INFORMACJA. Warszawa, dn

Transkrypt

1 Warszawa, dn Dotyczy: postępowania prowadzonego w trybie przetargu nieograniczonego na dostawę zintegrowanego urzadzenia zawierającego tester nanoindentacji instrumentalnej, tester mikroindentacji instrumentalnej oraz mikroskop sił atomowych (AFM) z modułem pomiaru siły bocznej mikroskopu AFM. - nr sprawy ZP/PN/41/2008 INFORMACJA Uprzejmie informujemy, Ŝe w dniu do Zamawiającego wpłynęło pismo od jednego z oferentów w sprawie prowadzonego postępowania o numerze ZP/PN/41/2008. Zamawiający na podstawie art. 38 ust.2 ustawy z dnia 29 stycznia 2004 r.- Prawo zamówień publicznych (Dz.U. z 2006 r. Nr 164 poz ze zmianami) udziela odpowiedzi na zadane pytania: Pytanie 1: Jakiego rodzaje materiały będą badane na systemie stanowiącym przedmiot zamówienia? Prosimy o podanie orientacyjnych materiałów, ich twardości, a w przypadku powłok lub filmów takŝe ich grubości Rodzaj badanych materiałów będzie zaleŝał od projektów badawczych realizowanych w Instytucie, stąd na obecnym etapie trudno określić wszystkie rodzaje tych materiałów Zajmujemy się m. in. badaniem metali, stopów z pamięcią kształtu, ceramiki, biomateriałów, warstw gradientowych, warstw implantowanych. Zatem Zamawiający oczekuje, Ŝe urządzenie będzie dawało moŝliwość badań w moŝliwie szerokim zakresie parametrów. Pytanie 2: Punkt 4. Stół antywibracyjny. Czy wymóg stołu antywibracyjnego dotyczy stołu aktywnego? Systemy takie mają najlepsze parametry tłumienia drgań i gwarantują najwyŝszą rozdzielczość systemu, w związku z czym są niezbędne w badaniach w skali nano. Inne stoły antywibracyjne, jak na przykład systemy pasywne bądź pneumatyczne nie pozwalają na eliminację wpływu otoczenia w stopniu pozwalającym na uzyskanie maksymalnych rozdzielczości. Stół antywibracyjny nie jest głównym przedmiotem zamówienia, stąd parametry stołu antywibracyjnego nie są określone w SIWZ. Jakość stołu ma oczywiście wpływ na deklarowaną przez oferenta dokładność pomiaru, stąd w punktach SIWZ odnoszących się do dokładności pomiaru w pośrednio oceniana jest takŝe jakość stołu. Pytanie 3: Zamawiający cytuje normę ISO w punkcie dotyczącym czasu pomiaru, jednak opisane skale badań są niezgodne z tą normą. Pragniemy zwrócić uwagę, iŝ norma ta dokładnie definiuje skale nano, mikro i makro w badaniach właściwości mechanicznych. a. Czy Zamawiający zgadza się z definicją skali mikro zgodną z normą ISO 14577, określoną poprzez maksymalną stosowaną siłę równą 2 N oraz głębokości indentów większe od 0,2 µm? b. Czy Zamawiający zgadza się z definicją skali nano zgodną z normą ISO 14577, określoną poprzez maksymalną głębokość indentu równą 200 nm? Potwierdzeniem spełnienia norm przez dane urządzenie jest odpowiedni certyfikat ewentualnie test urządzenia, a nie opinia zamawiającego. Fakt spełniania norm jest oceniany przez zamawiającego w p. 27 SIWZ. Zamawiający ma wraŝenie, Ŝe przypominając wielokrotnie normę oferent nie bierze pod uwagę specyfiki badań naukowych, gdzie spełnienie wymagań normowych nie jest jedynym kryterium przydatności urządzenia. Zamawiający nie rezygnuje ze spełniania norm, ale jednocześnie istotnym branym pod uwagę kryterium jest moŝliwie największa uniwersalność urządzenia, które będzie

2 wykorzystywane w długim okresie czasu, w którym wielokrotnie mogą być zmieniane aktualne normy oraz mogą powstawać nowe. Zamawiający ma prawo prowadzić badania takŝe w zakresach, które nie są objęte normami oraz znajdować nowe interpretacje wyników nie ujęte w aktualnych normach. Przykłady takich badań moŝna znaleźć w literaturze naukowej. Pytanie 4: Punkt 5. Zestaw wgłębników i końcówek. a. Wgłębniki i końcówki do tego typu urządzeń są róŝne dla róŝnych producentów i np. róŝnią się promieniami zaokrąglenia. Prosimy o usunięcie dokładnych wartości promienia zaokrąglenia. b. Kuliste R>1µm um dla skali nano są nieuzasadnione ze względu na definicję skali nano i obszaru, w którym, w tej skali, wykonuje się pomiary. Prosimy o usunięcie tych indenterów z wymaganych parametrów. c. Ze względu na duŝą odporność indenterów na zuŝycie oraz na fakt, iŝ przyjęty standard w zestawie startowym to 1-2 indentery, proponujemy ograniczenie ich ilości: Proponowana zmiana w nano na: Berkovich, cube-corner, sphero-conical. Proponowana zmiana w mikro na: Berkovich, sphero-conical. Końcówki wymienione w SIWZ są niezbędne dla zachowania moŝliwie uniwersalnego charakteru badań naukowych wykonywanych przy pomocy zamawianego urządzenia w długim okresie czasu. Zamawiający nie wyraŝa zgody na zmiany SIWZ w tym punkcie. Rzeczywiste promienie zaokrąglenia mogą róŝnić się od wymaganych o maksimum kilka procent i powinny mieścić się w tolerancji wykonania wysokiej klasy przyrządów. W literaturze naukowej moŝna znaleźć przykłady indentacji w skali nano przy pomocy wgłębników, których promień jest większy niŝ 1 mikron. Oferent moŝe zamawiać odpowiednie końcówki u niezaleŝnego wykonawcy. Propozycja oferenta prowadzi do znacznego ograniczenia zakresu badań. Pytanie 5: Punkt 11. Parametry pomiaru w skali nano: a. Ze względu na wspomnianą wcześniej definicję skali nano zgodną z normą ISO prosimy o zmianę wymogu dotyczącego maksymalnego zagłębienia na 2 mikrometry, co i tak stanowi dziesięciokrotności wartości z normy. W przypadku dodatkowych punktów proponujemy zmianę przedziałów na: 2 punkty za 2 µm, 3 punkty za od 2 do 4 µm i 4 punkty za co najmniej 5 µm. Pragniemy zwrócić uwagę iŝ 10 mn indent w próbce testowej kwarcu oznacza głębokość 300 nm, a w przypadku badań cienkich filmów maksymalna dopuszczalna głębokość indentu to 10% jego grubości. W związku z tym stosowanie tak wysokich wartości zagłębień w skali nano jest nieuzasadnione, niezgodne z normą oraz stanowi ograniczenie konkurencji, poniewaŝ preferuje wykonawców, którzy nie przestrzegają norm oraz definicji skali nano. Ponadto większe zakresy powodują zmniejszenie rzeczywistej rozdzielczości. b. Czy Zamawiający zgadza się na uzupełnienie opisu dryf termiczny o informację mierzony bez elementów pośrednich? Stosowane przez niektórych producentów elementy pośrednie zapewniają mechaniczne testowanie odległości między próbką a czujnikiem. Niestety elementy pośrednie nie mogą być wykorzystywane do wszystkich rodzajów próbek tak więc podawanie dryfu termicznego mierzonego przy jego wykorzystaniu nie mówi o rzeczywistej wartości dryfu termicznego urządzenia, a jedynie o pewnej wartości moŝliwej do uzyskania w określonych warunkach. c. Biorąc pod uwagę wspomnianą definicję skali nano zwracamy się z prośbą o wprowadzenie maksymalnej siły dla skali nano na poziomie 10 mn. Taka siła w zupełności wystarcza do wykonywania indentów poniŝej 200 nm. WyŜsze wartości siły powodują jedynie zmniejszenie rozdzielczości. Dodatkowe punkty dla wyŝszych wartości siły w skali nano powodują, iŝ premiowani są producenci, którzy ignorując normy oferują urządzenia pośrednie między mikro a nano.

3 d. Czy Zamawiający zgadza się na wprowadzenie wymaganego parametru minimalnej siły kontaktu w skali nano? Parametr ma ogromne znaczenie poniewaŝ decyduje o błędzie związanym ze wstępnym kontaktem. Proponujemy wprowadzenie wymogu minimalnej siły kontaktu <200 nn lub połączenie z parametrem szumy pomiaru siły dp i opisanie: szumy pomiaru siły dp lub minimalna siła kontaktu (podać parametry wyŝszy, czyli słabszy). pkt. a., pkt. c. - Problem spełnienia norm przez zamawiane urządzenie jest uwzględniony w punkcie 27 SIWZ. Zamawiający nie preferuje dostawców, którzy nie spełniają norm, gdyŝ za spełnienie norm przyznawane są punkty. Wymagane przez nas parametry w skali nano są niezbędne dla zachowania uniwersalności urządzenia (moŝliwość pomiaru róŝnych materiałów przy zastosowaniu szerokiej gamy wgłębników, co podkreślono w poprzednim punkcie odpowiedzi). Zamawiający chce mieć moŝliwość na przykład indentacji twardych materiałów na głębokość 200nm przy pomocy wgłębników o duŝym promieniu zaokrąglenia, a wtedy siła moŝe przekroczyć 10mN. Nie wyraŝamy zgody na proponowane zmiany. pkt. b. - Podana specyfikacja parametrów technicznych jest wystarczająco szczegółowa. Proponowana przez Oferenta zmiana wymagałyby szczegółowej analizy konstrukcji oferowanych urządzeń i uzgodnienia definicji wielu elementów konstrukcyjnych (np. definicji elementów pośrednich wspomnianych w tekście Oferenta). Wykracza to poza zakres procedury przetargowej. Nie wyraŝamy zgody na proponowane zmiany. Pytanie 6: Czy Zamawiający poprzez poziom szumów zagłębienia dh (dla skali nano i mikro) rozumie parametr określany jako Displacement Noise Floor (opisany m.in. w Nanoindentation Anthony C. Fisher- Cripps, Mechanical Engineering Series, Springer), a który oznacza maksymalny łączny poziom szumów wpływający na pomiar przemieszczenia? Parametr ten wskazuje takŝe na minimalną uŝyteczną głębokość. Pragniemy sprecyzować definicję tego parametru, poniewaŝ niejednokrotnie spotkaliśmy się z określenie poziomu szumów jako cyfrowej rozdzielczości. Noise floor jest w tym wypadku bardziej wymiernym wyznacznikiem dokładności. Szumy są definiowane w metrologii jako zakłócenie addytywne, zmienne, którego modelem jest zwykle proces stochastyczny, występujące w kaŝdym obiekcie elektrycznym i torze pomiarowym. Szumy i rozdzielczość cyfrowa to według zamawiającego dwa róŝne pojęcia. Pytanie 7: Czy Zamawiający poprzez poziom szumów siły dp (dla skali nano i mikro) rozumie parametr określany jako Force Noise Floor (opisany m.in. w Nanoindentation Anthony C. Fisher-Cripps, Mechanical Engineering Series, Springer), a który oznacza maksymalny łączny poziom szumów wpływający na pomiar siły? Parametr ten wskazuje takŝe na minimalną siłę kontaktu, która ma decydujące znaczenie przy wyznaczaniu punktu styku indentera, w szczególności w skali nano. Pragniemy sprecyzować definicję tego parametru, poniewaŝ niejednokrotnie spotkaliśmy się z określenie poziomu szumów jako cyfrowej rozdzielczości. Noise floor jest w tym wypadku bardziej wymiernym wyznacznikiem dokładności. Patrz Odpowiedź dla Pytania 6. Pytanie 8: Czy Zamawiający zgadza się na umieszczenie w SIWZ wymogu udowodnienia przez wykonawcę co najmniej deklarowanych poziomów szumów podczas testu akceptacyjnego? Test taki jest stosowany

4 przez większość producentów i gwarantuje Zamawiającemu zgodność parametrów deklarowanych przez producenta z parametrami moŝliwymi do uzyskania w laboratorium Zamawiającego Wszystkie parametry deklarowane przez producenta będą weryfikowane zgodnie z moŝliwościami technicznymi zamawiającego nie tylko podczas testów przy odbiorze urządzenia ale takŝe przez cały okres gwarancji udzielonej na zamawiane urządzenie i w okresie pogwarancyjnym. Zamawiający zastrzega sobie prawo do sprawdzenia wiarygodności podanych przez Oferenta parametrów technicznych we wszystkich moŝliwych źródłach Pytanie 9: Punkt 12. Opcja scratch dla skali nano. Z powodu braku jakiegokolwiek opisu opcji scratch proponujemy wprowadzenie minimalnych jej parametrów, aby umoŝliwić takiemu urządzeniu minimalną funkcjonalności i nie dopuszczać moŝliwości zaoferowania urządzeń prototypowych. a. Czy Zamawiający zgadza się na wprowadzenie wymogu posiadania przez opcję scratch dla skali nano poziomu szumów sił bocznych (lateral force noise floor) na poziomie nie wyŝszym niŝ 5 µn? b. Czy Zamawiający zgadza się na wprowadzenie wymogu posiadania przez opcję scratch dla skali nano poziomu szumów bocznych przemieszczeń (lateral displacement noise floor) na poziomie nie wyŝszym niŝ 5 nm? c. Czy Zamawiający zgadza się na wprowadzenie wymogu posiadania przez opcję scratch dla skali nano maksymalnej siły bocznej nie mniejszej niŝ 2 mn? d. Czy Zamawiający zgadza się na wprowadzenie wymogu posiadania przez opcję scratch dla skali nano moŝliwości pracy w dwóch trybach: ze stałym zagłębieniem lub ze stałą siłą (Normal Load Control, Normal Displacement Control)? W planowanych pracach badawczych przewidujemy wykorzystanie przede wszystkim testu mikro i nano indentacji zatem parametry tych testów zostały szczegółowo określone. Opcja scratch testu nie jest wymaganiem koniecznym w naszej specyfikacji, a za parametry scratch testu przyznajemy niewielką ilość punktów. Przyznanie większej liczby punktów mogłoby (przy bardzo dobrych parametrach scratch testu) preferować urządzenia o niezadowalających nas parametrach testu indentacji, które z naszego punktu widzenia są najistotniejsze. Nie wyraŝamy zgody na proponowane zmiany. Pytanie 10: Punkt 13. Indentacja sinusoidalna. 20 Hz jest wartością bardzo niską i ograniczającą moŝliwości badawcze. Czy Zamawiający zgadza się wprowadzić wymóg moŝliwości wykonywania indentacji cyklicznej (sinusoidalnej) z oscylacjami do 300Hz w skali nano lub chociaŝ przyznania dodatkowych punktów za taką moŝliwość? Częstotliwość 20 Hz jest wystarczająca z punktu widzenia zamawiającego. Zamawiający nie zgadza się na proponowane zmiany. Pytanie 11: Punkt 14. Parametry pomiaru w skali mikro. a. Czy Zamawiający zgadza się na zmniejszenie parametrów maksymalnego zagłębienie? Wartość maksymalna nie powinna przekraczać 50 µm, poniewaŝ większe wartości nie są wykorzystywane. Ponadto im większa wartość maksymalna tym większy poziom szumów, który nie moŝe być zbyt duŝy, poniewaŝ minimalna głębokość indentu w skali mikro jest określona normą ISO na 200 nm. W związku z tym większe wartości tego parametru nie powinny być dodatkowo punktowane.

5 b. Czy Zamawiający zgadza się na wprowadzenie wartości maksymalnej siły dla skali Mikro zgodnie z normą ISO 14577, czyli 2 N? Podobnie jak w przypadku maksymalnego zagłębienia uwaŝamy iŝ zwiększanie zakresu powoduje wzrost poziomu szumów, a więc znacznie ogranicza dokładność urządzenia. c. Co oznacza maksymalna siła Pmax i dlaczego jest opisana osobno, a nie w połączeniu z maksymalną siłą P? pkt. a), b) Problem spełnienia norm przez zamawiane urządzenie jest uwzględniony w punkcie 27 SIWZ. Wymagane przez nas parametry w skali mikro są niezbędne dla zachowania uniwersalności urządzenia (moŝliwość pomiaru róŝnych materiałów róŝnymi wgłębnikami). Na przykład otrzymanie wysokich wartości odkształceń przy indentacji wgłębnikiem kulistym o duŝym promieniu np. 0.5mm wymaga zastosowania duŝej siły i duŝego zagłębienia. Nie wyraŝamy zgody na proponowane zmiany. pkt. c) Siła Pmax oznacza maksymalną siłę, przy której urządzenie moŝe być wykorzystywane jak klasyczny twardościomierz (wyznaczanie twardości przez pomiar trwałego odcisku). Ta moŝliwość zwiększa to uniwersalność urządzenia. Nie wyraŝamy zgody na proponowane zmiany. Pytanie 12: Punkt 16. Opcja scratch dla mikro. Z powodu braku jakiegokolwiek opisu opcji scratch proponujemy wprowadzenie minimalnych jej parametrów, aby umoŝliwić takiemu urządzeniu minimalną funkcjonalności i nie dopuszczać moŝliwości zaoferowania urządzeń prototypowych. a. Czy Zamawiający zgadza się na wprowadzenie wymogu posiadania przez opcję scratch dla skali mikro poziomu szumów sił bocznych (lateral force noise floor) na poziomie nie wyŝszym niŝ 50 µn? b. Czy Zamawiający zgadza się na wprowadzenie wymogu posiadania przez opcję scratch dla skali mikro poziomu szumów bocznych przemieszczeń (lateral displacement noise floor) na poziomie nie wyŝszy niŝ 5 nm? c. Czy Zamawiający zgadza się na wprowadzenie wymogu posiadania przez opcję scratch dla skali mikro maksymalnej siły bocznej nie mniejszej niŝ 5 N? d. Czy Zamawiający zgadza się na wprowadzenie wymogu posiadania przez opcję scratch dla skali mikro moŝliwości pracy we wszystkich 3 kierunkach lub chociaŝ dodatkowego punktowania takiej moŝliwości? Patrz Odpowiedź dla Pytania 9. Pytanie 13: Punkt 17. Scratch test ze stałą siła normalną. Czy Zamawiający zgadza się na rozszerzenie opisu wymogu posiadania przez opcję scratch dla skali mikro moŝliwości pracy w dwóch trybach: ze stałym zagłębieniem lub ze stałą siłą (Normal Load Control, Normal Displacement Control)? Patrz Odpowiedź dla Pytania 9. Pytanie 14: Punkt 20. Pozycjonowanie. a. Czy rozdzielczość przesuwu dx i dy oznacza minimalny krok stolika pomiarowego? b. Czy Zamawiający w celu zapewnienia maksymalnej rozdzielczości wymaga zastosowania enkodera liniowego, czy mogą być stosowane takŝe inne typy enkoderów bazujące na określaniu pozycji kątowej i tłumaczeniu tego na ruch liniowy? c. Czy Zamawiający zgadza się na wprowadzenie dodatkowego parametru powtarzalności pozycjonowania zgrubnego (stolika pomiarowego), którą definiuje się jako dwukrotność dokładności pozycjonowania? Parametr ten powinien być nie większy niŝ 1 mikrometr.

6 d. Czy Zamawiający zgadza się na wprowadzenie wymogu (lub dodatkowe punktowanie) systemu pozycjonowania precyzyjnego przeznaczonego do skali nano, którego powtarzalność pozycjonowania nie przekraczałaby 100 nm? Pragniemy wyjaśnić, Ŝe punkt 20 w tabeli Załącznika nr 2 do którego odnoszą się omawiane tu pytania jest zatytułowany stolik pomiarowy a nie pozycjonowanie, jak sugeruje oferent. w swoim tekście pkt. a) Rozdzielczość przesuwu oznacza minimalne przemieszczenie stolika pomiarowego pkt. b), c), d) Wprowadzanie innych parametrów stolika pomiarowego niŝ wymienione w specyfikacji i odnoszenie się do szczegółów konstrukcyjnych stolika w procedurze przetargowej, zamawiający uwaŝa za niecelowe. Stolik nie jest głównym przedmiotem zamówienia. Dokładność pozycjonowania moŝna uzyskać przy pomocy wysokiej rozdzielczości stolika pomiarowego, a ta rozdzielczość jest punktowana.. Stąd nie wyraŝamy zgody na proponowane zmiany. Pytanie 15: Punkt 21. Mikroskop sił atomowych a. Czy Zamawiający moŝe określić bardziej wymierny parametr niŝ rozdzielczość skanowania? Opisany w SIWZ parametr to rozdzielczość elektroniczna sterowania skanerem, rzeczywista rozdzielczość zaleŝy od ilości punktów skanowania (zakres / ilość punktów) oraz od promienia sondy (około 1/10 promienia). b. Do jakich badań ma być zastosowany wspomniany mikroskop AFM? Czy mają to być badania topografii wykonanych indentów? c. Czy Zamawiający wymaga aby układ mikroskopu sił atomowych pozwalał na precyzyjne pozycjonowanie indentu z powtarzalnością poniŝej 100 nm? d. Czy Zamawiający dopuszcza zastosowanie równowaŝnego rozwiązania, które wykorzystuje do obrazowania indenter? Dzięki temu zachowując porównywalną rozdzielczość istnieje moŝliwość bardzo dokładnego pozycjonowania indentów (nawet do 10 nm). System taki nie wykorzystuje cantileverów (zmniejszają się koszty eksploatacji) oraz nie wymaga dodatkowej kalibracji ani ustawiania, m.in. układu laser-fotodetektor. W takim przypadku mikroskop siła atomowych wykorzystujący cantilevery będzie dostępny dla oferowanego systemu jako opcja rozbudowy, jednak jak wszystkie tego typu systemy, nie będzie posiadał moŝliwości precyzyjnego pozycjonowania (uzaleŝnienie od zgrubnego pozycjonowania stolikiem). pkt a), c) Podane w Załączniku nr 2 do SIWZ parametry wystarczająco charakteryzują mikroskop sił atomowych (sondy podlegają zuŝyciu i są zmieniane w trakcie eksploatacji ). Ilość punktów skanowania i rozdzielczość to dwa niezaleŝne parametry. Parametry wymienione w w/w załączniku są najczęściej podawane przez producentów co umoŝliwia porównanie ofert.. pkt. b) Mikroskop AFM będzie stosowany do badania topografii powierzchni charakteryzujących się małą chropowatością i do pomiaru wykonanych indentów. pkt. c) nie jest zrozumiałe dla zamawiającego pojęcie układ mikroskopu sił atomowych występujące w pkt. c) w pytaniu nr 15 Oferenta. pkt. d). Z punktu widzenia przeznaczenia przyznanych środków finansowych mikroskop sił atomowych jest integralną częścią zamawianego urządzenia, zakup rozwiązania zastępczego byłby wydaniem posiadanych środków finansowych niezgodnie z przeznaczeniem. Zamawiający nie dopuszcza rozwiązania zastępczego zamiast mikroskopu sił atomowych. Pytanie 16: Punkt 22. Mikroskop optyczny. Czy Zamawiający dopuszcza rozwiązanie posiadające standardowo jeden wymienny obiektyw (np. 20x) oraz realizację zmiennego powiększenia cyfrowo 0,5 x 11 x? Pozwala to na większą swobodę pracy, poprzez płynną zmianę powiększenia. Rozdzielczość w takim rozwiązaniu nie jest w Ŝaden sposób ograniczona, ze względu na zastosowanie wysokorozdzielczej kamery CCD.

7 Zamawiający nie wyraŝa zgody się na zamianę powiększenia optycznego przez powiększenie cyfrowe w oferowanym urządzeniu. Wysokiej klasy obiektywy są potrzebne do uzyskania wysokiej jakości obrazu. Powiększenie cyfrowe moŝna uzyskać przy pomocy darmowych programów do obróbki fotografii. Pytanie 17: Czy zrealizowane dostawy, które naleŝy wykazać jako warunek udział mogą dotyczyć urządzeń zbliŝonych do przedmiotu zamówienia, jak na przykład mikroskopów sił atomowych? Pragniemy zwrócić uwagę iŝ przy tak specyficznym przedmiocie zamówienia wykazanie aŝ 3 takich samych dostaw zrealizowanych przez jednego dostawcę jest praktycznie niemoŝliwe. Aby umoŝliwić uczciwą konkurencję proponujemy albo obniŝenie wymaganych dostaw do 1 lub dopuszczenie dostaw o zbliŝonym zakresie (jak np. zaproponowane mikroskopy sił atomowych). Zamawiający nie zgadza się na proponowane zmiany. UwaŜamy, Ŝe nasze wymagania nie są zbyt wygórowane, jeŝeli weźmiemy pod uwagę dostawy realizowane w skali europejskiej lub światowej. Pytanie 18: W jaki sposób zostanie dokonana ocena metody kompensacji? Zamawiający wspomina w SIWZ o ocenie uznaniowej, która jest niezgodna z ustawą Prawo Zamówień Publicznych. Prosimy o sprecyzowanie warunków oceny metody kompensacji. Wyjaśnienie na temat o oceny metody kompensacji zostało podana w odpowiedzi na pytania innego Oferenta i jest dostępne na stronie internetowej zamawiającego. Wobec niespełnienia warunków zawartych w art. 38 ust. 6 ustawy z dnia 29 stycznia 2004 r. Prawo zamówień publicznych (z późn. zm.) termin składania ofert nie ulega zmianie. Pełnomocnik Dyrektora ds. Administracyjno - Technicznych Andrzej Krawczyk