orbitalne, system odprowadzania gazów poreakcyjnych z pomp oraz z dozownika gazów powinien być wyposażony w niezbędne (wynikające z wykorzystywanych gazów i odpowiednich przepisów) urządzenia utylizacji gazów poreakcyjnych (scrubber), które pozwalają podłączyć ich wylot bezpośrednio do instalacji wyciągowej. Scrubber/y muszą być wyposażone w wskaźnik zanieczyszczenia. Neutralizator lub neutralizatory muszą być właściwe dla gazów wymienionych. Wymaga się wykonanie bezpłatnych przeglądów technicznych po dwóch latach w okresie gwarancji, obejmujących również serwisowanie, wymianę materiałów ulegających zużyciu lub wymagających wymiany. Koszty transportu, przeglądu, koszty materiałów wymienianych oraz koszty wymiany tych materiałów ponosi Wykonawca Wymagania (wymagane parametry minimalne) Stanowisko do trawienia związkami fluoru z funkcjonalnością osadzania związków krzemu ICP-PECVD (Inductively -Coupled Plasma Plasma - Enhanced Chemical Vapour Deposition) Elektroda górna: - aluminiowa elektroda zintegrowana z wlotem gazów roboczych do komory reaktora, - budowa odpowiednia do jednorodnego rozprowadzania gazów roboczych, Kolumna do wypełnienia przez oferenta Należy potwierdzić lub opisać *

4 zasilana ze źródła RF (13,56 MHz) oraz chłodzona wodą, - ruchoma pneumatycznie/mechanicznie (w kierunku góra/dół/bok) w celu łatwego dostępu do podłoży. System wytwarzania próżni w komorze procesowej: - układ dwóch pomp próżni wstępnej i właściwej, - do wytworzenia próżni wstępnej musi być wykorzystana pompa bezolejowa, - układ zapewniający próżnię 4x10-6 mbar, - czas uzyskania próżni w komorze procesowej od ciśnienia atmosferycznego do ciśnienia 4x10-6 mbar wynosi t 12 godzin, - układ próżniowy odporny na gazy korozyjne, - układ zawierający pompę obrotową i turbomolekularną z magnetycznymi łożyskami o wydajności minimum 500 l/s, - automatyczna kontrola próżni wstępnej oraz próżni podczas procesów osadzania i trawienia. System musi mieć możliwość podłączenia w przyszłości komory załadowczej/śluzy (vacuum loadlock) która umożliwi transfer próbek o różnych kształtach i wymiarach od 5 mm x 5 mm do minimum 2 cali do komory reakcyjnej. Producent musi zagwarantować możliwość podłączenia śluzy w laboratorium Zamawiającego. Gazy robocze: - urządzanie musi być podłączone do posiadanej instalacji czystych gazów, - system odprowadzania gazów poreakcyjnych z pomp oraz z dozownika gazów powinien być wyposażony w niezbędne (wynikające z wykorzystywanych gazów i odpowiednich przepisów) urządzenia utylizacji gazów poreakcyjnych (scrubber), które pozwalają podłączyć ich wylot bezpośrednio do instalacji wyciągowej. Scrubber/y muszą być wyposażone w wskaźnik zanieczyszczenia. Neutralizator lub neutralizatory muszą być właściwe dla gazów wymienionych. Sterowanie Urządzenia: - sterowanie komputerowe z dedykowanym oprogramowaniem, - sterowanie musi odbywać się za pomocą szybkiego sterownika PLC (Programmable Logic Controller) z analogowym i cyfrowym I/O, - oprogramowanie musi pozwalać na: logowanie danych procesowych dla każdego procesu oddzielnie (możliwość wyboru parametrów cyfrowych i analogowych), pokazywanie w czasie rzeczywistym zadanych i aktualnych parametrów procesów, sterowanie ręczne, jak również za pomocą wcześniej tworzonych przez użytkowników receptur procesów technologicznych o długości min. 25ms, automatyczną kontrolę nieszczelności oraz kalibracji kontrolerów MFC, a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników, także dla wybranych procesów, - komputer sterujący (z systemem operacyjnym Windows 7) wraz z monitorem minimum 19 LCD (zestaw komputerowy kompletny) zapewniający ergonomiczną, płynną i bezproblemową pracę Urządzenia przy korzystaniu z dedykowanego oprogramowania. - Oprogramowanie musi pracować pod systemem operacyjnym Windows 7.

5 16. - Oprogramowanie musi mieć funkcje wstrzymania hold (plazma ON w momencie przechodzenia do kolejnego etapu procesu, plasma on when switching to a new process step) i przycisk skoku jump (dla ręcznego przełączenia). W ramach testu akceptacyjnego zostanie przeprowadzone sprawdzenie poprawności działania wszystkich układów i elementów Urządzenia poprzez przeprowadzenie testów sprawdzających według norm producenta oraz następujące testy, obejmujące wykonanie minimum 3 procesów technologicznych charakteryzujących się następującymi parametrami (Procesy zostaną wybrane przez Zamawiającego): 1. Trawienie SiO2: - Szybkość trawienia: 50nm/min ±5% - Selektywność do aluminium: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >87 - głębokość trawienia w zakresie od 10 nm do min. 3 μm 2. Trawienie poliamidu: - Szybkość trawienia: ~500nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 20:1 3. Trawienie emulsji fotolitograficznych z powierzchni półprzewodników i dielektryków: - Szybkość trawienia: >100nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >70 4. Trawienie Si: - Szybkość trawienia: ~2000nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >88 5. Trawienie SixNy: - Szybkość trawienia: ~150nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 1.5:1 6. Osadzanie SiO2: - Szybkość osadzania: co najwyżej 30nm/min - Jednorodność procesu: ±3% - Natężenie pola elektrycznego przebicia warstwy: co najmniej 5 MV/cm (dla warstwy o grubości 200nm) - Współczynnik załamania światła dla 630nm ~ Osadzanie azotek krzemu (SixNy): - Szybkość osadzania: co najwyżej 10nm/min - Jednorodność procesu: ±3% - Współczynnik załamania światła (dla ~630nm): 1,9 2,1 - Jednorodność grubości warstwy: ±2% (na podłożu 50mm), - Natężenie pola elektrycznego przebicia warstwy: co najmniej 5 MV/cm (dla warstwy o grubości 200nm), 7. Osadzanie tlenko-azotku krzemu (SiOxNy): - Szybkość osadzania: co najwyżej 15nm/min, - Jednorodność procesu: ±3%, - Współczynnik załamania światła (dla ~630nm): 1,5 1,8 - Jednorodność grubości warstwy: ±2% (na podłożu 50mm),

6 - Natężenie pola elektrycznego przebicia warstwy: co najmniej 5 MV/cm (dla warstwy o grubości 200nm), 8. Osadzanie krzemu amorficznego (a-si): - Szybkość osadzania: co najwyżej 15nm/min, - Jednorodność procesu: ±3%, - Współczynnik załamania światła (dla ~630nm): 1,5 1,8, - Jednorodność grubości warstwy: ±3% (na podłożu 50mm). 9. Sprawdzenie selektywności procesu trawienia warstw dielektrycznych (SiO2, Si3N4) względem różnych emulsji fotolitograficznych oraz sprawdzenie powtarzalności procesu trawienia. 18. Testy te muszą zostać przeprowadzone na podłożach dostarczonych przez Zmawiającego. Do pomiarów spełnienia przez Urządzenie testów akceptacyjnych mogą zostać wykorzystane urządzenia pomiarowodiagnostyczne znajdujące się w laboratoriach Instytutu Fizyki PAN. Do testów anizotropii trawionych profili wykorzystany zostanie posiadany przez Zamawiającego skaningowy mikroskop elektronowy. Wymaga się wykonanie bezpłatnych przeglądów technicznych po dwóch latach w okresie gwarancji, obejmujących również serwisowanie, wymianę materiałów ulegających zużyciu lub wymagających wymiany. Koszty transportu, przeglądu, koszty materiałów wymienianych oraz koszty wymiany tych materiałów ponosi Wykonawca. Po zmianach: Lp Wymagania (wymagane parametry minimalne) Stanowisko do trawienia związkami chloru ICP RIE (Inductively-Coupled Plasma for Reactive Ion Etching) System wytwarzania próżni w komorze reaktora: - system próżni suchej składający się z układu pompy próżni wstępnej i właściwej, - do wytworzenia próżni wstępnej musi być wykorzystana pompa bezolejowa o wydajności min. 90m3/h, - do wytworzenia próżni właściwej musi być wykorzystana pompa turbomolekularna z łożyskami magnetycznymi, o wydajności min. 500l/s, - pompa próżni wstępnej zainstalowana w pomieszczeniu technicznym, - układ próżniowy odporny na gazy korozyjne, - układ zapewniający próżnię 5x10-6mbar lub lepszą, - automatyczna kontrola próżni wstępnej oraz próżni podczas procesów trawienia. Sterowanie Urządzenia: - sterowanie komputerowe z dedykowanym oprogramowaniem, - sterowanie musi odbywać się za pomocą szybkiego sterownika PLC (Programmable Logic Controller) z analogowym i cyfrowym I/O, - oprogramowanie musi pozwalać na: logowanie danych procesowych dla każdego procesu oddzielnie (możliwość wyboru parametrów cyfrowych i analogowych, które mają Kolumna do wypełnienia przez oferenta Należy potwierdzić lub opisać *

7 podlegać logowaniu), pokazywanie w czasie rzeczywistym zadanych i aktualnych parametrów procesów, sterowanie ręczne, jak również za pomocą wcześniej tworzonych przez użytkowników receptur procesów technologicznych o długości min. 25ms PLC, automatyczną kontrolę nieszczelności oraz kalibracji kontrolerów MFC, a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników, także dla wybranych procesów, - komputer sterujący (z systemem operacyjnym Windows 7) wraz z monitorem minimum 19 LCD (zestaw komputerowy kompletny) zapewniający ergonomiczną, płynną i bezproblemową pracę Urządzenia przy korzystaniu z dedykowanego oprogramowania. - Oprogramowanie musi pracować pod systemem operacyjnym Windows 7. - Oprogramowanie musi mieć funkcje wstrzymania hold (plazma ON w momencie przechodzenia do kolejnego etapu procesu, plasma on when switching to a new process step) i przycisk skoku jump ( dla ręcznego przełączenia). W ramach testu akceptacyjnego zostanie przeprowadzone sprawdzenie poprawności działania wszystkich układów i elementów Urządzenia poprzez przeprowadzenie testów sprawdzających według norm producenta oraz następujące testy, obejmujące wykonanie minimum 2 procesów technologicznych charakteryzujących się następującymi parametrami (Procesy zostaną wybrane przez Zamawiającego): 1. Trawienie GaN - Szybkość trawienia: ~75nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 0,8: Trawienie GaN - Szybkość trawienia: ~250nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 10:1 3.Trawienie Polikrzemu - Szybkość trawienia: ~50nm/min ±5% - Selektywność do SiO2: co najmniej 2:1 -Jednorodność procesu: ±5% -Nachylenie ścian trawionych okien: >85 4. Trawienie Dwutlenku hafnu (HfO2) - Szybkość trawienia: większa niż 1nm/min ±5% 5. Trawienie Trójtlenku aluminium (Al2O3) - Szybkość trawienia: ~5nm/min ±5%

8 - Selektywność do niklu Ni: co najmniej 7:1 6. Trawienie ZnO - Szybkość trawienia: ~50nm/min ±5% - Selektywność do niklu Ni: co najmniej 7:1, 7. Trawienie GaAs/AlGaAs - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 4:1 - Selektywność do GaAs:AlGaAs: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >88 8. Trawienie CdTe - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% 9. Trawienie ZnSe - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% Testy te muszą zostać przeprowadzone na podłożach dostarczonych przez Zmawiającego. Do pomiarów spełnienia przez Urządzenie testów akceptacyjnych mogą zostać wykorzystane urządzenia pomiarowo - diagnostyczne znajdujące się w laboratoriach Instytutu Fizyki PAN. Do testów anizotropii trawionych profili wykorzystany zostanie posiadany przez Zamawiającego skaningowy mikroskop elektronowy. Gazy robocze: - urządzanie musi być podłączone do posiadanej instalacji czystych gazów, - linie gazowe doprowadzające gazy reakcyjne muszą być wykonane ze stali nierdzewnej elektropolerowanej, - spawania tylko orbitalne, system odprowadzania gazów poreakcyjnych z pomp oraz z dozownika gazów powinien być wyposażony w niezbędne (wynikające z wykorzystywanych gazów i odpowiednich przepisów) urządzenia utylizacji gazów poreakcyjnych (scrubber), które pozwalają podłączyć ich wylot bezpośrednio do instalacji wyciągowej. Scrubber/y muszą mieć możliwość pomiaru przez użytkownika wartości ph. Neutralizator absorber musi być właściwy dla gazów wymienionych. Wymaga się wykonanie bezpłatnego przeglądu technicznych po pod koniec okresu gwarancji, obejmujących również serwisowanie, wymianę materiałów ulegających zużyciu lub wymagających wymiany. Koszty transportu, przeglądu, koszty materiałów wymienianych oraz koszty wymiany tych materiałów ponosi Wykonawca.

9 Wymagania (wymagane parametry minimalne) Stanowisko do trawienia związkami fluoru z Lp. funkcjonalnością osadzania związków krzemu ICP-PECVD (Inductively -Coupled Plasma Plasma - Enhanced Chemical Vapour Deposition) 5. Skasowano ten podpunkt. System wytwarzania próżni w komorze procesowej: - układ dwóch pomp próżni wstępnej i właściwej, - do wytworzenia próżni wstępnej musi być wykorzystana pompa bezolejowa, - układ zapewniający próżnię 4x10-6 mbar, - czas uzyskania próżni w komorze procesowej od ciśnienia atmosferycznego do ciśnienia 4x10-6 mbar 8. wynosi t 12 godzin, - układ próżniowy odporny na gazy korozyjne, - układ zawierający pompę obrotową i turbomolekularną z magnetycznymi łożyskami o wydajności minimum 500 l/s oraz pompy wstępnej bezolejowej o wydajności minimum 90m3/godzinę, - automatyczna kontrola próżni wstępnej oraz próżni podczas procesów osadzania i trawienia. System musi mieć możliwość podłączenia w przyszłości komory załadowczej/śluzy (vacuum loadlock) czy komory załadowczej w postaci klastera (loadlock for clustering) która umożliwi transfer próbek o różnych kształtach i 10. wymiarach od 5 mm x 5 mm do minimum 2 cali do komory reakcyjnej. Producent musi zagwarantować możliwość podłączenia śluzy w laboratorium Zamawiającego. Gazy robocze: - urządzanie musi być podłączone do posiadanej instalacji czystych gazów, - system odprowadzania gazów poreakcyjnych z pomp oraz z dozownika gazów powinien być wyposażony w niezbędne (wynikające z wykorzystywanych gazów i 12. odpowiednich przepisów) urządzenia utylizacji gazów poreakcyjnych (scrubber), które pozwalają podłączyć ich wylot bezpośrednio do instalacji wyciągowej. Scrubber/y muszą mieć możliwość pomiaru przez użytkownika wartości ph. Neutralizator absorber musi być właściwy dla gazów wymienionych. Sterowanie Urządzenia: - sterowanie komputerowe z dedykowanym oprogramowaniem, - sterowanie musi odbywać się za pomocą szybkiego sterownika PLC (Programmable Logic Controller) z analogowym i cyfrowym I/O, - oprogramowanie musi pozwalać na: logowanie danych procesowych dla każdego procesu oddzielnie (możliwość wyboru parametrów cyfrowych i analogowych), 13. pokazywanie w czasie rzeczywistym zadanych i aktualnych parametrów procesów, sterowanie ręczne, jak również za pomocą wcześniej tworzonych przez użytkowników receptur procesów technologicznych o długości min. 25ms PLC, automatyczną kontrolę nieszczelności oraz kalibracji kontrolerów MFC, a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników, także dla wybranych procesów, Kolumna do wypełnienia przez oferenta Należy potwierdzić lub opisać *

10 16. - komputer sterujący (z systemem operacyjnym Windows 7) wraz z monitorem minimum 19 LCD (zestaw komputerowy kompletny) zapewniający ergonomiczną, płynną i bezproblemową pracę Urządzenia przy korzystaniu z dedykowanego oprogramowania. - Oprogramowanie musi pracować pod systemem operacyjnym Windows 7. - Oprogramowanie musi mieć funkcje wstrzymania hold (plazma ON w momencie przechodzenia do kolejnego etapu procesu, plasma on when switching to a new process step) i przycisk skoku jump (dla ręcznego przełączenia). W ramach testu akceptacyjnego zostanie przeprowadzone sprawdzenie poprawności działania wszystkich układów i elementów Urządzenia poprzez przeprowadzenie testów sprawdzających według norm producenta oraz następujące testy, obejmujące wykonanie minimum 3 procesów technologicznych charakteryzujących się następującymi parametrami (Procesy zostaną wybrane przez Zamawiającego): 1. Trawienie SiO2: - Szybkość trawienia: 30nm/min ±5% - Selektywność do aluminium: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >87 - głębokość trawienia w zakresie od 10 nm do min. 3 μm 2. Trawienie poliamidu: - Szybkość trawienia: ~500nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 20:1 3. Trawienie emulsji fotolitograficznych z powierzchni półprzewodników i dielektryków: - Szybkość trawienia: >100nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >70 4. Trawienie Si: - Szybkość trawienia: ~2000nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >88 5. Trawienie SixNy: - Szybkość trawienia: ~150nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 1.5:1 6. Osadzanie SiO2: - Szybkość osadzania: co najwyżej 8nm/min - Jednorodność procesu: ±3% - Natężenie pola elektrycznego przebicia warstwy: co najmniej 5 MV/cm (dla warstwy o grubości 200nm) - Współczynnik załamania światła dla 630nm ~ Osadzanie azotek krzemu (SixNy): - Szybkość osadzania: co najwyżej 8nm/min - Jednorodność procesu: ±3% - Współczynnik załamania światła (dla ~630nm): 1,9 2,1 - Jednorodność grubości warstwy: ±2% (na podłożu 50mm), na podłożach większych niż 2 cale ±5%, - Natężenie pola elektrycznego przebicia warstwy: co

11 najmniej 5 MV/cm (dla warstwy o grubości 200nm), 8. Osadzanie tlenko-azotku krzemu (SiOxNy): - Szybkość osadzania: co najwyżej 8nm/min, - Jednorodność procesu: ±3%, - Współczynnik załamania światła (dla ~630nm): 1,5 1,8 - Jednorodność grubości warstwy: ±2% (na podłożu 50mm), na podłożach większych niż 2 cale ±5%, - Natężenie pola elektrycznego przebicia warstwy: co najmniej 5 MV/cm (dla warstwy o grubości 200nm), 9. Osadzanie krzemu amorficznego (a-si): - Szybkość osadzania: co najwyżej 7nm/min, - Jednorodność procesu: ±3%, - Współczynnik załamania światła (dla ~630nm): 1,5 1,8, - Jednorodność grubości warstwy: ±2% (na podłożu 50mm), na podłożach większych niż 2 cale ±5%, 10. Sprawdzenie selektywności procesu trawienia warstw dielektrycznych (SiO2, Si3N4) względem różnych emulsji fotolitograficznych oraz sprawdzenie powtarzalności procesu trawienia. 18. Testy te muszą zostać przeprowadzone na podłożach dostarczonych przez Zmawiającego. Do pomiarów spełnienia przez Urządzenie testów akceptacyjnych mogą zostać wykorzystane urządzenia pomiarowodiagnostyczne znajdujące się w laboratoriach Instytutu Fizyki PAN. Do testów anizotropii trawionych profili wykorzystany zostanie posiadany przez Zamawiającego skaningowy mikroskop elektronowy. Wymaga się wykonanie bezpłatnego przeglądu technicznych po pod koniec okresu gwarancji, obejmujących również serwisowanie, wymianę materiałów ulegających zużyciu lub wymagających wymiany. Koszty transportu, przeglądu, koszty materiałów wymienianych oraz koszty wymiany tych materiałów ponosi Wykonawca. Pełen opis w załączniku.

12 pieczęć adresowa Oferenta data Stanowisko do trawienia związkami chloru ICP-RIE (Inductively-Coupled Plasma for Reactive Ion Etching) i związkami fluoru z funkcjonalnością osadzania związków krzemu (ICP-PECVD Inductively-Coupled Plasma Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition) wchodzących w skład uniwersalnej linii technologicznej do badań procesów wytwarzania nanostruktur i prototypów przyrządów półprzewodnikowych, nadprzewodnikowych i metalicznych. Lp Wymagania (wymagane parametry minimalne) Stanowisko do trawienia związkami chloru ICP-RIE (Inductively-Coupled Plasma for Reactive Ion Etching) Selektywne, kontrolowane i powtarzalne trawienie metodą ICP-RIE warstw technologicznych w plazmie opartej o związki chloru. Urządzenie stanowi integralną całość, ale musi zostać zapewniona możliwość dołączenia Urządzenia do systemu urządzeń (ang. cluster tool ). Dozownik gazów roboczych (ang. gaspod/gasbox) oraz źródło zasilania nie muszą być integralnymi częściami Urządzenia. Urządzenie musi umożliwić trawienie miedzy innymi takich materiałów jak: GaAs, GaAs/AlGaAs, InP, GaN, ZnO, Al, CdTe, ZnSe, HfO 2. Komora procesowa: - wykonana w całości z jednego bloku aluminiowego (full block of Al), - z połączeniem kołnierzowym o średnicy nie mniejszej niż 150mm dla efektywnego odpompowywania, - flansza wejściowa o średnicy nie mniejszej niż 40mm z oknem obserwacyjnym, - dodatkowa flansza o średnicy nie mniejszej niż 40mm do systemu detekcji końca procesu, - wewnątrz brak połączeń skręcanych i spawanych, - wykonywanie procesów dla płytek o wielkości od 5 mm x 5 mm do 2 oraz dla płytek o nieregularnych kształtach, - grzanie komory (np. rezystancyjnie) do co najmniej 60 C. Obudowa Urządzenia: - elementy kontrolne pracy Urządzenia zintegrowane w obudowie, - obudowa zawiera w sobie pompy turbomolekularne i wszelkie zawory. Elektroda dolna: - średnica elektrody dostosowana do przeprowadzania procesów technologicznych na podłożach o wymiarach od 5mm x 5mm do podłoży o średnicy co najmniej 50mm (2 cale), - chłodzona wodą, - zasilana ze źródła RF (13,56 MHz), - aluminiowa przesłona maskująca uziemiona (osłona ciemnego regionu - ang. dark space shield), - regulacja temperatury elektrody podłożowej w minimalnym zakresie od -30 C do 80 C przy dostarczonym chłodzeniu wodnym, sterowanie za pomocą komputera, - regulacja temperatury elektrody podłożowej w minimalnym zakresie od -150 C do 400 C przy chłodzeniu LN2 włączając He (ang. helium backside cooling), - musi być dostarczony transfer do chłodzenia (transfer do Kolumna do wypełnienia przez oferenta Należy potwierdzić lub opisać *

13 połączenia elektrody podłożowej z posiadanym Dewar-em), - średnica elektrody w zakresie od 200 mm do 220 mm. Generator plazmy RF: - generator RF o częstotliwości 13,56 MHz o mocy od co najwyżej 30W do co najmniej 300W z układem automatycznego dopasowania impedancji, - kontrola mocy wychodzącej i/lub ujemnego potencjału autopolaryzacji, - wstępne niezależne, automatyczne dopasowanie impedancji poprzez kondensatory dopasowujące dla każdego etapu procesu sterowane z zaprogramowanych pozycji sterowanych za pomocą komputera (work in automatic matching mode with preset positions (from the PC, for each step)), - praca z ustalonymi pozycjami kondensatorów sterowanych za pomocą komputera na każdym etapie procesu (work with fixed capacitor positions (from the PC, for each step)), - praca w trybie automatycznego dopasowania impedancji (work in automatic matching mode). Źródło plazmy ICP: - średnica źródła zoptymalizowana do przeprowadzania procesów na podłożach do 50 mm (2 cale), z jednorodnością procesu ±5%, - zoptymalizowane do pracy z małymi próbkami (5x5mm)do maksymalnej średnicy 75 mm, - źródło typu helical, - generator o częstotliwości minimum 13,56 MHz o mocy od co najwyżej 30W do co najmniej 300 W z układem automatycznego dopasowania impedancji, - układ dopasowania mocy wejściowej jako parametr procesowy (Matching unit capacitor positions selectable as process parameters), - ekranowanie elektrostatyczne w celu minimalnego defektowania podłoża oraz trawionych okien w trakcie procesu (With no capacitance component, ie electrostatic shielding), - flansza o średnicy 25mm w górnej elektrodzie do instalacji i elipsometru laserowego - interferometru laserowego. System wytwarzania próżni w komorze reaktora: - system próżni suchej składający się z układu pompy próżni wstępnej i właściwej, - do wytworzenia próżni wstępnej musi być wykorzystana pompa bezolejowa o wydajności min. 90m3/h, - do wytworzenia próżni właściwej musi być wykorzystana pompa turbomolekularna z łożyskami magnetycznymi, o wydajności min. 500l/s, - pompa próżni wstępnej zainstalowana w pomieszczeniu technicznym, - układ próżniowy odporny na gazy korozyjne, - układ zapewniający próżnię 5x10-6mbar lub lepszą, - automatyczna kontrola próżni wstępnej oraz próżni podczas procesów trawienia. System pomiaru próżni w komorze reaktora: - pomiar próżni do 100 mtorr, - rozdzielczość wskaźnika co najmniej 1 mtorr, - kompensacja temperaturowa. System dostarczania gazów roboczych: - dozownik gazów (ang. gaspod/gasbox) umożliwiający dystrybucję minimum 8 typów gazów roboczych, - dozownik gazów (ang. gaspod/gasbox) wyposażony w przepływomierze (MFC) wykalibrowane na następujące gazy: sześciofluorek siarki (SF 6 ), chlor (Cl 2 ), trójchlorek boru (BCl 3 ),

14 metan (CH 4 ), azot analityczny (N), tlen (O 2 ), argon (Ar), wodór (H 2 ), - linie gazów szczególnie niebezpiecznych wyposażone w systemy dodatkowego przedmuchu oraz tzw. bypass, - linie gazowe doprowadzające gazy technologiczne do komory procesowej elektropolerowane, spawane orbitalnie, - każda linia gazowa wyposażona w filtr pyłów, elektropneumatyczny zawór odcinający, linie gazowe z bypassem powinny być wyposażone w min. 3 zawory, - linie dostarczające gazy robocze oparte o chlor i bromowodór charakteryzujące się dodatnim gradientem temperatury do przepływomierza w celu eliminacji efektu kondensacji, konieczność zachowania dodatniego gradientu temperatury od butli z gazem aż do przepływomierza, tj. w przypadku przechowywania butli w temp. ~20 C, linia gazowa musi być utrzymywana w temperaturze ~35 C, natomiast przepływomierz ~40 C; zapobiega to kondensacji gazu w linii, - wykorzystane złączki tylko typu VCR, - system musi być wyposażony w odpowiedni komin i podłączony do posiadanego systemu wentylacji. Automatyczna komora załadowcza/śluza (vacuum loadlock): - wykonana w całości z jednego bloku aluminiowego, - objętość komory nie większa niż 5 litrów, - wyposażona we własny system wytwarzający próżnię pompa próżni suchej wstępnej o wydajności min. 15m3/h i pompa turbomolekularna o wydajności min. 70 l/s - wyposażona w próżniomierze typu Pirani i Penning oraz zawory, - komora załadowcza wyposażona w transfer do transportu próbek o różnych kształtach o wymiarach od 5 mm x 5 mm do minimum 2 cali do komory reakcyjnej. Sterowanie Urządzenia: - sterowanie komputerowe z dedykowanym oprogramowaniem, - sterowanie musi odbywać się za pomocą szybkiego sterownika PLC (Programmable Logic Controller) z analogowym i cyfrowym I/O, - oprogramowanie musi pozwalać na: logowanie danych procesowych dla każdego procesu oddzielnie (możliwość wyboru parametrów cyfrowych i analogowych, które mają podlegać logowaniu), pokazywanie w czasie rzeczywistym zadanych i aktualnych parametrów procesów, sterowanie ręczne, jak również za pomocą wcześniej tworzonych przez użytkowników receptur procesów technologicznych o długości min. 25ms PLC, automatyczną kontrolę nieszczelności oraz kalibracji kontrolerów MFC, a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników, także dla wybranych procesów, - komputer sterujący (z systemem operacyjnym Windows 7) wraz z monitorem minimum 19 LCD (zestaw komputerowy kompletny) zapewniający ergonomiczną, płynną i bezproblemową pracę Urządzenia przy korzystaniu z dedykowanego oprogramowania. - Oprogramowanie musi pracować pod systemem operacyjnym Windows 7. - Oprogramowanie musi mieć funkcje wstrzymania hold (plazma ON w momencie przechodzenia do kolejnego etapu procesu, plasma on when switching to a new process step) i przycisk skoku jump ( dla ręcznego przełączenia). Układ chłodzenia: - wymaga się dostarczenia odpowiedniego układu do chłodzenia zapewniającego stabilną prace całego systemu (układ chłodzenia może być wspólny dla urządzeń ICP-RIE i ICP-PECVD),

15 musi zapewniać chłodzenie pompy turbo, generatora plamy, podłoża oraz innych komponentów urządzenia, - układ do chłodzenia woda-powietrze, - przepływ minimum 10 l/minutę, - temperatura chłodziwa od 10 do 25 C. Elipsometr laserowy - interferometr laserowy: - wymaga się dostarczenia dedykowanego systemu do monitorowania głębokości trawienia in-situ heterostruktur, - monitorowanie głębokości trawienia in-situ heterostruktur dla małych próbek 5x5mm oraz większych do minimum 50 mm, - wyposażonego w kamerę CCD, stolik x/y z przesuwem w zakresie ± 1cm oraz w dedykowany laser o długości 675 nm. - wyposażony w odpowiednie oprogramowanie do pomiaru głębokości trawienia heterostruktur. - oprogramowanie do obsługi elipsometru laserowego musi być zintegrowane z oprogramowaniem do obsługi ICP-RIE oraz ICP- PECVD używając sygnału z elipsometru i jego pierwszej pochodnej. - system musi mieć możliwość przenoszenia i wykonywania pomiarów zarówno u rządzeniu ICP-RIE i ICP-PECVD. System efektywnego chłodzenia (kriogenicznego) elektrody podłożowej zapewniający doskonały kontakt termiczny podłoża półprzewodnikowego z elektrodą - dodatkowe wyposażenie w klemę przytrzymującą podłoże, wykonaną z SiO 2 lub innego materiału o podobnej odporności, dostosowaną do podłoży: od 5x5mm do minimum 50mm. System musi być przystosowany do pracy w pomieszczeniu typu clean room, minimum klasy W ramach testu akceptacyjnego zostanie przeprowadzone sprawdzenie poprawności działania wszystkich układów i elementów Urządzenia poprzez przeprowadzenie testów sprawdzających według norm producenta oraz następujące testy, obejmujące wykonanie minimum 2 procesów technologicznych charakteryzujących się następującymi parametrami (Procesy zostaną wybrane przez Zamawiającego): 1. Trawienie GaN - Szybkość trawienia: ~75nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 0,8: Trawienie GaN - Szybkość trawienia: ~250nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 10:1 3.Trawienie Polikrzemu - Szybkość trawienia: ~50nm/min ±5% - Selektywność do SiO2: co najmniej 2:1 -Jednorodność procesu: ±5% -Nachylenie ścian trawionych okien: >85 4. Trawienie Dwutlenku hafnu (HfO2) - Szybkość trawienia: większa niż 1nm/min ±5%

16 5. Trawienie Trójtlenku aluminium (Al2O3) - Szybkość trawienia: ~5nm/min ±5% - Selektywność do niklu Ni: co najmniej 7:1 6. Trawienie ZnO - Szybkość trawienia: ~50nm/min ±5% - Selektywność do niklu Ni: co najmniej 7:1, 7. Trawienie GaAs/AlGaAs - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 4:1 - Selektywność do GaAs:AlGaAs: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >88 8. Trawienie CdTe - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% 9. Trawienie ZnSe - Szybkość trawienia: ~100nm/min ±5% Testy te muszą zostać przeprowadzone na podłożach dostarczonych przez Zmawiającego. Do pomiarów spełnienia przez Urządzenie testów akceptacyjnych mogą zostać wykorzystane urządzenia pomiarowo - diagnostyczne znajdujące się w laboratoriach Instytutu Fizyki PAN. Do testów anizotropii trawionych profili wykorzystany zostanie posiadany przez Zamawiającego skaningowy mikroskop elektronowy. Gazy robocze: - urządzanie musi być podłączone do posiadanej instalacji czystych gazów, - linie gazowe doprowadzające gazy reakcyjne muszą być wykonane ze stali nierdzewnej elektropolerowanej, - spawania tylko orbitalne, system odprowadzania gazów poreakcyjnych z pomp oraz z dozownika gazów powinien być wyposażony w niezbędne (wynikające z wykorzystywanych gazów i odpowiednich przepisów) urządzenia utylizacji gazów poreakcyjnych (scrubber), które pozwalają podłączyć ich wylot bezpośrednio do instalacji wyciągowej. Scrubber/y muszą mieć możliwość pomiaru przez użytkownika wartości ph. Neutralizator absorber musi być właściwy dla gazów wymienionych. Maksymalne wymiary systemu (footprint): szerokość 68 cm, długość 190 cm, wysokość 200 cm.

17 Wymaga się wykonanie bezpłatnego przeglądu technicznych po pod koniec okresu gwarancji, obejmujących również serwisowanie, wymianę materiałów ulegających zużyciu lub wymagających wymiany. Koszty transportu, przeglądu, koszty materiałów wymienianych oraz koszty wymiany tych materiałów ponosi Wykonawca. Wszystkie wtyczki, gniazda elektryczne, zasilanie, złącza wodne etc. muszą być zgodne z polskimi standardami. Producent musi potwierdzić, że posiada własne laboratorium aplikacyjne od minimum 20 lat w zakresie aparatury ICP i posiada tam minimum 4 systemy ICP. Producent musi potwierdzić, że posiada zainstalowanych minimum 100 urządzeń to trawienia plazmowego ICP z śluzą. Urządzenie musi posiadać Certyfikat zgodności z normą ISO 14001:2004 (zarządzanie środowiskiem). System musi posiadać i spełniać wymogi norm CE: - Dyrektywa Maszynowa /42 / WE, - Dyrektywa niskonapięciowa LVD /95 / WE, - Dyrektywa dotycząca kompatybilność elektromagnetycznej EMC 2004/108 / WE. Lp. Wymagania (wymagane parametry minimalne) Stanowisko do trawienia związkami fluoru z funkcjonalnością osadzania związków krzemu ICP-PECVD (Inductively-Coupled Plasma Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition) Kolumna do wypełnienia przez oferenta Należy potwierdzić lub opisać * Selektywne, kontrolowane i powtarzalne trawienie metodą ICP- PECVD warstw technologicznych w plazmie opartej o związki fluoru (trawienia warstw dielektrycznych: SiO 2, SiC, Si, Si 3 N 4 oraz krzemowych warstw półprzewodnikowych, usuwanie emulsji fotolitograficznych oraz masek dielektrycznych z powierzchni półprzewodników) z funkcją osadzania warstw dielektrycznych, m.in.: osadzania dwutlenku krzemu (SiO 2 ), azotku krzemu (Si 3 N 4 ), tlenkuazotku krzemu (SiO x N y ) oraz półprzewodnikowych (amorficznego krzemu a-si) na podłożach półprzewodnikowych o średnicy do co najmniej 50mm. Urządzenie stanowi integralną całość, ale musi zostać zapewniona możliwość dołączenia Urządzenia do systemu urządzeń (ang. cluster tool ). Dozownik gazów roboczych (ang. gaspod/gasbox) oraz źródło zasilania nie muszą być integralnymi częściami urządzenia. Komora procesowa: - wykonana w całości z jednego bloku aluminiowego - z połączeniem kołnierzowym o średnicy nie mniejszej niż 150mm w celu zapewnienia efektywnego pompowania komory jednakże pod warunkiem spełnienia parametrów związanych ze sprawnością odpompowywania, - flansza wejściowa o średnicy nie mniejszej niż 40 mm z oknem obserwacyjnym, - flansza dla systemu detekcji końca procesu, - wewnątrz brak połączeń skręcanych i spawanych, - wykonywanie procesów dla płytek o wielkości od 5 mm x 5 mm do 2 oraz dla płytek o nieregularnych kształtach, - grzanie ścian komory (np. rezystancyjnie) do co najmniej 60 C, - grzanie układu pompowania, pump cylinder.

18 Obudowa Urządzenia: - elementy kontrolne pracy Urządzenia zintegrowane są w 3. obudowie, - zawiera w sobie pompy i wszelkie zawory. (nie musi zawierać pomp wstępnych). Elektroda dolna: - średnica elektrody dostosowana do przeprowadzania procesów technologicznych na podłożach o wymiarach do minimum 50 mm, - zasilana ze źródła RF (13,56 MHz), - możliwość programowanego podgrzewania elektrody do min. 400 C z dokładnością ±10 C - chłodzenie wodą bądź innym czynnikiem chłodzącym aluminiowa przesłona maskująca uziemiona (osłona ciemnego regionu - ang. dark space shield), - regulacja temperatury elektrody podłożowej w minimalnym zakresie od -30 C do 80 C, - regulacja temperatury elektrody podłożowej w minimalnym zakresie od -150 C do 400 C przy chłodzeniu LN2 włączając He (ang. helium backside cooling), Zamawiający zapewnia LN2 dewar, - średnica elektrody w zakresie od 200 mm do 220 mm. 5. Skasowano ten podpunkt. Generacja plazmy RF: - generator o częstotliwości 13,56 MHz o mocy od co najwyżej 30W do co najmniej 300 W z układem automatycznego dopasowania impedancji, - możliwość kontroli mocy wychodzącej i/lub ujemnego potencjału autopolaryzacji, - wstępne niezależne, automatyczne dopasowanie impedancji 6. poprzez kondensatory dopasowujące dla każdego etapu procesu sterowane z zaprogramowanych pozycji sterowanych za pomocą komputera (work in automatic matching mode with preset positions (from the PC, for each step)), - praca z ustalonymi pozycjami kondensatorów sterowanych za pomocą komputera na każdym etapie procesu (work with fixed capacitor positions (from the PC, for each step)), - praca w trybie automatycznego dopasowania impedancji (work in automatic matching mode). Źródło plazmy ICP zoptymalizowane dla próbek maksymalnie 2 calowych: - średnica źródła zoptymalizowana do przeprowadzania procesów na podłożach do 50 mm (2 cale), z jednorodnością procesu ±5%, - zoptymalizowane do pracy z małymi próbkami (5x5mm) do maksymalnej średnicy 75 mm, - źródło typu helical - generator RF (f =13,56 MHz) z automatycznym dopasowaniem 7. impedancji, - minimalna moc generatora P = 300 W, - układ dopasowania mocy wejściowej jako parametr procesowy (Matching unit capacitor positions selectable as process parameters), - z ekranowaniem elektrostatycznym (with no capacitance component, ie electrostatic shielding), - flansza o średnicy 25 mm w górnej elektrodzie do instalacji elipsometru - interferometru laserowego. System wytwarzania próżni w komorze procesowej: 8. - układ dwóch pomp próżni wstępnej i właściwej, - do wytworzenia próżni wstępnej musi być wykorzystana pompa bezolejowa,

19 układ zapewniający próżnię 4x10-6 mbar, - czas uzyskania próżni w komorze procesowej od ciśnienia atmosferycznego do ciśnienia 4x10-6 mbar wynosi t 12 godzin, - układ próżniowy odporny na gazy korozyjne, - układ zawierający pompę obrotową i turbomolekularną z magnetycznymi łożyskami o wydajności minimum 500 l/s oraz pompy wstępnej bezolejowej o wydajności minimum 90m3/godzinę, - automatyczna kontrola próżni wstępnej oraz próżni podczas procesów osadzania i trawienia. System pomiaru próżni w komorze reaktora: - pomiar próżni do 100 mtorr, - rozdzielczość wskaźnika co najmniej 1 mtorr, - kompensacja temperaturowa. System musi mieć możliwość podłączenia w przyszłości komory załadowczej/śluzy (vacuum loadlock) czy komory załadowczej w postaci klastera (loadlock for clustering) która umożliwi transfer próbek o różnych kształtach i wymiarach od 5 mm x 5 mm do minimum 2 cali do komory reakcyjnej. Producent musi zagwarantować możliwość podłączenia śluzy w laboratorium Zamawiającego. System dostarczania gazów roboczych: - dozownik gazów (gaspod/gasbox) umożliwiający dystrybucję co najmniej 9 typów gazów roboczych, - dozownik gazów (gaspod/gasbox) wyposażony w przepływomierze (MFC) wykalibrowane na następujące gazy: silan (SiH 4 ), podtlenek azotu (N 2 O), tlen (O 2 ), argon (Ar), wodór (H 2 ), azot (N 2 ), sześciofluorek siarki (SF 6 ), trifluorometan (CHF 3 ), octafluorocyclobutane (C 4 F 8 ), - linie gazów szczególnie niebezpiecznych (np. silan, czterofluorek węgla) wyposażone w systemy dodatkowego przedmuchu oraz tzw. bypas, - pierścień do dystrybucji gazów umożliwiający procesy ICP PECVD, - linie gazowe doprowadzające gazy technologiczne do komory procesowej elektropolerowane, spawane orbitalnie, - wszystkie zastosowane złączki typu VCR, - każda linia gazowa wyposażona w filtr pyłów, elektropneumatyczny zawór odcinający, natomiast linie gazowe z bypasem powinny być wyposażone w min. 3 zawory, - system musi być wyposażony w odpowiedni komin i podłączony do posiadanego systemu wentylacji. Gazy robocze: - urządzanie musi być podłączone do posiadanej instalacji czystych gazów, - system odprowadzania gazów poreakcyjnych z pomp oraz z dozownika gazów powinien być wyposażony w niezbędne (wynikające z wykorzystywanych gazów i odpowiednich przepisów) urządzenia utylizacji gazów poreakcyjnych (scrubber), które pozwalają podłączyć ich wylot bezpośrednio do instalacji wyciągowej. Scrubber/y muszą mieć możliwość pomiaru przez użytkownika wartości ph. Neutralizator absorber musi być właściwy dla gazów wymienionych. Sterowanie Urządzenia: - sterowanie komputerowe z dedykowanym oprogramowaniem, - sterowanie musi odbywać się za pomocą szybkiego sterownika PLC (Programmable Logic Controller) z analogowym i cyfrowym I/O, - oprogramowanie musi pozwalać na: logowanie danych procesowych dla każdego procesu oddzielnie (możliwość wyboru parametrów cyfrowych i analogowych), pokazywanie w czasie rzeczywistym zadanych i aktualnych parametrów procesów, sterowanie ręczne, jak również za pomocą wcześniej tworzonych przez użytkowników receptur procesów technologicznych o długości min. 25ms PLC,

20 automatyczną kontrolę nieszczelności oraz kalibracji kontrolerów MFC, a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników, także dla wybranych procesów, - komputer sterujący (z systemem operacyjnym Windows 7) wraz z monitorem minimum 19 LCD (zestaw komputerowy kompletny) zapewniający ergonomiczną, płynną i bezproblemową pracę Urządzenia przy korzystaniu z dedykowanego oprogramowania. - Oprogramowanie musi pracować pod systemem operacyjnym Windows 7. - Oprogramowanie musi mieć funkcje wstrzymania hold (plazma ON w momencie przechodzenia do kolejnego etapu procesu, plasma on when switching to a new process step) i przycisk skoku jump (dla ręcznego przełączenia). Układ chłodzenia: - wymaga się dostarczenia odpowiedniego układu do chłodzenia zapewniającego stabilną prace całego systemu (układ chłodzenia może być wspólny dla urządzeń ICP-RIE i ICP-PECVD),, - musi zapewniać chłodzenie pompy turbo, generatora plamy, podłoża oraz innych komponentów urządzenia, - układ do chłodzenia woda-powietrze, - przepływ minimum 10 l/minutę, - temperatura chłodziwa od 10 do 25 C. System musi być przystosowany do pracy w pomieszczeniu typu clean room, minimum klasy W ramach testu akceptacyjnego zostanie przeprowadzone sprawdzenie poprawności działania wszystkich układów i elementów Urządzenia poprzez przeprowadzenie testów sprawdzających według norm producenta oraz następujące testy, obejmujące wykonanie minimum 3 procesów technologicznych charakteryzujących się następującymi parametrami (Procesy zostaną wybrane przez Zamawiającego): 1. Trawienie SiO2: - Szybkość trawienia: 30nm/min ±5% - Selektywność do aluminium: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >87 - głębokość trawienia w zakresie od 10 nm do min. 3 μm 2. Trawienie poliamidu: - Szybkość trawienia: ~500nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 20:1 3. Trawienie emulsji fotolitograficznych z powierzchni półprzewodników i dielektryków: - Szybkość trawienia: >100nm/min ±5% - Selektywność do dwutlenku krzemu: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >70 4. Trawienie Si: - Szybkość trawienia: ~2000nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 50:1 - Nachylenie ścian trawionych okien: >88 5. Trawienie SixNy: - Szybkość trawienia: ~150nm/min ±5% - Selektywność do fotorezystu: co najmniej 1.5:1 6. Osadzanie SiO2:

MODYFIKACJA SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA

MODYFIKACJA SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA Znak postępowania: CEZAMAT/ZP01/2013 Warszawa, dnia 10.07.2013 r. L. dz. CEZ-170-13 MODYFIKACJA SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA Dotyczy postępowania prowadzonego w trybie przetargu nieograniczonego

Bardziej szczegółowo

WARUNKI INSTALACYJNE. Spektrometry ICP serii Integra. www.gbcpolska.pl

WARUNKI INSTALACYJNE. Spektrometry ICP serii Integra. www.gbcpolska.pl WARUNKI INSTALACYJNE Spektrometry ICP serii Integra www.gbcpolska.pl Pomieszczenie Spektrometr ICP powinien być zainstalowany w oddzielnym pomieszczeniu, gwarantującym niekorozyjną i niezapyloną atmosferę

Bardziej szczegółowo

DZPIE/002/NZU/569/2015 Warszawa, 11 marca 2015 r.

DZPIE/002/NZU/569/2015 Warszawa, 11 marca 2015 r. DZPIE/002/NZU/569/2015 Warszawa, 11 marca 2015 r. Dotyczy udzielenia zamówienia publicznego w trybie "przetargu nieograniczonego" na Uniwersalna linia technologiczna do badań procesów wytwarzania nanostruktur

Bardziej szczegółowo

SPECYFIKACJA TECHNICZNA ZESTAWU DO ANALIZY TERMOGRAWIMETRYCZNEJ TG-FITR-GCMS ZAŁĄCZNIK NR 1 DO ZAPYTANIA OFERTOWEGO

SPECYFIKACJA TECHNICZNA ZESTAWU DO ANALIZY TERMOGRAWIMETRYCZNEJ TG-FITR-GCMS ZAŁĄCZNIK NR 1 DO ZAPYTANIA OFERTOWEGO SPECYFIKACJA TECHNICZNA ZESTAWU DO ANALIZY TERMOGRAWIMETRYCZNEJ TG-FITR-GCMS ZAŁĄCZNIK NR 1 DO ZAPYTANIA OFERTOWEGO NR 113/TZ/IM/2013 Zestaw ma umożliwiać analizę termiczną próbki w symultanicznym układzie

Bardziej szczegółowo

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA CZĘŚĆ 1 PIEC PRÓŻNIOWY OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Przedmiotem zamówienia jest: dostawa pieca próżniowego do wygrzewania nanomateriałów węglowych wraz z: wyposażeniem, instalacją, uruchomieniem, szkoleniem.

Bardziej szczegółowo

l.dz. 185/TZ/DW/2015 Oświęcim, dnia 29.05.2015 r.

l.dz. 185/TZ/DW/2015 Oświęcim, dnia 29.05.2015 r. l.dz. 185/TZ/DW/2015 Oświęcim, dnia 29.05.2015 r. Dotyczy: zaproszenie do złożenia oferty cenowej na dostawę urządzeń laboratoryjnych dla Wyposażenia Laboratorium badawczo-rozwojowego środków ochrony roślin

Bardziej szczegółowo

Pirometr przenośny model: 8861B

Pirometr przenośny model: 8861B www.thermopomiar.pl info@thermopomiar.pl tel.: 91-880 88 80, 32-444 90 90 fax: 91-880 80 89, 32-444 90 91 Aparatura kontrolno-pomiarowa i automatyka przemysłowa pomiary temperatury i wilgotności. INSTRUKCJA

Bardziej szczegółowo

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA. Producent i model oferowanego aparatu. Cena netto.. Kwota VAT Cena brutto

OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA. Producent i model oferowanego aparatu. Cena netto.. Kwota VAT Cena brutto Załącznik nr 1, znak sprawy DG-2501/8573/1142/11 OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Zadanie nr 1 wirówka mikrolitowa szt.1 Producent i model oferowanego aparatu. Cena netto.. Kwota VAT

Bardziej szczegółowo

Spektrometr ICP-AES 2000

Spektrometr ICP-AES 2000 Spektrometr ICP-AES 2000 ICP-2000 to spektrometr optyczny (ICP-OES) ze wzbudzeniem w indukcyjnie sprzężonej plazmie (ICP). Wykorztystuje zjawisko emisji atomowej (ICP-AES). Umożliwia wykrywanie ok. 70

Bardziej szczegółowo

Chromatograf gazowy z detektorem uniwersalnym i podajnikiem próbek ciekłych oraz zaworem do dozowania gazów

Chromatograf gazowy z detektorem uniwersalnym i podajnikiem próbek ciekłych oraz zaworem do dozowania gazów Strona1 Sprawa Nr RP.272.79.2014 załącznik nr 6 do SWZ (pieczęć Wykonawcy) PRMTRY TNZN PRZMOTU ZMÓWN Nazwa i adres Wykonawcy:... Nazwa i typ (producent) oferowanego urządzenia:... zęść 1 hromatograf gazowy

Bardziej szczegółowo

ST 630 PIROMETR Z CELOWNIKIEM LASEROWYM

ST 630 PIROMETR Z CELOWNIKIEM LASEROWYM INSTRUKCJA OBSŁUGI ST 630 PIROMETR Z CELOWNIKIEM LASEROWYM SENTRY OPTRONICS Co., LTD., TAIWAN -2- Spis treści Strona 1. BEZPIECZEŃSTWO POMIARÓW...4 2. SPECYFIKACJA...5 2.1. Cechy konstrukcyjne i użytkowe...5

Bardziej szczegółowo

II. Kwadropulowy detektor masowy:

II. Kwadropulowy detektor masowy: Brzeźno, dnia 03.10.2014 r. Zapytanie ofertowe Tewex-Repro Spółka z ograniczoną odpowiedzialnością z siedzibą przy, ubiega się o dofinansowanie w ramach Programu Operacyjnego Innowacyjna Gospodarka na

Bardziej szczegółowo

Charakterystyka przedmiotu zamówienia

Charakterystyka przedmiotu zamówienia Załącznik nr 5 do siwz W/NO/ZP-2/12 Charakterystyka przedmiotu zamówienia Ilekroć w treści siwz, w tym w opisie przedmiotu zamówienia, użyte są znaki towarowe, patenty lub pochodzenie, a także normy, Zamawiający

Bardziej szczegółowo

Wszystkie rozwiązanie techniczne jakie znalazły zastosowanie w Avio kw zostały wykorzystane również w tej grupie urządzeń.

Wszystkie rozwiązanie techniczne jakie znalazły zastosowanie w Avio kw zostały wykorzystane również w tej grupie urządzeń. ZEUS 24 kw W ciągu ponad czterdziestoletniej produkcji gazowych kotłów grzewczych Immergas za cel nadrzędny stawiał sobie zapewnienie komfortu ciepłej wody użytkowej. Nie zapomnieliśmy o tym i w tym przypadku.

Bardziej szczegółowo

Materiał szkoleniowy: urządzenia i instalacje do magazynowania i rozprężania gazów specjalnych

Materiał szkoleniowy: urządzenia i instalacje do magazynowania i rozprężania gazów specjalnych Materiał szkoleniowy: urządzenia i instalacje do magazynowania i rozprężania gazów specjalnych Spis treści 1. PANELE ROZPRĘŻANIA, SYSTEMY MONITORUJĄCE / KONTROLNE... 2 2. ZAWORY I REDUKTORY CIŚNIENIA...

Bardziej szczegółowo

Biuro Projektowe "PROJEKT" 04-074 Warszawa. Al. Waszyngtona 53a m. 43 PRZEDMIAR ROBÓT

Biuro Projektowe PROJEKT 04-074 Warszawa. Al. Waszyngtona 53a m. 43 PRZEDMIAR ROBÓT Biuro Projektowe "PROJEKT" 04-074 Warszawa. Al. Waszyngtona 53a. 43 PRZEDMIAR ROBÓT Klasyfikacja robót wg. Wspólnego Słownika Zaówień 45333000-0 Roboty instalacyjne gazowe 45333100-1 Instalowanie urządzeń

Bardziej szczegółowo

Przepływomierze termiczne do pomiaru przepływu gazów NFT64, NFT65

Przepływomierze termiczne do pomiaru przepływu gazów NFT64, NFT65 Przepływomierze termiczne do pomiaru przepływu gazów NFT64, NFT65 Aplikacje pomiaru przepływu sprężonego powietrza i innych gazów lub mieszanek gazów Aplikacje pomiaru przepływu sprężonego powietrza lub

Bardziej szczegółowo

Wygląd rozdziału II oraz załącznika nr 2 do SIWZ (Tabela zgodności oferowanego przedmiotu zamówienia z wymaganiami Zamawiającego) po modyfikacji:

Wygląd rozdziału II oraz załącznika nr 2 do SIWZ (Tabela zgodności oferowanego przedmiotu zamówienia z wymaganiami Zamawiającego) po modyfikacji: Wygląd rozdziału II oraz załącznika nr 2 do SIWZ (Tabela zgodności oferowanego przedmiotu zamówienia z wymaganiami Zamawiającego) po modyfikacji: OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Rozdział II Przedmiotem zamówienia

Bardziej szczegółowo

Załącznik nr 1. Specyfikacja techniczna dla dostawy 1 szt. automatycznego analizatora stężenia benzenu w powietrzu atmosferycznym.

Załącznik nr 1. Specyfikacja techniczna dla dostawy 1 szt. automatycznego analizatora stężenia benzenu w powietrzu atmosferycznym. Załącznik nr 1 Specyfikacja techniczna dla dostawy 1 szt. automatycznego analizatora stężenia benzenu w powietrzu atmosferycznym. Tabela 1. Wymagania ogólne Lp. 1. Opis zadania Opis 2. Dokumentacja techniczna

Bardziej szczegółowo

Znak postępowania: CEZAMAT/ZP14/2015/F Warszawa, 12.06.2015 r. L. dz. CEZ - 195/15 ODPOWIEDZI NA PYTANIA DO SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA

Znak postępowania: CEZAMAT/ZP14/2015/F Warszawa, 12.06.2015 r. L. dz. CEZ - 195/15 ODPOWIEDZI NA PYTANIA DO SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA Znak postępowania: CEZAMAT/ZP14/2015/F Warszawa, 12.06.2015 r. L. dz. CEZ - 195/15 ODPOWIEDZI NA PYTANIA DO SPECYFIKACJI ISTOTNYCH WARUNKÓW ZAMÓWIENIA Dotyczy postępowania prowadzonego w trybie przetargu

Bardziej szczegółowo

Czujniki podczerwieni do bezkontaktowego pomiaru temperatury. Czujniki stacjonarne.

Czujniki podczerwieni do bezkontaktowego pomiaru temperatury. Czujniki stacjonarne. Czujniki podczerwieni do bezkontaktowego pomiaru temperatury Niemiecka firma Micro-Epsilon, której WObit jest wyłącznym przedstawicielem w Polsce, uzupełniła swoją ofertę sensorów o czujniki podczerwieni

Bardziej szczegółowo

ZAŁĄCZNIKI DO ZŁOŻENIA OFERTY L.DZ. 342/ZM/S2/2010

ZAŁĄCZNIKI DO ZŁOŻENIA OFERTY L.DZ. 342/ZM/S2/2010 ZAPYTANIE OFERTOWE DLA PROJEKTU,, ROZBUDOWA DZIAŁALNOŚCI SYNTHOS S.A. W ZAKRESIE PROWADZENIA PRAC B+R ( POIG.04.02.00-12-008/10) ZAŁĄCZNIKI DO ZŁOŻENIA OFERTY L.DZ. 342/ZM/S2/2010 1. Reaktory szklane z

Bardziej szczegółowo

Wypełnia Wykonawca Opis Wykonawcy

Wypełnia Wykonawca Opis Wykonawcy Oferowany przedmiot zamówienia Załącznik Nr 1 do oferty Postępowanie Nr ZP/55/2011 Lp. Opis Nazwa asortymentu, typ, model, nr katalogowy, nazwa producenta *) Il. szt. [kpl.] 1 Wiskozymetr elektroniczny

Bardziej szczegółowo

PULSOKSYMETR sieciowo akumulatorowy dla dzieci do opieki domowej 3 sztuki

PULSOKSYMETR sieciowo akumulatorowy dla dzieci do opieki domowej 3 sztuki Załącznik nr 4 Pakiet nr 2 PULSOKSYMETR sieciowo akumulatorowy dla dzieci do opieki domowej 3 sztuki Lp. 1. Oferent/Producent Podać 2. Nazwa i typ Podać 3. Deklaracja zgodności 4. Rok produkcji 2012 5.

Bardziej szczegółowo

FORMULARZ OFERTOWY. Niniejsza oferta stanowi odpowiedź na zapytanie ofertowe nr 1/09/2016/BIOOPA z dnia

FORMULARZ OFERTOWY. Niniejsza oferta stanowi odpowiedź na zapytanie ofertowe nr 1/09/2016/BIOOPA z dnia (miejscowość, data) FORMULARZ OFERTOWY Niniejsza oferta stanowi odpowiedź na zapytanie ofertowe nr 1/09/2016/BIOOPA z dnia. dotyczące zadań realizowanych w ramach Projektu Opracowanie innowacyjnej metody

Bardziej szczegółowo

CZĘŚĆ II SIWZ OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA. 1. Przedmiot zamówienia 2. Parametry techniczne urządzeń 3. Gwarancja

CZĘŚĆ II SIWZ OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA. 1. Przedmiot zamówienia 2. Parametry techniczne urządzeń 3. Gwarancja CZĘŚĆ II SIWZ OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA 1. Przedmiot zamówienia 2. Parametry techniczne urządzeń 3. Gwarancja 1. PRZEDMIOT ZAMÓWIENIA 1.1. Przedmiotem zamówienia jest zakup urządzeń do prowadzenia gospodarki

Bardziej szczegółowo

Pompy ciepła woda-powietrze Model LV (1,9 do 17,1 kw)

Pompy ciepła woda-powietrze Model LV (1,9 do 17,1 kw) Pompy ciepła woda-powietrze Model LV (1,9 do 17,1 kw) 2 Pompy ciepła woda-powietrze Kompaktowe, efektywne i bogate w opcje Seria LV Pompa ciepła typu LV woda-powietrze oferuje szeroki zakres i jednocześnie

Bardziej szczegółowo

PARAMETRY TECHNICZNE I WARUNKI BEZWZGLĘDNIE WYMAGANE

PARAMETRY TECHNICZNE I WARUNKI BEZWZGLĘDNIE WYMAGANE PARAMETRY TECHNICZNE I WARUNKI BEZWZGLĘDNIE WYMAGANE Kwadrupolowy spektrometr mas z plazmą indukcyjnie sprzężoną ICP-MS z wyposażeniem i oprogramowaniem model/typ.... *; producent.....*; rok produkcji

Bardziej szczegółowo

Wykaz urządzeń Lp Nazwa. urządzenia 1. Luksomierz TES 1332A Digital LUX METER. Przeznaczenie/ dane techniczne Zakres 0.. 200/2000/20000/ 200000 lux

Wykaz urządzeń Lp Nazwa. urządzenia 1. Luksomierz TES 1332A Digital LUX METER. Przeznaczenie/ dane techniczne Zakres 0.. 200/2000/20000/ 200000 lux Wykaz urządzeń Lp Nazwa urządzenia 1 Luksomierz TES 1332A Digital LUX METER Przeznaczenie/ dane techniczne Zakres 0 200/2000/20000/ 200000 lux 2 Komora klimatyczna Komora jest przeznaczona do badania oporu

Bardziej szczegółowo

Przetworniki ciśnienia do zastosowań ogólnych typu MBS 1700 i MBS 1750

Przetworniki ciśnienia do zastosowań ogólnych typu MBS 1700 i MBS 1750 MAKING MODERN LIVING POSSIBLE Karta katalogowa Przetworniki ciśnienia do zastosowań ogólnych typu MBS 1700 i MBS 1750 Kompaktowe przetworniki ciśnienia typu MBS 1700 i MBS 1750 przeznaczone są do pracy

Bardziej szczegółowo

Wymagane parametry dla platformy do mikroskopii korelacyjnej

Wymagane parametry dla platformy do mikroskopii korelacyjnej Strona1 ROZDZIAŁ IV OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Wymagane parametry dla platformy do mikroskopii korelacyjnej Mikroskopia korelacyjna łączy dane z mikroskopii świetlnej i elektronowej w celu określenia powiązań

Bardziej szczegółowo

Parametr Wymagany parametr Oferowany parametr 1. 2. 3. a) z wbudowaną pompą membranową PTEE, b) kondensorem par, System

Parametr Wymagany parametr Oferowany parametr 1. 2. 3. a) z wbudowaną pompą membranową PTEE, b) kondensorem par, System Załącznik nr 1A do SIWZ. PARAMETRY TECHNICZNE PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Zadanie nr 1. TERMOSTAT CYRKULACYJNY Termostat cyrkulacyjny Z grzaniem i chłodzeniem Zakres temperatury roboczej 25 o C do + 200 o C

Bardziej szczegółowo

FORMULARZ WYMAGANYCH WARUNKÓW TECHNICZNYCH

FORMULARZ WYMAGANYCH WARUNKÓW TECHNICZNYCH Załącznik Nr 2 WYMAGANIA BEZWZGLĘDNE: FORMULARZ WYMAGANYCH WARUNKÓW TECHNICZNYCH Przedmiotem zamówienia jest dostawa i instalacja fabrycznie nowego skaningowego mikroskopu elektronowego (SEM) ze zintegrowanym

Bardziej szczegółowo

Zastosowanie generatorów dwutlenku chloru i elektrolizerów w dezynfekcji wody pitnej

Zastosowanie generatorów dwutlenku chloru i elektrolizerów w dezynfekcji wody pitnej Zastosowanie generatorów dwutlenku chloru i elektrolizerów w dezynfekcji wody pitnej Jarosław Witkowski Dozowanie i Dezynfekcja Dezynfekcja dwutlenkiem chloru Właściwości dwutlenku chloru Bardzo wysoka

Bardziej szczegółowo

SPECYFIKACJA PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA

SPECYFIKACJA PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Załącznik nr 1 do siwz Znak sprawy: ZP-PNU/D/2015/09/153 (nazwa wykonawcy) SPECYFIKACJA PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA Część 1 w postępowaniu o udzielenie zamówienia publicznego prowadzonym w trybie przetargu nieograniczonego

Bardziej szczegółowo

ODPOWIEDZI NA PYTANIA z dnia 04.07.2012 r.

ODPOWIEDZI NA PYTANIA z dnia 04.07.2012 r. ZP/UR/43/2012 Rzeszów dnia 04.07.2012r. Zamawiający: Uniwersytet Rzeszowski al. Rejtana 16c 35-959 Rzeszów NIP 813-32-38-822 REGON 691560040 ODPOWIEDZI NA PYTANIA z dnia 04.07.2012 r. Do Zamawiającego

Bardziej szczegółowo

DTR.P-PC..01. Pirometr PyroCouple. Wydanie LS 14/01

DTR.P-PC..01. Pirometr PyroCouple. Wydanie LS 14/01 Pirometr PyroCouple Wydanie LS 14/01 SPIS TREŚCI 1. OPIS...3 1.1. Specyfikacja...3 2. AKCESORIA...5 3. OPCJE...5 4. INSTALACJA...5 5. PRZYGOTOWANIE...6 5.1. Temperatura otoczenia...6 5.2. Jakość (czystość)

Bardziej szczegółowo

Inkubator transportowy

Inkubator transportowy Inkubator transportowy WYMAGANIA TECHNICZNE GRANICZNE I Parametry opisane muszą odpowiadać respiratorowi w oferowanej konfiguracji! Parametr oferowany - nr strony w załączonych materiałach /NIE WYMAGANIA

Bardziej szczegółowo

Szczegółowy opis przedmiotu zamówienia / Dane techniczne oferowanego sprzętu (sprawa DBA-2/240-43/2015)

Szczegółowy opis przedmiotu zamówienia / Dane techniczne oferowanego sprzętu (sprawa DBA-2/240-43/2015) Załącznik Nr 1 do SIWZ Szczegółowy opis przedmiotu zamówienia / (sprawa DBA-2/240-43/2015) Niniejszy załącznik stanowi jednocześnie szczegółowy opis przedmiotu zamówienia poszczególnych części zamówienia.

Bardziej szczegółowo

Projekt wymagań do programu funkcjonalno-użytkowego opracowany przez Stowarzyszenie Branży Fotowoltaicznej Polska PV

Projekt wymagań do programu funkcjonalno-użytkowego opracowany przez Stowarzyszenie Branży Fotowoltaicznej Polska PV Projekt wymagań do programu funkcjonalno-użytkowego opracowany przez Stowarzyszenie Branży Fotowoltaicznej Polska PV Etap prac na 21.07.2015 r. Wymagania w zakresie modułów fotowoltaicznych Zastosowane

Bardziej szczegółowo

Załącznik nr 2a do SIWZ postęp. A120-211-169/15/SS szczegółowy opis przedmiotu zamówienia

Załącznik nr 2a do SIWZ postęp. A120-211-169/15/SS szczegółowy opis przedmiotu zamówienia Załącznik nr 2a do SIWZ postęp. A120-211-169/15/SS szczegółowy opis przedmiotu zamówienia Dostawa wraz z instalacją systemu do ultra wysokosprawnej chromatografii cieczowej UHPLC oraz preparatywnego systemu

Bardziej szczegółowo

APARATURA POMIAROWA DO BADANIA SZCZELNOŚCI WYROBÓW

APARATURA POMIAROWA DO BADANIA SZCZELNOŚCI WYROBÓW APARATURA POMIAROWA DO BADANIA SZCZELNOŚCI WYROBÓW BADANIE SZCZELNOŚCI WYROBÓW Dla wielu wyrobów wytwarzanych w przemyśle ważnym parametrem decydującym o ich jakości jest szczelność. Bardzo często szczelność

Bardziej szczegółowo

Opis przedmiotu zamówienia

Opis przedmiotu zamówienia ZP/UR/169/2012 Zał. nr 1a do siwz Opis przedmiotu zamówienia A. Spektrometr ramanowski z mikroskopem optycznym: 1) Spektrometr ramanowski posiadający podwójny tor detekcyjny, wyposażony w chłodzony termoelektrycznie

Bardziej szczegółowo

ZMIANA TREŚCI SIWZ. Mifare wraz ze stosownym oprogramowaniem. Szczegółowy opis przedmiotu zamówienia zawarty został w załączniku nr 1 do SIWZ.

ZMIANA TREŚCI SIWZ. Mifare wraz ze stosownym oprogramowaniem. Szczegółowy opis przedmiotu zamówienia zawarty został w załączniku nr 1 do SIWZ. ZOŚ.331.7.2.2015.KG Międzyzdroje 01.04.2015 r. ZMIANA TREŚCI SIWZ dotyczy postępowania o udzielenie zamówienia publicznego w trybie przetargu nieograniczonego na dostawę 28 sztuk parkometrów, 7 sztuk mobilnych

Bardziej szczegółowo

PYTANIA I ODPOWIEDZI

PYTANIA I ODPOWIEDZI RZP-2003-36 /15 Poznań, dnia..05.2015r. PYTANIA I ODPOWIEDZI Akademia Wychowania Fizycznego w Poznaniu, na podstawie art. 38 ust. 2 ustawy Prawo zamówień publicznych (tekst jednolity Dz. U. z 2013 r. poz.

Bardziej szczegółowo

Przecinarka plazmowa Stamos Selection S-PLASMA 85CNC S-PLASMA 85CNC Plasma Cutter CNC

Przecinarka plazmowa Stamos Selection S-PLASMA 85CNC S-PLASMA 85CNC Plasma Cutter CNC Przecinarka plazmowa Stamos Selection S-PLASMA 85CNC S-PLASMA 85CNC Plasma Cutter CNC SPECYFIKACJA TECHNICZNA Model S-PLASMA 85CNC Nr katalogowy 2079 Stan artykułu Nowy Znamionowe napięcie wejściowe 400

Bardziej szczegółowo

INSTYTUT MASZYN PRZEPŁYWOWYCH im. Roberta Szewalskiego POLSKIEJ AKADEMII NAUK 80-231 Gdańsk ul. J. Fiszera 14

INSTYTUT MASZYN PRZEPŁYWOWYCH im. Roberta Szewalskiego POLSKIEJ AKADEMII NAUK 80-231 Gdańsk ul. J. Fiszera 14 Gdańsk, 13.08.2015r. Dotyczy: Przetarg nieograniczony na Zakup trzech systemów sterowania do urządzeń laboratoryjnych wchodzących w skład jednego z laboratorium nowo powstałego Centrum Badawczego PAN w

Bardziej szczegółowo

Highlights 2014. www.ariana-industrie.de

Highlights 2014. www.ariana-industrie.de Highlights 2014 Walizka serwisowa Zestaw wskaźników Refraktometr ręczny Specjalne urządzenie mieszające Tłokowe urządzenie mieszające Wskaźnik poziomu cieczy Pompa Power- Vac Zimna dysza Skimer taśmowy

Bardziej szczegółowo

EKOLOGICZNY ZDROWY DOM. Ce n t ral e re ku perac yjn e I TH O. IGLOTECH / Rekuperacja

EKOLOGICZNY ZDROWY DOM. Ce n t ral e re ku perac yjn e I TH O. IGLOTECH / Rekuperacja EKOLOGICZNY ZDROWY DOM Ce n t ral e re ku perac yjn e I TH O REKUPERACJA Rekuperacja to inaczej mechaniczna wentylacja z odzyskiem ciepła. Polega na wymuszeniu obiegu powietrza oraz odzysku ciepła z powietrza

Bardziej szczegółowo

Instytut Rozrodu Zwierząt i Badań Żywności Polskiej Akademii Nauk w Olsztynie ul. Tuwima 10; 10-747 Olsztyn tel. (089) 539-31-47, fax (089) 539-31-47

Instytut Rozrodu Zwierząt i Badań Żywności Polskiej Akademii Nauk w Olsztynie ul. Tuwima 10; 10-747 Olsztyn tel. (089) 539-31-47, fax (089) 539-31-47 Instytut Rozrodu Zwierząt i Badań Żywności Polskiej Akademii Nauk w Olsztynie ul. Tuwima 10; 10-747 Olsztyn tel. (089) 539-31-47, fax (089) 539-31-47 http://www.pan.olsztyn.pl ZP-PNU/D/2011/WELCOME/4 SPECYFIKACJA

Bardziej szczegółowo

20140428-1610. Oferta Firmy 2014. www.apautomatyka.pl

20140428-1610. Oferta Firmy 2014. www.apautomatyka.pl 20140428-1610 Oferta Firmy 2014 www.apautomatyka.pl Oferta firmy AP Automatyka urządzenia do pomiaru wilgotności i temperatury Rotronic urządzenia do pomiaru stężenia CO2 Rotronic urządzenia do kontroli

Bardziej szczegółowo

PVD-COATING PRÓŻNIOWE NAPYLANIE ALUMINIUM NA DETALE Z TWORZYWA SZTUCZNEGO (METALIZACJA PRÓŻNIOWA)

PVD-COATING PRÓŻNIOWE NAPYLANIE ALUMINIUM NA DETALE Z TWORZYWA SZTUCZNEGO (METALIZACJA PRÓŻNIOWA) ISO 9001:2008, ISO/TS 16949:2002 ISO 14001:2004, PN-N-18001:2004 PVD-COATING PRÓŻNIOWE NAPYLANIE ALUMINIUM NA DETALE Z TWORZYWA SZTUCZNEGO (METALIZACJA PRÓŻNIOWA) *) PVD - PHYSICAL VAPOUR DEPOSITION OSADZANIE

Bardziej szczegółowo

Rozwiązania dla biogazowni. Pomiary przemysłowe

Rozwiązania dla biogazowni. Pomiary przemysłowe Pomiary przemysłowe wydanie luty 2013 Przedsiębiorstwo Automatyzacji i Pomiarów Introl Sp. z o.o. 40-519 Katowice, ul. Kościuszki 112 tel.: +48 32 789 00 00, fax: +48 32 789 00 10 e-mail: introl@introl.pl,

Bardziej szczegółowo

Instrukcja obsługi SPEED CONTROL. Electro-pneumatic Speed control system Elektropneumatyczny Regulator Wydajności Pompy

Instrukcja obsługi SPEED CONTROL. Electro-pneumatic Speed control system Elektropneumatyczny Regulator Wydajności Pompy SPEED CONTROL Electro-pneumatic Speed control system Elektropneumatyczny Regulator Wydajności Pompy Informacje ogólne Sterownik Warren Rupp SPEED CONTROL może być stosowany do sterowania wydajnością pomp

Bardziej szczegółowo

l.dz. 239/TZ/DW/2015 Oświęcim, dnia 17.07.2015 r. Dotyczy: zaproszenie do złożenia oferty cenowej na dostawę urządzeń laboratoryjnych dla

l.dz. 239/TZ/DW/2015 Oświęcim, dnia 17.07.2015 r. Dotyczy: zaproszenie do złożenia oferty cenowej na dostawę urządzeń laboratoryjnych dla l.dz. 239/TZ/DW/2015 Oświęcim, dnia 17.07.2015 r. Dotyczy: zaproszenie do złożenia oferty cenowej na dostawę urządzeń laboratoryjnych dla Wyposażenia Laboratorium badawczo-rozwojowego środków ochrony roślin

Bardziej szczegółowo

FRIDURIT Neutralizatory powietrza

FRIDURIT Neutralizatory powietrza FRIDURIT Neutralizatory powietrza 1 FRIDURIT Neutralizatory powietrza są w pełni zautomatyzowanymi urządzeniami, skonstruowanymi specjalnie do zastosowania bezpośrednio nad dygestorium lub jako rozwiązanie

Bardziej szczegółowo

URZĄDZENIA KONTROLNO POMIAROWE

URZĄDZENIA KONTROLNO POMIAROWE STACJE KONTROLNO-POMIAROWE PUBLICZNE ANALYT 2, 3 Z możliwością sterowania przez PC. Stacja kontrolno-pomiarowa do ciągłego pomiaru i regulacji ph i wolnego Cl (amperometrycznie) oraz pomiaru temperatury

Bardziej szczegółowo

Przetworniki ciśnienia typu MBS - informacje ogólne

Przetworniki ciśnienia typu MBS - informacje ogólne rzetworniki ciśnienia typu MBS - informacje ogólne rzetworniki ciśnienia - zasada działania Zadaniem przetworników ciśnienia jest przekształcanie wielkości mechanicznej jaką jest ciśnienie w sygnał elektryczny.

Bardziej szczegółowo

Badania wybranych nanostruktur SnO 2 w aspekcie zastosowań sensorowych

Badania wybranych nanostruktur SnO 2 w aspekcie zastosowań sensorowych Badania wybranych nanostruktur SnO 2 w aspekcie zastosowań sensorowych Monika KWOKA, Jacek SZUBER Instytut Elektroniki Politechnika Śląska Gliwice PLAN PREZENTACJI 1. Podsumowanie dotychczasowych prac:

Bardziej szczegółowo

Informacje ujęte w niniejszej ulotce mają wyłącznie charakter informacyjny. Dokładne dane oferowanych urządzeń powinny zostać potwierdzone i ustalone

Informacje ujęte w niniejszej ulotce mają wyłącznie charakter informacyjny. Dokładne dane oferowanych urządzeń powinny zostać potwierdzone i ustalone Informacje ujęte w niniejszej ulotce mają wyłącznie charakter informacyjny. Dokładne dane oferowanych urządzeń powinny zostać potwierdzone i ustalone z odpowiednimi osobami SECO/WARWICK EUROPE S.A. Niektóre

Bardziej szczegółowo

(12) TŁUMACZENIE PATENTU EUROPEJSKIEGO (19) PL (11) PL/EP 2526977. (96) Data i numer zgłoszenia patentu europejskiego: 31.01.2012 12153261.

(12) TŁUMACZENIE PATENTU EUROPEJSKIEGO (19) PL (11) PL/EP 2526977. (96) Data i numer zgłoszenia patentu europejskiego: 31.01.2012 12153261. RZECZPOSPOLITA POLSKA (12) TŁUMACZENIE PATENTU EUROPEJSKIEGO (19) PL (11) PL/EP 2526977 Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (96) Data i numer zgłoszenia patentu europejskiego: 31.01.2012 12153261.8

Bardziej szczegółowo

PROFESJONALNY EKSPRES DO KAWY BZ07 250/425/375 250/425/375

PROFESJONALNY EKSPRES DO KAWY BZ07 250/425/375 250/425/375 BZ07 BZ07 PM 1 grupowy BZ07 DE 1 grupowy pompa wibracyjna pompa wibracyjna ze zbiornikiem na wodę ze zbiornikiem na wodę 250/425/375 250/425/375 Model BZ07 dzięki swojej budowie jest praktyczny i ekonomiczny,

Bardziej szczegółowo

ODPOWIEDŹ NA PYTANIE NR

ODPOWIEDŹ NA PYTANIE NR Nr sprawy: 66/D/PN/2011 WCB/107/2012 Wrocław, dnia 17.01.2012r. Do wszystkich wykonawców Dotyczy: Przetargu nieograniczonego na dostawę wraz z montażem, uruchomieniem i bezpłatnym instruktażem personelu

Bardziej szczegółowo

Opis przedmiotu zamówienia wraz z wymaganiami technicznymi i zestawieniem parametrów

Opis przedmiotu zamówienia wraz z wymaganiami technicznymi i zestawieniem parametrów Załącznik nr 1 do SIWZ Nazwa i adres Wykonawcy Opis przedmiotu zamówienia wraz z wymaganiami technicznymi i zestawieniem parametrów Przedmiot zamówienia; automatyczny system do diagnostyki molekularnej:

Bardziej szczegółowo

Urządzenie do ręcznego lub automatycznego spawania mikroplazmą

Urządzenie do ręcznego lub automatycznego spawania mikroplazmą Urządzenie do ręcznego lub automatycznego spawania mikroplazmą Termin PLAZMA jest zazwyczaj używany do określenia stanu gazu o temp. powyżej 3000 C i ciśnieniu atmosferycznym. Na skali temperaturowej,

Bardziej szczegółowo

Zestaw Solarny SFCY-01-300-40

Zestaw Solarny SFCY-01-300-40 Zestaw Solarny SFCY-01-300-40 Zestaw solarny do ogrzewania wody c.w.u SFCY-01-300-40, przeznaczony jest do użytkowania w domach jednorodzinnych i pozwala na całoroczne podgrzewanie wody użytkowej dla rodziny

Bardziej szczegółowo

... /pieczątka nagłówkowa/

... /pieczątka nagłówkowa/ Załącznik nr 4 OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA PN/SM/R/05/07 Zamawiający: Samodzielny Publiczny Zakład Opieki Zdrowotnej Szpital im. dr J. Dietla w Krynicy-Zdroju. Przedmiot zamówienia: Sprzedaż i dostawa specjalistycznego

Bardziej szczegółowo

Pompa ciepła do c.w.u. Supraeco W. Nowa pompa ciepła Supraeco W do ciepłej wody użytkowej HP 270. Junkers

Pompa ciepła do c.w.u. Supraeco W. Nowa pompa ciepła Supraeco W do ciepłej wody użytkowej HP 270. Junkers Nowa pompa ciepła Supraeco W do ciepłej wody użytkowej HP 270 1 Junkers Informacje ogólne: podgrzewacz pojemnościowy 270 litrów temperatury pracy: +5 C/+35 C COP = 3,5* maksymalna moc grzewcza PC: 2 kw

Bardziej szczegółowo

Komputer będzie wykorzystywany na potrzeby aplikacji: biurowych, obliczeniowych, multimedialnych.

Komputer będzie wykorzystywany na potrzeby aplikacji: biurowych, obliczeniowych, multimedialnych. 1. Komputer stacjonarny: a) typ 1 (36szt.) Typ Zastosowanie Stacjonarny. Komputer będzie wykorzystywany na potrzeby aplikacji: biurowych, obliczeniowych, multimedialnych. Wydajność Komputer powinien osiągać

Bardziej szczegółowo

NEUTRALIZATOR ŚCIEKÓW FRIDURIT C100

NEUTRALIZATOR ŚCIEKÓW FRIDURIT C100 NEUTRALIZATOR ŚCIEKÓW FRIDURIT C100 System rozwiązań technologicznych dla neutralizacji kwaśnych i alkalicznych ścieków. Neutralizacja oparów i ścieków wytwarzanych w procesach badawczych w laboratoriach

Bardziej szczegółowo

DM700I, DM700XI 10 lat gwarancji

DM700I, DM700XI 10 lat gwarancji Sygnał wejściowy 4...20mA, 2-przew., pętla prądowa Czytelny 4-cyfrowy wyświetlacz LED, czerwony Predefiniowana linearyzacja lub użytkownika do 20 pkt. Wysoka dokładność i stabilność długoterminowa Inteligentna

Bardziej szczegółowo

Technologia produkcji paneli fotowoltaicznych

Technologia produkcji paneli fotowoltaicznych partner modułów Technologia produkcji paneli Polsko-Niemieckie Forum Energetyki Słonecznej 07.06.2013r GE partner modułów Fotowoltaika zasada działania GE partner modułów GE partner modułów Rodzaje ogniw

Bardziej szczegółowo

Model DIVAL 500 1 500 1½ JEDNOSTOPNIOWE SAMOCZYNNE REDUKTORY NISKIEGO ŚREDNIEGO WYSOKIEGO CIŚNIENIA Z ZAWIERADŁEM RÓWNOWAŻONYM

Model DIVAL 500 1 500 1½ JEDNOSTOPNIOWE SAMOCZYNNE REDUKTORY NISKIEGO ŚREDNIEGO WYSOKIEGO CIŚNIENIA Z ZAWIERADŁEM RÓWNOWAŻONYM Model DIVAL 500 1 500 1½ JEDNOSTOPNIOWE SAMOCZYNNE REDUKTORY NISKIEGO ŚREDNIEGO WYSOKIEGO CIŚNIENIA Z ZAWIERADŁEM RÓWNOWAŻONYM 1 Model DIVAL 500 1 500 1½ DIVAL 500 1 Z ZAWOREM SZYBKOZAMYKAJĄCYM LE DIVAL

Bardziej szczegółowo

20130107-1150. biuro@apautomatyka.pl www.apautomatyka.pl. Oferta Firmy 2013

20130107-1150. biuro@apautomatyka.pl www.apautomatyka.pl. Oferta Firmy 2013 20130107-1150 Email: WWW: biuro@apautomatyka.pl www.apautomatyka.pl Oferta Firmy 2013 Oferta firmy AP Automatyka urządzenia do pomiaru wilgotności i temperatury Rotronic urządzenia do pomiaru stężenia

Bardziej szczegółowo

PODSTAWY CHROMATOGRAFII GAZOWEJ

PODSTAWY CHROMATOGRAFII GAZOWEJ Politechnika Gdańska Wydział Chemiczny Katedra Chemii Analitycznej ĆWICZENIE LABORATORYJNE PODSTAWY CHROMATOGRAFII GAZOWEJ Opracowała: dr Lidia Wolska ZAKRES WYMAGANEGO MATERIAŁU: 1. Chromatografia: definicja,

Bardziej szczegółowo

SPECYFIKACJA TECHNICZNA. Akademia Sztuki w Szczecinie 70-562 Szczecin, pl. Orła Białego 2

SPECYFIKACJA TECHNICZNA. Akademia Sztuki w Szczecinie 70-562 Szczecin, pl. Orła Białego 2 1 Załącznik nr 1 SPECYFIKACJA TECHNICZNA Dostawa i montaż elektromagnetycznego systemu zabezpieczającego zbiory przed kradzieżą w budynku Akademii Sztuki w Szczecinie przy placu Orła Białego 2 Adres inwestycji:

Bardziej szczegółowo

załącznik nr 2 do SIWZ nr SPZOZ/PN/15/2013 - formularz cenowy przedmiotu zamówienia Zadanie 2 Zestaw do badania układu równowagi i narządu słuchu

załącznik nr 2 do SIWZ nr SPZOZ/PN/15/2013 - formularz cenowy przedmiotu zamówienia Zadanie 2 Zestaw do badania układu równowagi i narządu słuchu załącznik nr 2 do SIWZ nr SPZOZ/PN/15/2013 - formularz cenowy przedmiotu zamówienia Zadanie 2 Zestaw do badania układu równowagi i narządu słuchu Lp Nazwa jm Ilość Cena jednost netto 1 Zestaw do badania

Bardziej szczegółowo

CENTRALE WENTYLACYJNE Z ODZYSKIEM CIEPŁA

CENTRALE WENTYLACYJNE Z ODZYSKIEM CIEPŁA CENTRALE WENTYLACYJNE Z ODZYSKIEM CIEPŁA Centrale wentylacyjne ecov mogą być integralną częścią systemów MULTI V zapewniając czyste i zdrowe powietrze w klimatyzowanych pomieszczeniach. 136 ecov 144 ecov

Bardziej szczegółowo

EKSPRESY I MŁYNKI DO KAWY

EKSPRESY I MŁYNKI DO KAWY EKSPRESY I MŁYNKI DO KAWY - 68 - RUBY Ruby Semi półautomatyczny Ruby Electronic Ruby Pro Semi półautomatyczny Ruby Pro Electronic Wymiary zew. 310 x 510 x 370 310 x 510 x 370 430 x 510 x 370 430 x 510

Bardziej szczegółowo

Systemy dystrybucji powietrza

Systemy dystrybucji powietrza Systemy dystrybucji powietrza Nawiewniki z filtrem RA DA RA DS RA - DFA Ogólnie Nawiewniki z filtrem są przeznaczone do montażu w pomieszczeniach czystych. W zależności od przeznaczenia i krotności wymian

Bardziej szczegółowo

S Y S T E M Y S P A L A N I A PALNIKI GAZOWE

S Y S T E M Y S P A L A N I A PALNIKI GAZOWE S Y S T E M Y S P A L A N I A PALNIKI GAZOWE Zaawansowana technologia Wysoka wydajność Palnik gazowy jest wyposażony w elektroniczny system zapłonu i rurę płomieniową, która jest wytwarzana ze specjalnego

Bardziej szczegółowo

E K O N O M I C Z N E R O Z W I Ą Z A N I E. W Y D A J N Y I N I E Z AW O D N Y.

E K O N O M I C Z N E R O Z W I Ą Z A N I E. W Y D A J N Y I N I E Z AW O D N Y. FALCON. E K O N O M I C Z N E R O Z W I Ą Z A N I E. W Y D A J N Y I N I E Z AW O D N Y. FALCON. Optymalny stosunek kosztów do korzyści gwarantujący sukces. FALCON może być używany do cięcia plazmowego,

Bardziej szczegółowo

Klimatyzator naścienny ecorelax. dc inverter

Klimatyzator naścienny ecorelax. dc inverter Klimatyzator naścienny ecorelax dc inverter DC Inverter to nowa linia klimatyzatorów LENNOX znacznie redukujących koszty eksploatacji. Płynna regulacja wydajności powoduje, że klimatyzatory LENNOX potrafią

Bardziej szczegółowo

SPECYFIKACJA TECHNICZNA

SPECYFIKACJA TECHNICZNA W O J E W Ó D Z K I I N S P E K T O R A T O C H R O N Y Ś R O D O W I S K A w Katowicach SPECYFIKACJA TECHNICZNA Załącznik Nr 1 Znak sprawy: AT.272.9.2013 Tabela 1. Wymagania ogólne Lp. 1. Opis zadania

Bardziej szczegółowo

Dokumentacja techniczna central wentylacyjnych AirPack 300 oraz AirPack 300V

Dokumentacja techniczna central wentylacyjnych AirPack 300 oraz AirPack 300V Dokumentacja techniczna central wentylacyjnych AirPack 300 oraz AirPack 300V Spis treści Dokumentacja techniczna 1. Opis produktu... 4 2. Tabliczka znamionowa... 4 3. Recycling i utylizacja odpadów...

Bardziej szczegółowo

ZAPYTANIE OFERTOWE na dostawę Zespołu urządzeń do elektro - polerowania i anodowania tytanu (1 kpl.)

ZAPYTANIE OFERTOWE na dostawę Zespołu urządzeń do elektro - polerowania i anodowania tytanu (1 kpl.) Dane identyfikujące Zamawiającego: Przedsiębiorstwo Produkcyjno-Usługowo-Handlowe MEDGAL Józef Borowski ul. Wąska 59, 15-122 Białystok NIP: 542 010 34 71, REGON:050211407 tel: (85) 6632-344, 6632-898,

Bardziej szczegółowo

Nazwa parametru/ funkcji/ warunku. 3 zakres ustawianej temperatury pracy od -10 C (temperatura osiągalna bez doświetlania) do przynajmniej + 60 C

Nazwa parametru/ funkcji/ warunku. 3 zakres ustawianej temperatury pracy od -10 C (temperatura osiągalna bez doświetlania) do przynajmniej + 60 C Załącznik Nr 1 pkt. 1 do SIWZ I. OPIS PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA CZĘŚĆ 1 Przedmiotem zamówienia jest dostawa fabrycznie nowych szaf suszarniczych z chłodzeniem (typu inkubator) 2 sztuki CPV - 38.00.00.00-5

Bardziej szczegółowo

Ultradźwiękowy miernik poziomu

Ultradźwiękowy miernik poziomu j Rodzaje IMP Opis Pulsar IMP jest ultradźwiękowym, bezkontaktowym miernikiem poziomu. Kompaktowa konstrukcja, specjalnie zaprojektowana dla IMP technologia cyfrowej obróbki echa. Programowanie ze zintegrowanej

Bardziej szczegółowo

VIESMANN VITOCROSSAL 300 Gazowy kocioł kondensacyjny 26 do 60 kw

VIESMANN VITOCROSSAL 300 Gazowy kocioł kondensacyjny 26 do 60 kw VIESMANN VITOCROSSAL 300 Gazowy kocioł kondensacyjny 26 do 60 kw Dane techniczne Numery katalog. i ceny: patrz cennik VITOCROSSAL 300 Typ CU3A Gazowy kocioł kondensacyjny na gaz ziemny i płynny (26 i 35

Bardziej szczegółowo

Przepustnica z siłownikiem elektrycznym VFY-WA

Przepustnica z siłownikiem elektrycznym VFY-WA Przepustnica z siłownikiem elektrycznym VFY-WA Opis Wskaźnik położenia Ogranicznik momentu obrotowego Urządzenie fabrycznie kompletne i gotowe do instalacji Cechy zaworu: Zamocowana na wielowypuście kuliście

Bardziej szczegółowo

ESP-150. ZmEchaniZowany, wielogazowy SyStEm PlaZmowy.

ESP-150. ZmEchaniZowany, wielogazowy SyStEm PlaZmowy. ESP-150. Zmechanizowany, wielogazowy system plazmowy. Ekonomiczny i wysokowydajny. ESP-150. Różnorodne kombinacje gazów dla ekonomicznego, wysokowydajnego cięcia. System ESP-150 jest łatwy w obsłudze i

Bardziej szczegółowo

5-osiowe Centrum Obróbkowe TBI U5

5-osiowe Centrum Obróbkowe TBI U5 -osiowe Centrum Obróbkowe TBI U Charakterystyka Korpus obrabiarki wykonany z żeliwa Stabilizacja temperaturowa wrzeciona Liniowe prowadnice toczne we wszystkich osiach Wszystkie elementy konstrukcyjne

Bardziej szczegółowo

AUREX LPG. Rozwiązania systemowe do paliw llotniczych. www.aurexlpg.com.pl

AUREX LPG. Rozwiązania systemowe do paliw llotniczych. www.aurexlpg.com.pl AUREX LPG Sp. z o.o. Rozwiązania systemowe do paliw llotniczych Agregaty do tankowania paliw lotniczych Stanowiska do załadunku i rozładunku Podwójne stanowiska do załadunku Kontakt: Aurex LPG Sp. z o.o.

Bardziej szczegółowo

SPECYFIKACJA TECHNICZNA

SPECYFIKACJA TECHNICZNA W O J E W Ó D Z K I I N S P E K T O R A T O C H R O N Y Ś R O D O W I S K A w Katowicach SPECYFIKACJA TECHNICZNA Załącznik Nr 1 Znak sprawy: AT.272.18.2012 Tabela 1. Wymagania ogólne Lp. Opis Wymagania

Bardziej szczegółowo

Pytania i odpowiedzi

Pytania i odpowiedzi Znak sprawy: DZP 380 6/2013 Pytania i odpowiedzi dotyczące postępowania o udzielenie zamówienia publicznego na dostawę odczynników, krwi kontrolnej oraz niezbędnych akcesoriów do wykonania morfologii 5-DIFF

Bardziej szczegółowo

ZAPYTANIE OFERTOWE PBS 02/2015

ZAPYTANIE OFERTOWE PBS 02/2015 Poznań, dnia 12.05.2015r ZAPYTANIE OFERTOWE PBS 02/2015 W związku z realizacją projektu badawczego Badania i opracowanie optymalnego typoszeregu wysokoefektywnych powietrznych pomp ciepła dużych mocy wraz

Bardziej szczegółowo

Załącznik nr 1. Specyfikacja techniczna dla dostawy 4 szt. automatycznych analizatorów stężenia pyłu zawieszonego PM10 w powietrzu atmosferycznym

Załącznik nr 1. Specyfikacja techniczna dla dostawy 4 szt. automatycznych analizatorów stężenia pyłu zawieszonego PM10 w powietrzu atmosferycznym Załącznik nr 1 Specyfikacja techniczna dla dostawy 4 szt. automatycznych analizatorów stężenia pyłu zawieszonego PM10 w powietrzu atmosferycznym Tabela 1. Wymagania ogólne Lp. 1. Opis zadania 2. Dokumentacja

Bardziej szczegółowo

Wpływ defektów punktowych i liniowych na własności węglika krzemu SiC

Wpływ defektów punktowych i liniowych na własności węglika krzemu SiC Wpływ defektów punktowych i liniowych na własności węglika krzemu SiC J. Łażewski, M. Sternik, P.T. Jochym, P. Piekarz politypy węglika krzemu SiC >250 politypów, najbardziej stabilne: 3C, 2H, 4H i 6H

Bardziej szczegółowo

MIASTO ŁAŃCUT ul. Plac Sobieskiego 18 Łańcut, dnia 19 listopada 2011 37-100 ŁAŃCUT

MIASTO ŁAŃCUT ul. Plac Sobieskiego 18 Łańcut, dnia 19 listopada 2011 37-100 ŁAŃCUT MIASTO ŁAŃCUT ul. Plac Sobieskiego 18 Łańcut, dnia 19 listopada 2011 37-100 ŁAŃCUT GK. 271.19.2012 Dotyczy: Postępowanie o udzielenie zamówienia publicznego na Doposażenie szkól w sprzęt oraz pomoce dydaktyczne:

Bardziej szczegółowo